[发明专利]偏振镜的加工方法及其在偏振敏感的光传感器和起偏显像装置上的应用

权利要求书

1.一种用于加工偏振敏感的具有期望的扩展和定向的滤镜的方法，其特征在于，通过光刻方法在至少一个加工平面和/或布线平面中产生光栅结构，该光栅结构的几何结构和定向事先通过掩膜数据图纸确定，其中优选只使用在设计集成电路时常见的结构参数和加工步骤。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，将铁磁材料用于光刻结构化。

3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，用于偏振的导体电路梳形地布线。

4.如上述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，用于偏振的导体电路的布线使所述导线能够通流热流。

5.一种用于加工偏振敏感的具有期望的扩展和定向的滤镜的方法，其特征在于，在至少一个物理和/或化学影响参数如压力、温度或类似参数的影响下，以相对于载体的给定角度在一个覆漆的载体上涂覆偏振方向给定的偏振物质，其中载体的特定部位例如通过曝光和蚀刻去漆，并且在载体上的偏振物质硬化和/或冷却后通过蚀刻和/或抛光去除仍被覆盖部位的多余偏振材料和/或漆。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，以偏振物质相对于载体的不同方向在载体的不同部位上逐次使用本方法，其中优选以薄漆层保护事先已经制成的偏振部位，所述漆层能够在加工结束时去除。

7.如权利要求5或6所述的方法，其特征在于，为了制造偏振物质将直径大于待滤波波长的透入深度的纳米线嵌入介质中，其中纳米线优选使用铁磁材料。

8.如上述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，使用具有低折射率的材料作为滤镜的导电偏振结构之间的电介质，所述材料被改变成具有更低介电常数的介电材料。

9.如上述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，在制造后通过选择性蚀刻去除偏振镜的部分电介质。

10.一种通过至少一个感应元件测量光偏振的装置，其特征在于，该感应元件与一个偏振镜作为结构单元共同作用地设置成一个偏振敏感的传感器，该传感器的偏振面以给定的角度相对于感应元件的确定基准轴调整，其中借助于标记在所述装置的外壳上使基准轴可识别。

11.一种通过至少一个感应元件测量光偏振的装置，其特征在于，在至少一个加工平面和/或布线平面中具有通过感应元件以光刻方法产生的光栅结构，该光栅的几何结构和定向事先已经通过掩膜数据图纸确定，使偏振敏感的传感器构成结构单元，其中优选只使用在设计集成电路时常见的结构参数并且使用加工集成电路时常见的加工步骤。

12.一种通过至少两个偏振敏感的传感器测量光偏振的装置，其中所述至少两个传感器具有不同的偏振面方向，其中所述传感器中的至少一个如上述权利要求中任一项所述形成，其特征在于，具有从偏振敏感的传感器信号产生关于入射光偏振的结论的装置。

13.优选通过如权利要求1至9中任一项所述方法制成的装置，具有多个偏振敏感的传感器，其特征在于，设置偏振敏感的传感器并使其定向，使它们适合于拍摄具有关于入射光偏振信息的图像。

14.一种装置，优选通过如权利要求1至9中任一项所述方法制成，其特征在于，具有至少一个彩色滤镜。

15.一种装置，优选通过如权利要求1至9中任一项所述方法制成，其特征在于，具有一个偏振的光发射体，其中借助于由该光发射体发射的光的偏振测得偏振的光发射体与偏振敏感的传感器之间的旋转角。

16.一种装置，优选通过如权利要求1至9中任一项所述方法制成，其特征在于，在光发射体与偏振敏感的传感器之间具有一个光发射体和一个可旋转的偏振镜。

17.一种装置，优选通过如权利要求1至9中任一项所述方法制成，其特征在于，使一个光发射体、一个可旋转的偏振镜和一个反射的介质相互间相对设置，使得由发射体发出的光能够在反射介质上反射，所述光通过反射能够进入旋转的偏振镜并且由至少一个偏振敏感的传感器获得。

18.一种装置，优选通过如权利要求1至9中任一项所述方法制成，其特征在于，所述偏振敏感的传感器与用于控制执行机构的和用于对测量信号与理论值进行比较的装置一起相互作用地设置、尤其是集成。