[发明专利]用于实现与材料复合动作的基片及其制备方法和工作设备

权利要求书

1.一种用于实现与材料复合动作的基片，包括：

块状部件-支架，

用于材料的碎片的载物台，

至少一个用于与碎片动作的装置，其中

所述的工作台是薄膜，至少其一部分由一个隔膜提供，

所述的隔膜包括至少一种材料，

其两个表面均为自由面，并且由沿其周边的至少一部分实现与所述块状支架的连接。

2.权利要求1所述的基片，其中所述的薄膜由两种或多种材料所提供。

3.权利要求2所述的基片，其中至少两种所述材料的结构和/或化学成分彼此不同。

4.权利要求1所述的基片，其中它包含至少一个用于形成至少一个碎片并可以后续在任何阶段去除的装置，和/或至少一个用于将所述碎片状态保持在初始状态的装置。

5.权利要求4所述的基片，其中所述用于形成至少一个碎片的装置包含至少一个缓减元件。

6.权利要求6所述的基片，其中至少一个用于将至少一个碎片的状态保持在初始阶段的装置可以是该材料另一个碎片的至少一个薄膜和/或另一种材料碎片的至少一个薄膜。

7.权利要求1所述的基片，其中它包含至少一个用于布置的装置，和/或至少一个用于定位的装置，和/或至少一个在包含至少一个用于与碎片动作的装置的设备/仪器的所述支架中用于固定的装置，至少一个所提到的装置可以与另一个组合。

8.权利要求1所述的基片，其中它具有至少一个用于定位设备/仪器的装置的装置，所述的设备/仪器包含至少一个用于与所述的碎片动作的装置。

9.权利要求1所述的基片，其中它包含至少一个电极和/或至少一个分析装置和/或至少一个转换装置。

10.权利要求1所述的基片，其中它包含至少一个能够确保其放置于传输容器中/上和/或在包含至少一个用于与所述碎片动作的装置的所述的设备/仪器的支架中的装置。

11.权利要求10所述的基片，其中传输容器和/或所述支架包含至少一个用于将所述碎片状态保持在初始状态的装置。

12.权利要求1所述的基片，其中它具有允许至少两个在空间分离的设备实现与所述碎片动作的设计，每个所述设备包含至少一个用于该动作的装置，并且能够达到足以实现与至少低于100nm尺寸的对象进行动作的分辨率。

13.权利要求1所述的基片，其中在其上形成的材料的至少一个碎片用于实现与所述材料的至少一个碎片和/或与另一种材料的至少一个碎片进行复合动作。

14.权利要求1所述的基片，其中在隔膜的正面和/或背面上存在涂层，以确保任一辐射的部分或全反射，和/或该隔膜是导电的。

15.一种设备，包括：

至少一个用于与所述基片动作的装置，

至少一个用于与所述材料碎片动作的装置

其中

它包括与具有根据所述的权利要求1至14设计的所述基片共同工作的支架。

16.一种用于制备所述基片的方法，包括：

制备块状支架，

制备载物台

其中

所述的载物台实现为薄膜，至少其一部分由隔膜提供。

其两个表面均为自由的，并且沿其周边的至少一部分实现与所述块状支架的连接。

17.权利要求16所述的方法，其中使用了包含至少两层其中一层为块状层的复合板片。

18.权利要求16所述的方法，其中所述载物台的形成的至少一个步骤(阶段)和/或其去除是在将材料的一些碎片安置在所述载物台的至少一个部分上之后进行的。

19.一种用于制备至少其一部分包含晶体结构的材料的方法，

其中

至少一个用于可控制的利用重力的装置和/或至少一个可控的用于实现类似重力的装置，用以定向形成材料的至少一个碎片。

20.一种设备，其包括：

至少一个用于与所述基片动作的装置，

至少一个用于与材料的碎片动作的装置

其中

它包含至少一个确保以薄膜的形式定向结晶形成材料的至少一个碎片。