[发明专利]羟烷基－官能化的填料

权利要求书

1.颗粒P1，在它们的表面上具有通式(II)的基团：

[O_1/2SiR³₂-CR⁴₂-O-(CR⁴₂)_b-OH]    (II)

其中

R³和R⁴相同或不同，它们是氢基或单价的、未被取代的或由-CN-、-NCO-、-NR^x₂-、-COOH-、-COOR^X-、-PO(OR^x)₂-、-卤素-、-丙烯酰基-、-环氧基-、-SH-、-OH-或-CONR^X₂-取代的C₁-C₂₀烃基或C₁-C₁₅烃氧基，其中在每个烃氧基中一或多个不相邻的亚甲基单元可以被-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、或-OCOO-、-S-或-NR^x-基团取代，并且其中一或多个不相邻的次甲基单元可以用基团-N＝、-N＝N-或-P＝取代；

R^x是氢基或未被取代的或由-CN-或卤素-取代的C₁-C₁₀烃基；

b是至少1的整数；

2.根据权利要求1所述的颗粒，其特征在于颗粒是包括金属氧化物、更优选二氧化硅、尤其优选热解法二氧化硅的表面-改性的颗粒，表面是由通式II的基团进行改性的。

3.根据权利要求1或2所述的颗粒，其特征在于颗粒具有小于100nm的平均原始粒径、更优选具有5到50纳米的平均原始粒径。

4.根据权利要求1、2或3所述的颗粒，其特征在于颗粒具有10到400m²/g的比表面积。

5.根据权利要求1至4任一项所述的颗粒，其特征在于颗粒具有小于或等于2.8的质量分数维Dm和小于1.5SiOH/nm²的表面硅烷醇基SiOH密度。

6.一种制备权利要求1至5所述颗粒的方法，它是通过使(a)和(b)反应来制备的：

(a)具有一表面的物质颗粒P，该表面具有选自Me-OH、Si-OH、Me-O-Me、Me-O-Si、Si-O-Si、Me-OR¹或Si-OR¹的基团；

(b)具有通式III的化合物和/或它们的水解、醇解或聚合产物，

其中

R³和R⁴是氢原子或单价的、未被取代的或由-CN-、-NCO-、-NR^X₂-、-COOH-、-COOR^X-、-PO(OR^X)₂-、-卤素-、-丙烯酰基-、-环氧基-、-SH-、-OH-或-CONR^X₂-取代的C₁-C₂₀烃基或C₁-C₁₅烃氧基，其中在每个烃氧基中一或多个不相邻的亚甲基单元可以被-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、或-OCOO-、-S-或-NR^x-基团取代，并且其中一或多个不相邻的次甲基单元可以用基团-N＝、-N＝N-或-P＝取代；

R^x是氢或未被取代的或由-CN-或卤素-取代的C₁-C₁₀烃基；

b是至少1的整数；

n是0或整数。

7.根据权利要求6的方法，其特征在于所使用的通式III的化合物是通式IV的化合物

其中

R³、R⁴和b如上定义。

8.根据权利要求6或7所述的方法，其特征在于颗粒P是具有表面分数维小于或等于2.3、更优选小于或等于2.1、尤其优选1.95到2.05的热解法二氧化硅。