[实用新型]适用于玻璃基板的光阻清除设备

说明书

技术领域

本实用新型是关于一种光阻清除设备，特别是关于一种适用于玻璃基板的光阻清除设备。

背景技术

在液晶显示器的薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)制程中，去光阻制程是将定义出元件的光阻利用溶剂去除，例如：乙醇胺(MEA)、BDG、NMP等，基板在经过溶剂清洗后再用异丙醇(IPO)或者二甲基亚枫(DMSO)做水洗前置换清洗(Inter-mediaRinse)，再经水洗、干燥，来完成去光阻制程。

图1是传统适用于玻璃基板的光阻清除设备示意图。传统的光阻清除设备一般有多个反应室前后串连在一起，分别进行溶剂清洗、前置换清洗、水洗、烘干等动作，因各反应室的基本结构相似，为简化图标，图1仅以一个反应室作说明。

如图1所示，传统光阻清除设备10的反应室11具有一入口12及一出口13，反应室11内设置有一传送机构14、多个喷嘴15及风刀16a，16b。传送机构14用于带动玻璃基板5由入口12进入，经反应室11再由出口13送出。喷嘴15分布于反应室11的入口12与出口13之间，并与厂务的清洗液供应管路17连接，可将经加压泵18加压的溶剂或水直接喷洒于玻璃基板5上，以去除玻璃基板5上的光阻或微粒。风刀16a，16b设置在反应室11内侧，入口12及出口13的上方及下方，并与厂务供气管路19相连，当玻璃基板5通过入口12及出口13时，由厂务供气管路19所提供的洁净空气(Clean Dry Air，CDA)，先经减压装置20调整至适当压力，再经风刀16a，16b吹向玻璃基板5的正反两面，以刮除溶剂或水，防止光阻清除设备10的各反应室11间不同的清洗液相互污染，或是清洗液蒸气逸散到环境中。

为了避免清洗液残留在玻璃基板上，对后续制程造成影响，厂务系统需提供大量的洁净空气，使风刀16a，16b保持一定的出口压力。同时，光阻清除设备10的反应室11内壁另具有一排气口21，排气口21经排气管路22与厂务系统的排气泵23连通，用于将反应室11内的空气抽出，并排出至大气。

此外，为了避免清洗液蒸气外泄，危害工作人员，排气泵23的排气量必须大于风刀16a，16b吹出的洁净空气的总量，使光阻清除设备10的反应室11内保持一定的负压状态。因此，排气泵23的负载非常沉重，造成厂务运转成本增加。

实用新型内容

为了解决现有技术光阻清除设备反应室中排气泵负载过重，厂务运转成本过大的问题，有必要提供一种可降低洁净空气使用量以及厂务运转成本的光阻清除设备。

一种适用于玻璃基板的光阻清除设备，该光阻清除设备包括一反应室、一传送机构及一空气内循环系统。该反应室具有一入口、一出口及一吸气口；该传送机构设置在该反应室中，用于带动玻璃基板由入口进入，经反应室再由出口送出。该空气内循环系统包括多个风刀及一抽气泵，该多个风刀设置在该反应室的内侧入口及出口的上方及下方，该抽气泵与该反应室的吸气口及风刀连通，用于将反应室内的空气抽出，再经风刀送入反应室中，吹向传送中的玻璃基板。

该光阻清除设备另具有多个喷洒头，设置在该反应室的入口与出口之间，用于将溶剂喷洒在玻璃基板表面，以去除玻璃基板上的光阻。

在一较佳实施例中，吸气口设置在该反应室上方，较接近出口的一侧。该光阻清除设备进一步包括一供气单元及一排气单元，可将过滤过的外界空气送入反应室中，或是将反应室内的空气排出。

另一种适用于玻璃基板的光阻清除设备，该光阻清除设备包括多个反应室、传送机构及空气内循环系统。该反应室分别具有一入口、一出口及一吸气口，各反应室相互串联排列，使一反应室的出口与下一反应室的入口相连通；传送机构设置在各反应室中，用于传送玻璃基板通过各反应室；多个风刀分别设置在各反应室的内侧入口及出口的上方及下方；以及多个抽气泵，分别与各反应室的吸气口及风刀连通，用于将反应室内的空气抽出，再经风刀送入反应室中，吹向传送中的玻璃基板。

在一较佳实施例中，光阻清除设备进一步包括多个喷洒头，设置在各反应室入口与出口之间，用于将溶剂或水喷洒于玻璃基板表面。

其次，吸气口设置在各反应室上方，较接近出口的一侧。光阻清除设备更包括一供气单元及一排气单元，可将过滤过的外界空气送入反应室中，或是将反应室内的空气排出。

上述光阻清除设备利用空气内循环系统，将反应室内的空气抽出，作为风刀的空气源，因此可大幅降低厂务洁净空气的使用量。此外，排气单元抽气的负压力即为反应室的负压力，因此亦可大幅减轻排气单元的负载，降低厂务运转成本。