[实用新型]适用于玻璃基板的光阻清除设备

权利要求书

1.一种适用于一玻璃基板的光阻清除设备，其包括：

一反应室，该反应室具有一入口、一出口及一吸气口；

一传送机构，该传送机构设置在该反应室中，用于带动玻璃基板由入口进入，经反应室再由出口送出；

多个风刀，该多个风刀设置在该反应室的内侧入口及出口的上方及下方；

一抽气泵，该抽气泵与该反应室的吸气口及风刀连通，用于将该反应室内的空气抽出，再经风刀送入该反应室中，吹向传送中的玻璃基板。

2.如权利要求1所述的光阻清除设备，其特征在于：进一步包括多个喷洒头，该多个喷洒头设置在该反应室的入口与出口之间，用于将溶剂喷洒在玻璃基板表面。

3.如权利要求1所述的光阻清除设备，其特征在于：该吸气口设置在该反应室上方，较接近出口的一侧。

4.如权利要求1所述的光阻清除设备，其特征在于：进一步包括一排气单元，该排气单元与该反应室连通，用于将该反应室内的空气排出。

5.如权利要求1所述的光阻清除设备，其特征在于：进一步包括一供气单元，该供气单元与该反应室连通，用于将空气送入该反应室中。

6.一种适用于玻璃基板的光阻清除设备，包括：

多个反应室，该多个反应室分别具有一入口、一出口及一吸气口，各反应室相互串联排列，使一反应室的出口与下一反应室的入口相连通；

一传送机构，该传送机构设置在各反应室中，用于传送玻璃基板通过各反应室；

多个风刀，该多个风刀分别设置在各反应室的内侧入口及出口的上方及下方；

以及多个抽气泵，该多个抽气泵分别与各反应室的吸气口及风刀连通，用于将反应室内的空气抽出，再经风刀送入反应室中，吹向传送中的玻璃基板。

7.如权利要求6所述的光阻清除设备，其特征在于：进一步包括多个喷洒头，该多个喷洒头设置在反应室的入口与出口之间，用于将溶剂或水喷洒于玻璃基板表面。

8.如权利要求6所述的光阻清除设备，其特征在于：该吸气口设置在各反应室的上方，较接近出口的一侧。

9.如权利要求6所述的光阻清除设备，其特征在于：进一步包括一供气单元，该供气单元与各反应室连通，用于将空气送入反应室中。

10.如权利要求6所述的光阻清除设备，其特征在于：进一步包括一排气单元，该排气单元与各反应室连通，用于将反应室内的空气排出。