[发明专利]调节液晶显示装置中的液晶量的方法

说明书

技术领域

本发明涉及调节液晶显示(LCD)装置中的液晶量的方法，更具体地说，涉及一种用于精确地控制过量注入液晶的调节LCD装置中的液晶量的方法。

背景技术

可快速处理大量数据的信息处理装置以及将经过该信息处理装置处理的数据显示为图像的显示装置处于快速发展之中。

LCD装置是最具代表性的显示装置。LCD装置利用液晶显示图像。液晶在施加电场时改变其分子排列(电行为)，并根据其分子排列以不同的透光率(透射率)透射光(光行为)。

为利用液晶显示图像，LCD装置包括控制液晶分子的排列或配向的液晶控制部、以及向该液晶控制部提供光的光提供部。

所述液晶控制部包括一对相互面对的基板和形成在这些基板之间的液晶层。基板产生用以驱动液晶层的电场。通常，液晶层的厚度非常薄，约为几微米。

所述薄液晶层是通过真空注入方式、滴注方式等形成在基板之间的。

在真空注入方式中，在基板间形成真空，然后在基板间注入液晶。在滴注方式中，将液晶滴在一个基板上，然后另一基板接合到滴有液晶的基板上。

然而，当在基板间没有充分注入液晶时，在基板间会形成空隙(void)。在此情况下，在空隙处不能显示图像。

另一方面，当在基板间过量注入液晶时，在LCD装置竖立放置时，液晶因重力而向下移动。在此情况下，在LCD装置的下部不能适当地显示图像。

发明内容

因此，本发明致力于一种用于调节LCD装置中的液晶量的方法，其本质上消除了由于现有技术的局限和缺点导致的一个或更多个问题。

本发明的目的是提供一种用于调节LCD装置中的液晶量的方法，用以有效地控制过量注入的液晶。

本发明的其他优点、目的和特征将部分地在以下说明中得以阐述，部分地对于本领域普通技术人员在考察以下内容时变得显而易见，或者可以从对本发明的实践而习得。通过在文字说明及其权利要求以及附图中具体指出的结构，可以实现和获得本发明的这些目的以及其他优点。

为了实现这些目的和其他优点并且根据本发明的目的，如在此具体实施和概括描述地，提供了一种用于调节液晶显示(LCD)装置中的液晶量的方法，该方法包括以下步骤：将液晶注入到液晶容纳空间中，所述液晶容纳空间是通过第一基板、面对所述第一基板的第二基板、以及介于所述第一基板与所述第二基板之间的密封件而形成的；减小所述密封件在其预定部分处的厚度以形成修补区域；对液晶施压以使所述修补区域处的密封件破裂，从而从所述液晶容纳空间排出一些液晶，以调节液晶量；以及，重新密封所述密封件的破裂的修补区域，其中，减小厚度的步骤包括以下步骤：加热在所述密封件下面与所述密封件交叠的金属图案；和通过加热的金属图案烧掉所述密封件的与所述金属图案交叠的部分。

应当理解，对本发明的以上一般性说明和以下详细说明都是示例性和说明性的，旨在提供对如权利要求所述的本发明的进一步说明。

附图说明

附图被包括进来以提供对本发明的进一步理解，并且被并入且构成本申请的一部分，附图例示了本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。在附图中：

图1是用于说明根据本发明第一实施例的调节LCD装置中的液晶量的方法的流程图；

图2是用于例示应用了图1中的方法的LCD装置的截面图；

图3是用于例示在图2的LCD装置中的金属图案和密封件的排列的局部截面图。

图4是用于例示通过使用激光束去除图3中所描述的密封件与金属图案间的交叠区域的图。

图5是用于例示密封件的修补区域的平面图；

图6是用于例示重新密封图5中所描述的密封件的破裂修补区域的截面图；

图7是用于例示根据本发明第二实施例的掩模和密封件的平面图；

图8是用于例示图7中所描述的掩模和密封件的立体图；

图9是用于例示使用掩模形成修补区域的工艺的截面图；

图10是用于例示形成在密封件上的修补区域的平面图；以及

图11是用于例示重新密封修补区域的截面图。

具体实施方式