[发明专利]一种高防污瓷砖及其制造方法无效
申请号: | 200610138773.1 | 申请日: | 2006-11-15 |
公开(公告)号: | CN101186489A | 公开(公告)日: | 2008-05-28 |
发明(设计)人: | 霍炳祥 | 申请(专利权)人: | 霍炳祥 |
主分类号: | C04B35/14 | 分类号: | C04B35/14;C04B35/04;C04B35/622 |
代理公司: | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 周春发 |
地址: | 528222广东省佛山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 防污 瓷砖 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种建筑装饰材料及其制造方法,特别涉及一种高防污瓷砖及其制造方法。
背景技术
随着社会的发展,生活水平的提高,人们对物质的追求也越来越趋向高档化、精致化。放眼当今的装潢市场,特别是主要用于装修地面的地砖市场,抛光砖倍受青睐,但目前市场上的抛光砖产品多数存在着容易吸污、防污性能差的弱点,严重影响装修的使用效果,所以市场对各企业的产品提出了更高的要求。促使企业急需解决抛光砖的防污问题,市场需要抗折强度高、吸水率低、热稳定性好、显微结构致密、防污性能好的产品。
众所周知,影响抛光砖防污性能的原因很多,其中最主要的原因有两个,其一是产品的开口和闭口气孔的数量、大小以及气孔的连接状况;其二是抛光过程中的微裂纹的扩展与增加。针对上述两种原因,从设备选用到原料选用及工艺设计,提高抛光砖防污性能就是最重要的一项硬指标。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的缺陷,提供一种抗折强度高、吸水率低、热稳定性好、显微结构致密、防污性能好的高防污瓷砖。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的:
一种高防污瓷砖,所述高防污瓷砖主要原料各组分的重量百分比为:SiO2 25~75%,AL2O3 15~23%,K2O+Na2O 3~16%,Fe2O3+TiO2 0.5~1.5%,MgO 5~30%,CaO 0~10%。
一种高防污瓷砖的制造方法,所述制造方法工艺流程如下:选矿→进料→均化仓→使用仓→检验→配料→球磨→过筛除铁→浆料陈腐均化→喷雾干燥→进仓陈腐→冲压成型→干燥→印花→烧成→抛光→检验→包装→进仓→发货。
所述球磨釉浆细度重量百分比为320目:0.8~1.2%;325目0.15~0.55%。
所述浆料过筛:第一道放浆时过10目;第二道中转时过70目;第三道喷粉前过90~100目双层。
所述成型压力:400kgf/cm2。
所述球磨浆细度重量百分比为250目:1.2~1.5%,球磨时间9小时。
所述球磨浆细度重量百分比为250目:1.0~1.2%,球磨时间10.5小时。
所述球磨浆细度重量百分比为250目:0.8~1.0%,球磨时间12小时。
所述球磨浆细度重量百分比为250目:0.6~0.8%,球磨时间13小时。
所述球磨釉浆比重为1.8~1.9g/cm3。
所述烧成温度为1050~1225℃。
所述烧成周期为80~90分钟。
本发明采用上述技术方案后可达到如下有益效果:
1、适用范围广。本发明可适用于内外墙、地面装饰及任何有需要的环境。
2、致密度高。本发明为了提高砖坯致密度,采用细粒子(30目:<3%,40目:20%~25%,60目:70~75%,80目:>98%),高压力(420kgf/cm2),慢冲压制度(5.5次/分),等静压成型,在模具的上膜芯内充入一定压力的液压油,利用静止流体能够全方位等压传递的原理,压制时粉料的反作用力作用在上膜芯的弹性胶面上。如果膜腔上布料密度不均匀,弹性胶面就产生不同程度的凹凸变形,使各部位粉料所受压力达到均匀,从而得到强度一致和致密度高的坯体,本发明采用压机均为5000吨以上进口压机,成形压力以渐增的方式缓慢施加,使得生坯达到足够的抗折强度和致密度。
3、产品性能好。本发明的性能参数优于现有技术,其吸水率≤0.03~0.05%,抗压能力≥45MPa。
4、工艺流程合理。本发明中为了更有利于坯体中的气体排出和玻璃体的填孔作用,在烧成时严格控制烧成制度和升温曲线,烧成周期控制在80~90分钟内,并且适当延长1050~1150□间的温度区,目的是降低气孔率,提高致密度。冷却温度对产品的防污性能也有较大的影响,因为冷却时石英的晶型转变会产生较大的应力而导致微裂纹的出现和扩展。采用了较合理的冷却制度促进微晶粒的生成,确保产品的防污性能。
5、降低了成本。本发明较国外进口产品,性能参数相同,但其成本却可降低50%左右,使成本大辐度降低,增强了产品的市场竞争力。
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