[发明专利]具有高光泽涂料层的熔凝元件无效
申请号: | 200610087812.X | 申请日: | 2006-05-26 |
公开(公告)号: | CN101078903A | 公开(公告)日: | 2007-11-28 |
发明(设计)人: | P·J·芬 | 申请(专利权)人: | 施乐公司 |
主分类号: | G03G15/20 | 分类号: | G03G15/20;G03G15/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 郭广迅;林森 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 光泽 涂料 元件 | ||
1.一种用于将显影的图像定影到复印衬底的熔凝元件,包括:
衬底;和
在衬底上包括卤代弹性体和填料粒子的外涂层,其中所述填料粒子的粒度小于约3微米且根据莫氏硬度指标的硬度为至少约3。
2.根据权利要求1的熔凝元件,其中所述填料粒子的粒度小于约1微米。
3.根据权利要求1的熔凝元件,其中所述填料粒子的粒度小于约0.5微米。
4.根据权利要求1的熔凝元件,其中所述填料粒子根据莫氏硬度指标的硬度为至少约4。
5.根据权利要求1的熔凝元件,其中所述卤代弹性体包括选自如下的含氟弹性体:a)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯的共聚物,b)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯的三元共聚物,c)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯及硫化部位单体的四元共聚物,d)体积允许的含氟弹性体及其组合。
6.根据权利要求1的熔凝元件,其中所述填料粒子选自二氧化硅、氧化铝、氮化硼、氮化铝、碳化硼、碳化硅、碳化钨、氧化铝、锐钛矿二氧化钛、金红石二氧化钛、氧化锌及其组合。
7.根据权利要求1的熔凝元件,其中所述填料粒子在所述外层中存在的数量为约2-约30vol%。
8.根据权利要求1的熔凝元件,进一步包括位于所述衬底和所述外层之间的中间层。
9.一种用于将显影的图像定影到复印衬底的熔凝元件,包括:
衬底;和
在衬底上包括含氟弹性体和填料的外层,其中所述填料的粒度小于约0.3微米且根据莫氏硬度指标的粒子硬度为至少约3。
10.一种在记录介质上形成图像的成像设备,包括:
在其上接收静电潜像的电荷保留表面;
施加调色剂到所述电荷保留表面以显影静电潜像以在所述电荷保留表面上形成显影的图像的显影组件;
从所述电荷保留表面将显影的图像转印到复印衬底的转印膜组件;和
将调色剂图像熔凝到所述复印衬底表面的熔凝组件,该熔凝组件包括:
衬底;和
在衬底上包括含氟弹性体和填料粒子的外层,
其中所述填料粒子的粒度小于约3微米且根据莫氏硬度指标的粒子硬度大于约3。
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