[发明专利]光记录介质无效
| 申请号: | 200610071525.X | 申请日: | 2002-06-12 |
| 公开(公告)号: | CN101118754A | 公开(公告)日: | 2008-02-06 |
| 发明(设计)人: | 中山比吕史;竹内厚;有马光雄 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
| 主分类号: | G11B7/007 | 分类号: | G11B7/007;G11B7/24 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 马高平;杨梧 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 记录 介质 | ||
本申请是发明名称为“光记录介质”、申请号为02812301.8、申请日为2002年6月12日的发明专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种用于使用激光束记录和再现数据的光记录介质,更具体地讲,涉及这样一种光记录介质,在其中,地址区域在径向间隔分布,通过一种被称之为分区法的技术,光盘的存储容量得到改进。
背景技术
为了通过有效使用光盘上的记录区增加存储容量,迄今一直使用一种被称为分区法的方法。在这种方法中,用于记录和再现数据的基准记录频率对例如以恒定的角速度旋转的光盘上的每个半径进行转换以使整个光盘表面具有基本相同的记录密度。
例如,在ISO/IEC14517(130mm4x),ISO/IEC15286(130Mm8x),ISO/IEC15041(90mm5x)或者类似磁光ISO标准的磁光盘中,通过使用这种方法光盘存储容量得到了提高。
也就是,如图1所示,数据记录和再现区域在径向被分成许多区。因为在这些区中记录和再现数据的频率都各不相同,所以每一圈的扇区数目是变化的。因此,一个地址区部分地显示出附图标记1a所示的每一条半径的放射状。
此外,在磁光记录光盘中,在提供给用户之前,将记录膜的磁化方向设置为规定的方向。也就是说,执行了被称为极化的操作,对于盘片施加大于记录层矫顽力的静磁场,强迫记录层的磁化方向对准消磁方向。,
通常,当被极化的记录层具有低于0.8×106A.m(A.m是磁场强度的国际单位)的矫顽力时,记录层可以用低强度的磁场,比如磁石,极化。然而,当具有不低于1.19x106到1.59x106A.m矫顽力的记录层被极化时,记录层的温度上升,导致矫顽力降低。为了极化记录层,应使用不高于0.8x106A.m的低强度的静磁场。
此外,对相变型光盘,在提供给用户之前,要对光盘施加晶化记录膜整个表面的操作。也就是,记录膜的温度上升到规定的温度,或者更高,然后逐渐冷却记录膜。这样,光盘被初始化,从一个被称为Ad-depo的状态,即记录膜形成后的晶体和无定形的混合态,到完全晶体化状态。
在这样一个初始化过程中,为了极化并晶化记录膜,具有很宽范围,比如好几百个轨道的记录膜的温度同时升高。这种方法被称为整体擦除。在整体擦除方法中,一个1到2瓦的半导体激光器被限制为在光盘的径向具有主轴的尺寸为10μm或者更长的椭圆光束。旋转的盘片被激光照射,激光束仅聚焦于记录膜,用来提升记录膜的温度。
以上描述的激光束如图2所示设计,将从激光器5发出的一输出光束从旋转光盘的阅读表面6穿过树脂基片7聚焦到记录膜8上。
上述整体擦除方法不仅有初始化记录层的目的,而且具有通过预先取得在介质重复使用中产生的再现灵敏度或者记录灵敏度,在用户使用介质的过程中抑制灵敏性变化(灵敏性偏移)的效果.之所以认为这个操作应该进行,是因为对记录膜施加热能,以便预先松弛非晶形的记录层中的原子并稳定记录膜.
作为整体擦除的参数,可以列举出旋转速度或者盘片的线速度,激光斑点的径向进给量,激光功率,激光束的宽度等等。这些参数可以很容易被控制,以便通过设置合适的整体擦除条件,可以以稳定的方式产生极化或者初始化,以及灵敏性移动。因此,整体擦除方法是很有效的。
为了进行灵敏性移动和极化,当本发明的发明者对一个磁光记录介质运行一项整体擦除的测试时,他们发现了下面的问题。具体地讲,对光盘进行了充分产生规定灵敏性移动的整体擦除处理。对在径向被分区的和具有由分别在图1所示的区中在径向设置的压刻凹坑所表达的地址的光盘施加整体擦除处理以便充分产生规定灵敏性移动。而后,他们在区的边界处观测到跟踪误差。因而,分辨出存在一个跟踪误差增加的区域,如图3的信号波形所示。
图3示出,其整个表面经过整体擦除处理的光盘上从区边界算起的10个轨道的一个位置中的一个地址信号和一个跟踪误差信号之间的的关系。(a)表示地址信号,(b)表示跟踪误差信号,(c)表示地址信号(a)中区域的F放大的部分,(d)表示跟踪误差信号(b)中区域F的放大的部分。此外,在图中,E表示轨道跳跃信号,G表示区域F中放大的地址,H表示跟踪误差增加的部分。
在图3的测量条件中包括:线速度(CLV)为7.5m/s,激光功率为1.5mW,盘片直径为86mm,测量位置R为40mm,以及一个其上施加了跟踪的沟槽间平面部分。
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