[发明专利]单取代的方形酸金属络合物染料以及其在用于光学数据记录的光学层中的应用无效

专利信息
申请号: 200580039678.X 申请日: 2005-11-04
公开(公告)号: CN101073115A 公开(公告)日: 2007-11-14
发明(设计)人: A·韦斯 申请(专利权)人: 克莱里安特财务(BVI)有限公司
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;C07F19/00;C07F15/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王颖煜;李炳爱
地址: 英国英属*** 国省代码: 英国;GB
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 取代 方形 金属 络合物 染料 及其 用于 光学 数据 记录 中的 应用
【权利要求书】:

1.一种式(I)的染料化合物或其一种互变异构形式,

其中

X表示去质子化的羟基(-OH)、硫醇(-SH)或胺(NHR1),其中R1表示氢、C1-12烷基(未取代或者被以下基团取代:羟基(-OH)、C6-12芳基、卤素、-NR9R10′,其中R9和R10独立地为氢、C1-12烷基或C6-12芳基)、苄基或C6-12芳基;

Y表示氧、硫或亚胺-氮N-R2,其中R2表示氢、C1-12烷基(未取代或者被以下基团取代:羟基(-OH)、C6-12芳基、卤素、-NR′R″,其中R′和R″独立地为氢、C1-12烷基或C6-12芳基)、苄基或C6-12芳基;

z表示-2到+2的电荷;

An-表示选自以下的阴离子配对物:无机阴离子,例如碘、氟、溴、氯、高氯酸盐、六氟锑酸盐、六氟磷酸盐、四氟硼酸盐、四苯基硼酸盐,或有机阴离子,例如二氰基酰胺(N(CN)2)或者三氟甲磺酰亚胺(N(SO3CF3)2);或An-还可为阴离子偶氮金属络合物,

M表示金属离子;

A为五元或六元芳香或杂芳香环,其可被进一步取代或退火,

n表示1-4的整数。

2.根据权利要求1的式(I)所示染料化合物,其中

X表示去质子化的羟基(-OH)或硫醇(-SH);

Y表示氧或硫;

z表示0到+1的电荷;

An-表示选自以下的阴离子配对物:无机阴离子,例如氯、高氯酸盐、六氟锑酸盐、六氟磷酸盐、四氟硼酸盐、四苯基硼酸盐,或有机阴离子,例如二氰基酰胺(N(CN)2)或者三氟甲磺酰亚胺(N(SO3CF3)2);或

An-还可为阴离子偶氮金属络合物,

M表示金属离子,选自Ca,Sr,Ba,Al,Ga,In,Sc,Y,Ti,Zr,V,Nb,Ta,Cr,Mo,W,Mn,Fe,Ru,Os,Co,Rh,Ir,Ni,Pd,Pt,Cu,Ag,Au,Zn,Cd,Hg,La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu;

n表示1-4的整数

选择A以形成以下基团中的一种或其互变异构形式的一种:

其中

R3和R4彼此独立地表示氢;C1-8烷基,其中所述烷基可未取代或者被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR9R10取代,其中R9和R10独立地为氢、C1-8烷基或C6-12芳基;CX3,其中X可为氯、氟、溴;C6-12芳基,其可未取代或者被C1-8烷基、羟基(-OH)、硝基(-NO2)、氰基(-CN)、卤素、C6-12芳基、-NR9R10或者C1-C8烷氧基(-OR)取代,其中R9和R10独立地为氢、C1-8烷基或C6-12芳基;

R5-R8各自独立地表示氢、氰基(-CN)、卤素、硝基(-NO2)、羟基、直链或支链C1-8烷氧基(-OR),其中烷基(R)未取代或者被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR9R10取代,其中R9和R10独立地为氢、C1-8烷基或C6-12芳基;氨基(NR9R10),其中R9和R10独立地为氢、C1-8烷基或C6-12芳基,或者其中R9和R10可形成可含有其它杂原子的五元或六元环;直链或支链C1-8烷基,其中烷基可未取代或者被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR9R10取代,其中R9和R10独立地为氢、C1-8烷基或C6-12芳基;CX3,其中X可为氯、氟、溴;直链或支链C1-8烷硫基,其中烷基未取代或者被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR9R10取代,其中R9和R10独立地为氢、C1-8烷基或C6-12芳基;C6-C12芳基,其未取代或者被C1-8烷基、羟基(-OH)、硝基(-NO2)、氰基(-CN)、卤素、C6-12芳基、-NR9R10或者C1-C8烷氧基(-OR)取代,其中R9和R10独立地为氢、C1-8烷基或C6-12芳基。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于克莱里安特财务(BVI)有限公司,未经克莱里安特财务(BVI)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200580039678.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top