[发明专利]用于校准电磁测量装置的方法和设备

权利要求书

1.一种被构造用来测量与基底关联的电磁辐射响应特性的自校准设备，所述设备包括：

电磁源；

电磁捕获装置；

与电磁源相距第一距离而被机械固定的一个或多个校准基准；

与电磁源相距第二距离而被机械固定的人体对位装置，所述第一距离不同于第二距离；

挡住校准基准而被机械固定的衰减滤光器；和

可操作地连接到电磁源和电磁捕获装置的计算装置，所述计算装置被构造用来使得电磁源产生电磁波，所述计算装置被构造用来从电磁捕获装置接收电子信息。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述第一距离和第二距离限定某个比率，并且与衰减滤光器关联的衰减百分比与所述比率相关。

3.如权利要求1或2所述的设备，所述设备还包括设置在电磁源和基底之间的第一偏振滤光器，所述第一偏振滤光器具有第一光轴。

4.如权利要求1至3中任一项所述的设备，所述设备还包括设置在基底和电磁捕获装置之间的第二偏振滤光器，所述第二偏振滤光器具有第二光轴，所述第一光轴非平行于第二光轴。

5.如权利要求1至4中任一项所述的设备，其中所述第一光轴与第二光轴形成角度，所述角度介于80度和100度之间。

6.如权利要求1至5中任一项所述的设备，其中所述电磁源包括至少一个氙闪光灯、至少一个环形闪光，或选自由下列源组成的组中的源：红外源、紫外源、以及它们的组合。

7.如权利要求1至6中任一项所述的设备，所述设备还包括电连接到电磁源的消波电路。

8.如权利要求1至7中任一项所述的设备，其中所述电磁捕获装置包括电荷耦合装置、CMOS装置和线性光电二极管阵列中的至少一个。

9.如权利要求1至8中任一项所述的设备，其中所述人体对位装置有利于人的面部的一部分相对于电磁捕获装置的定位。

10.如权利要求1至9中任一项所述的设备，其中所述衰减滤光器包括中性密度滤光器。

11.一种在电磁测量系统中关联一个或多个校准基准和基底的方法，所述方法包括以下步骤：

提供电磁源；

提供电磁捕获装置；

与电磁源相距第一距离而机械固定校准基准；

与电磁源相距第二距离而机械固定人体对位装置，所述第一距离不同于第二距离，所述第一距离和第二距离限定某个比率；

根据比率选择衰减滤光器百分比；和

挡住校准基准而机械固定衰减滤光器。