[发明专利]产生具有光学邻近校正特征的掩模的方法和器件制造方法有效
| 申请号： | 200510116534.1 | 申请日： | 2005-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN1800987A | 公开（公告）日： | 2006-07-12 |
| 发明（设计）人： | D·范登布罗克;J·F·陈 | 申请（专利权）人： | ASML蒙片工具有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/207 | 分类号： | G03F7/207;H01L21/00;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘杰 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 产生 具有 光学 邻近 校正 特征 方法 器件 制造 | ||
【权利要求书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML蒙片工具有限公司，未经ASML蒙片工具有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200510116534.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
