[发明专利]利用一非对称光限制孔控制偏振的VCSELS无效
申请号: | 02141211.1 | 申请日: | 2002-07-03 |
公开(公告)号: | CN1395344A | 公开(公告)日: | 2003-02-05 |
发明(设计)人: | 托马斯·阿格斯坦 | 申请(专利权)人: | 扎尔林克半导体有限公司 |
主分类号: | H01S5/183 | 分类号: | H01S5/183;H01S5/06 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 吴磊 |
地址: | 瑞典*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 对称 限制 控制 偏振 vcsels | ||
1、一种垂直腔表面发射激光器(VCSEL)包括:
一个底部镜面结构;
一个顶部镜面结构;
一个夹在顶部镜面结构和底部镜面结构之间的有源层;
与顶部镜面结构和底部镜面结构连接的电接触层;和
和在顶部镜面结构中限制从VCSEL到一非对称路径的光输出的限制装置。
2、如权利要求1所述的VCSEL,其中,所述限制装置是在顶部镜面中的多个蚀刻孔。
3、如权利要求2所述的VCSEL,其中,具有离子注入电限制孔以限制所述电限制层之间的电流。
4、如权利要求3所述的VCSEL,其中,所述底部镜面结构是一个n-掺杂分布布拉格反射器,并且所述顶部镜面结构是一个p-掺杂分布布拉格反射器。
5、如权利要求3所述的VCSEL,其中,所述底部镜面结构是一个p-掺杂分布布拉格反射器,并且所述顶部镜面结构是一个n-掺杂分布布拉格反射器。
6、如权利要求4所述的VCSEL,其中,所述有源层等于m×λ/2,这里m是整数。
7、如权利要求4所述的VCSEL,其中,所述有源层是一个波长长,缓变折射率分别限制异质结,多层量子阱结构。
8、如上述任一权利要求所述的VCSEL,其中,顶部和底部镜面由具有折射率高和低交替层的布拉格反射器构成,其中所述每一层的长度等于λ/4+n×λ/2,这里n是整数。
9、如权利要求5所述的VCSEL,其中,所述顶部和底部镜面由折射率高和低交替的四分之一波长层构成。
10、如权利要求6所述的VCSEL,其中,所述有源层包括一个AlGaAs/GaAs结构和所述镜面包括AlGaAs层。
11、如上述任一权利要求所述的VCSEL,其中,所述顶部镜面至少包括一氧化材料层。
12、如权利要求11所述的VCSEL,其中,所述氧化层包括具有比其余的镜面Al浓度高的AlGaAs层。
13、一种用于偏振控制的垂直腔表面发射激光器(VCSEL)的制作方法,所述方法包括:
提供一个VCSEL,所述VCSEL具有一个底部镜面结构;一个顶部镜面结构;一个夹在顶部镜面结构和底部镜面结构之间的有源层;和与顶部镜面结构和底部镜面结构连接的电接触层;和
在顶部镜面结构中制成限制从VCSEL到一非对称路径的光输出的限制装置。
14、如权利要求13所述的方法,其中,所述顶部镜面结构包括一氧化材料层。
15、如权利要求14所述的方法,其中,所述限制装置由在顶部镜面结构中以预定图案蚀刻多个孔制成。
16、如权利要求15所述的方法,其中,所述孔被向下蚀刻至少到所述氧化层。
17、如权利要求16所述的方法,其中,在蒸汽处理中暴露所述孔的步骤,因此选择地氧化所述氧化层。
18、如权利要求15所述的方法,其中,所述孔是在圆形图案中。
19、如权利要求15所述的方法,其中,所述孔是在椭圆形图案中。
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