[发明专利]利用一非对称光限制孔控制偏振的VCSELS无效

专利信息
申请号: 02141211.1 申请日: 2002-07-03
公开(公告)号: CN1395344A 公开(公告)日: 2003-02-05
发明(设计)人: 托马斯·阿格斯坦 申请(专利权)人: 扎尔林克半导体有限公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/06
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 吴磊
地址: 瑞典*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 利用 对称 限制 控制 偏振 vcsels
【权利要求书】:

1、一种垂直腔表面发射激光器(VCSEL)包括:

一个底部镜面结构;

一个顶部镜面结构;

一个夹在顶部镜面结构和底部镜面结构之间的有源层;

与顶部镜面结构和底部镜面结构连接的电接触层;和

和在顶部镜面结构中限制从VCSEL到一非对称路径的光输出的限制装置。

2、如权利要求1所述的VCSEL,其中,所述限制装置是在顶部镜面中的多个蚀刻孔。

3、如权利要求2所述的VCSEL,其中,具有离子注入电限制孔以限制所述电限制层之间的电流。

4、如权利要求3所述的VCSEL,其中,所述底部镜面结构是一个n-掺杂分布布拉格反射器,并且所述顶部镜面结构是一个p-掺杂分布布拉格反射器。

5、如权利要求3所述的VCSEL,其中,所述底部镜面结构是一个p-掺杂分布布拉格反射器,并且所述顶部镜面结构是一个n-掺杂分布布拉格反射器。

6、如权利要求4所述的VCSEL,其中,所述有源层等于m×λ/2,这里m是整数。

7、如权利要求4所述的VCSEL,其中,所述有源层是一个波长长,缓变折射率分别限制异质结,多层量子阱结构。

8、如上述任一权利要求所述的VCSEL,其中,顶部和底部镜面由具有折射率高和低交替层的布拉格反射器构成,其中所述每一层的长度等于λ/4+n×λ/2,这里n是整数。

9、如权利要求5所述的VCSEL,其中,所述顶部和底部镜面由折射率高和低交替的四分之一波长层构成。

10、如权利要求6所述的VCSEL,其中,所述有源层包括一个AlGaAs/GaAs结构和所述镜面包括AlGaAs层。

11、如上述任一权利要求所述的VCSEL,其中,所述顶部镜面至少包括一氧化材料层。

12、如权利要求11所述的VCSEL,其中,所述氧化层包括具有比其余的镜面Al浓度高的AlGaAs层。

13、一种用于偏振控制的垂直腔表面发射激光器(VCSEL)的制作方法,所述方法包括:

提供一个VCSEL,所述VCSEL具有一个底部镜面结构;一个顶部镜面结构;一个夹在顶部镜面结构和底部镜面结构之间的有源层;和与顶部镜面结构和底部镜面结构连接的电接触层;和

在顶部镜面结构中制成限制从VCSEL到一非对称路径的光输出的限制装置。

14、如权利要求13所述的方法,其中,所述顶部镜面结构包括一氧化材料层。

15、如权利要求14所述的方法,其中,所述限制装置由在顶部镜面结构中以预定图案蚀刻多个孔制成。

16、如权利要求15所述的方法,其中,所述孔被向下蚀刻至少到所述氧化层。

17、如权利要求16所述的方法,其中,在蒸汽处理中暴露所述孔的步骤,因此选择地氧化所述氧化层。

18、如权利要求15所述的方法,其中,所述孔是在圆形图案中。

19、如权利要求15所述的方法,其中,所述孔是在椭圆形图案中。

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