[发明专利]图案形成体的制造方法以及用于其中的光掩膜

说明书

技术领域

本发明涉及使用光催化剂使特性改变时，在形成的图案形成体中不存在光催化剂，因此随时间劣化的可能性小的图案形成体的制造方法以及能够用于该制造方法中的光掩膜。

背景技术

以往，作为形成高精细的图案的方法，已知对涂覆在基材上的光致抗蚀剂层进行图案曝光，曝光后使光致抗蚀剂显像，再进行蚀刻，或使用具有功能性的物质作为光致抗蚀剂，通过光致抗蚀剂的曝光直接形成所需的图案等采用照相平版印刷法的图案形成体的制造方法。

采用照相平版印刷法形成高精细的图案可以在用于液晶显示装置等的滤色器着色图案的形成、微透镜的形成、精细电路基板的制造、用于图案曝光的铬掩膜的制造等中使用，但采用这些方法，必须使用光致抗蚀剂，同时在曝光后通过液体显像液进行显像，或进行蚀刻，因此存在必须处理废液等问题，另外，使用功能性的物质作为光致抗蚀剂的场合，也存在由于显像时使用的碱液等发生劣化等的问题。

也可以采用印刷等形成滤色器等的高精细图案，但通过印刷形成的图案存在位置精度等问题，难于形成高精度的图案。

另一方面，为了解决这个问题，本发明人等开始不断研究使用润湿性通过光催化剂的作用发生改变的物质，从而形成图案的图案形成体的制造方法等。但是，由于目前通过光催化剂的作用制造图案形成体的方法最终制造的图案形成体本身含有光催化剂，因而根据图案形成体的种类，有时也存在可能由于该光催化剂引起劣化的问题。

发明内容

本发明是鉴于上述问题提出的，其主要目的在于提供一种图案形成体的制造方法，在制造图案形成体时可以高精度地形成图案，不需要曝光后的后处理，而且在制造的图案形成体中不含有光催化剂，因而也不用担心图案形成体本身劣化。

为了实现上述目的，本发明在第1项发明中，提供一种图案形成体的制造方法，其特征在于，具有图案形成体用基板调制工序和图案形成工序，其中，上述图案形成体用基板调制工序是调制具有特性变化层的图案形成体用基板的工序，该特性变化层的表面特性通过光催化剂的作用发生变化，上述图案形成工序是设置在基材上形成含有光催化剂的光催化剂含有层而成的光催化剂含有层侧基板的光催化剂含有层和上述特性变化层，使它们的间隙为200μm以下，然后由给定的方向照射能量，从而在上述特性变化层表面形成特性发生了变化的图案。

采用本发明，特别是也没有必要进行能量照射后的后处理，可以高精度地形成具有各种特性的图案。另外，照射能量后，由图案形成体取下光催化剂含有层侧基板，因此图案形成体本身不会包含光催化剂含有层，因此，不用担心图案形成体由于光催化剂的作用随时间发生劣化。而且，光催化剂含有层与特性变化层的间隔在上述范围内，因此能够得到具有高效且精度优良的特性改变了的图案的图案形成体。

在上述第1项所述的发明中，如第2项发明所述，优选设置上述光催化剂含有层和上述特性变化层，使它们的间隔在0.2μm～10μm的范围内。由于光催化剂含有层和特性变化层的间隔在0.2μm～10μm的范围内，因而能够通过短时间的能量照射得到具有特性变化了的图案的图案形成体。

在上述第1或第2项所述的发明中，如第3项发明所述，优选上述光催化剂含有层侧基板由基材和在上述基材上形成图案状的光催化剂含有层组成。这是因为通过图案状地形成光催化剂含有层，不使用光掩膜就能够在特性变化层上形成特性不同的图案。另外还是因为，只有与光催化剂含有层对应的面特性发生变化，因而照射的能量并不特别只限于平行的能量，而且能量的照射方向也没有特别限定，因此具有能量源的种类和设置的自由度大幅增加的优点。

在上述第1或第2项所述的发明中，如第4项发明所述，优选上述光催化剂含有层侧基板由基材、在上述基材上形成的光催化剂含有层和形成图案状的遮光部组成，上述图案形成工序中的能量照射优选由光催化剂含有层侧基板进行。

这是因为，由于在光催化剂含有层侧基板上具有遮光部，在照射能量时不必使用光掩膜等，因而不需要与光掩膜位置重合等，可以简化工序。

在上述第4项所述的发明中，可以如第5项发明所述，在上述光催化剂含有层侧基板中，上述遮光部在上述基材上形成图案状，再在其上形成上述光催化剂含有层，另外也可以如第6项发明所述，在上述光催化剂含有层侧基板中，在上述基材上形成光催化剂含有层，在上述光催化剂含有层上图案状地形成上述遮光部。

遮光部设置在距离特性变化层近的位置，可以说得到的特性图案在精度上优选。因此，优选在上述位置设置遮光部。另外，在光催化剂含有层上形成遮光部时，具有在设置上述图案形成工序中的光催化剂含有层和特性变化层时可以作为隔板使用的优点。