[实用新型]清洁装置

说明书

本实用新型是关于一种清洁装置，特别是有关于一种利用可循环再利用的工作流体对于管路内壁的附着物进行溶解及冲刷的清洁装置。

半导体厂的废气用管路在废气中的不纯物(例如：氢化物(H₂、AsH₃…)、氟化物(NF₃…)、氯化物(BCl₃、CCl₃…)等特殊气体)的长时间作用下，由于废气(W)中包括有相当多的微粒物质，管路内壁上便累积有附着物(结块(cake))。以目前管路清洁方式而言，对于被清洁管路进行分段拆解的清洁方法或其它方式是无法有效将内壁上的附着物清除干净。

本实用新型的目的是提供一种清洁装置，其安装于被清洁管路中，可将被清洁管路内壁的附着物(例如：结块)清除。

本实用新型的清洁装置主要包括有一喷洒装置及一循环/过滤装置，用以将工作流体输入于废气管路的喷洒装置以第一位置连接于废气管路中，工作流体由喷洒装置的喷洒作用而流经废气管路内壁，并且对于附着物进行溶解及冲刷；用以接收喷洒装置所输出的工作流体，并且对于该工作流体中的附着物进行滤除的循环/过滤装置以第二位置连接于中废气管路，并且将过滤后的工作流体泵送至该喷洒装置。

本实用新型的清洁装置中还包括有连接于废气管路中的气体输送装置，该气体输送装置用以将气体由第一位置向第二位置输送，使得该喷洒装置所喷出的工作流体是伴随该气体的移动而由该第一位置向该第二位置输送。

喷洒装置包括有喷嘴，各喷嘴的出口是朝向于废气管路的内壁，由喷嘴将工作流体喷洒于该废气管路的内壁。

以上所提的清洁装置中所述的附着物为结块，尤其为半导体厂用废气管路中的结块；所述的工作流体为水；所述的气体为氮气。

该装置在应用时，喷洒装置以第一位置连接于被清洁管路，而循环/过滤装置以第二位置连接于管路，由喷洒装置将工作流体喷洒于被清洁管路内壁，如此以针对第一、二位置之间的被清洁管路内壁上的附着物进行溶解及冲刷，并且由循环/过滤装置接收喷洒装置所输出的工作流体，同时对于工作流体中的附着物进行滤除。经过滤后的工作流体以泵送方式输送至喷洒装置，以达到工作流体的循环再利用。由上述的清洁装置的连接及应用可看出通过该装置可将被清洁管路内壁上的附着物彻底清除干净，不必对被清洁管路进行分段拆解，为管路维护提供便利。

附图简要说明

第1图中A图是本实用新型的清洁装置设置于一半导体厂用废气管路(1)的示意图；第1图中B图是针对A图的区域I的放大示意图。图中符号说明1~管路10~内壁面100~附着物(结块)11~阀门2~喷洒装置20~喷嘴21~导管3~循环/过滤装置30~虚线4~气体输送装置40~气体源400~气体5~废气处理装置I~区域W₁~工作流体W₂~混合流体X₁、X₂~第一、二位置

为让本实用新型的上述目的、特征及优点能更明显易懂，下文特举一较佳实施例，并配合附图作详细说明。

实施例

第1图中A图是表示清洁装置设置于一半导体厂用废气管路1的示意图，第1图中B图是针对A图的区域I的放大示意图。本实用新型清洁装置是利用工作流体W₁(例如：水或其它有机溶剂等)对于管路1的内壁面10上所累积的附着物100例如：结块(caking)进行溶解及冲刷，下文中便以结块代替附着物。

如A图所示，本实用新型的清洁装置包括有一喷洒装置2、一循环/过滤装置3及一气体输送装置4，其中，喷洒装置2与循环/过滤装置3分别设置于被清洁管路1上，并且喷洒装置2与循环/过滤装置3相连接(如虚线30所示)，通过循环/过滤装置3对于喷洒装置2所输出的工作流体W₁进行再利用。在本实施例中的被清洁管路1为直立方式摆设的管路，喷洒装置2以第一位置X₁连接于被清洁管路1中，而循环/过滤装置3以第二位置X₂连接于被清洁管路1中，在第一和第二位置X₁、X₂之间具有一个落差，亦即，循环/过滤装置3的位置低于喷洒装置2。如此便可对于被清洁管路1的第一和第二位置X₁、X₂间的部分管路内部进行清洁工作。此时，在被清洁管路1的第一位置X₁的上方必须由一阀门11将上游部分封闭。

以下针对各装置之间、各装置与被清洁管路1之间的连接关系及功能提出说明。