[发明专利]光盘原版盘的制造方法

说明书

本发明涉及制造用于光盘基板的制造的光盘原版盘的方法。

在光盘中有可追记或重写的光记录盘和再生专用盘。光记录盘在盘基板上形成记录层，在盘基板的表面中设置有用于跟踪等的槽(导槽)。另一方面，在再生专用盘中，在盘基板表面上一体形成具有信息的凹坑。

盘基板通过使用设置了凹坑和槽的负图案的压模、射出成形树脂来制造。上述的压模通常由Ni构成。为了制作该压模，首先要制作光盘原版盘。光盘原版盘一般由下面的工序来制造。首先，在由玻璃形成的基板表面上形成光保护赋予层。接着，由激光束曝光光刻胶层形成潜影图案后进行显影。

一般如下所述来进行使用光盘原版盘的压模制作。首先，为了向光盘原版盘的光刻胶层表面赋予导电性，通过溅射和非电解电镀等形成由Ni等形成的金属薄膜。接着，以该金属薄膜作为衬底进行电铸造，形成由Ni等形成的电铸造膜。接着，从光刻胶剥离由金属薄膜和电铸造膜形成的迭层体。该迭层体即为原版盘。该原版盘能够原样用作压模，另外能够制作母盘并将它用作压模。通过在原版盘表面上形成电铸造膜并剥离该电铸造膜来制作母盘。此时，酸化原版盘的表面，可容易地剥离电铸造膜，通过同样的操作，使用母盘来制作子盘将其用作压模。

在光盘原版盘的制造工序中，在光刻胶中形成的潜影图形的最小宽度由激光束的光斑直径限制。激光波长为λ、照射光学系统的物镜的数值孔径为NA时，光束光斑的直径w用w＝k*λ/NA表示。另外，k为由物镜的孔径形状、入射光束的强度分布所决定的常数。因此，为了使凹坑宽度和槽宽度变小，有必要使激光的波长变短或使物镜的数值孔径变大。

但是，要使具有超过0.9的大数值孔径的物镜实用化，改善的余地小。另一方面，对于激光波长而言，波长短的兰色激光已波实用化。因此，为了进一步减小潜影图案的最小宽度，因此有必要使用更短波长的激光，例如紫外区域的激光。但是在使用紫外区域的激光时，有必要对应于紫外区域来变更包含物镜的光学部件。即需要大幅度变更系统。

因此，在特开平1-317241号公报中，在制作光盘原版盘时，提出添加未曝光的光刻胶膜浸入显影液中或在光刻胶膜上淋上显影液后、水洗、干燥的工序，作为曝光光刻胶膜工序的前一工序。在同一公报中，通过在曝光前加入显影、水洗、干燥工序，使光刻胶膜表面难以溶化，因此形成宽度狭窄的沟和直径小的凹坑。在同一公报中，进行浓度为50％、时间为10秒的曝光前的显影。

另外，在特开平6-260407号公报中记载了一种方法，在半导体基板上涂覆光刻胶层后，通过进行碱性处理在光刻胶层表面上形成难溶化层，接着，进行曝光和显影后形成抗蚀剂图案。在同一公报中记载的作用如下所述。通过碱性处理由碱来溶解光刻胶中的小分子，由此进行光刻胶层表面的硬化，同时，因为光刻胶中的酚醛树脂和感光基通过碱化引起偶氮(azocoupling)反应，所以在光刻胶层表面上形成难溶化层。由于该难溶化层导致抑制了光刻胶层的未曝光部分中的溶解速度，提高了阳极(positive)型光刻胶的析象度。在同一公报中，通过在光刻胶层上盛装氢氧化季铵来进行碱性处理。

在上述特开平1-317241号公报和上述特开平6-260407号公报中，通过显影液或氢氧化季铵来使光刻胶层难溶，试图由此来提高析象度。

但是，因为显影液或氢氧化季铵等碱性处理液在废弃时有必要进行排液处理(中和)，所以导致成本高。

另外，光刻胶通过曝光而变得碱性可溶。为此，如上述各公报所示，碱处理只能在曝光前进行。另外，通过浸渍于碱性液中和碱性液的淋湿来进行碱性处理，在处理后，必需设计用纯水来清洗和干燥的工序。但是，在以流水线方式来进行一系列工序的光平板印刷装置中，在光刻胶涂覆工序和曝光工序之间因为没有加入水洗和干燥用装置，所以有必要脱机(offline)进行碱性处理。

本发明是鉴于已有的技术做出的。本发明的目的在于，在制造光盘原版盘时，抑制成本的增加，另外，以制造工序中的负荷的最小限度来制造具有比已有技术的更细微的图案的光盘原版盘。

上述目的通过下述(1)-(6)的本发明来实现。

(1)一种光盘原版盘的制造方法，该方法是制造表面上具有凹凸图案的光盘原版盘的方法，

包括在基板上形成光刻胶层的光刻胶层形成工序、通过曝光光刻胶层来形成上述凹凸图案的潜影的曝光工序和显影上述潜影的显影工序，

在光刻胶层形成工序和曝光工序之间，或在曝光工序和显影工序之间具有使光刻胶层与表面活性剂接触的表面活性剂处理工序。