[发明专利]光盘原版盘的制造方法无效
| 申请号： | 01117852.3 | 申请日： | 2001-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN1332451A | 公开（公告）日： | 2002-01-23 |
| 发明（设计）人： | 高畑广彰;小宅久司 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光盘 原版 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光盘原版盘的制造方法，该方法是制造表面上具有凹凸图案的光盘原版盘的方法，包括：
在基板上形成光刻胶层的光刻胶层形成工序、通过曝光光刻胶层来形成上述凹凸图案的潜影的曝光工序和显影上述潜影的显影工序，
在光刻胶层形成工序和曝光工序之间，或在曝光工序和显影工序之间具有使光刻胶层与表面活性剂接触的表面活性剂处理工序。
2.如权利要求1的光盘原版盘的制造方法，上述表面活性剂是非离子系表面活性剂。
3.如权利要求1或2的光盘原版盘的制造方法，在曝光工序和显影工序之间具有表面活性剂处理工序。
4.如权利要求1至3中任一光盘原版盘的制造方法，在上述表面活性剂处理工序中使用浓度为0.1-10％的表面活性剂溶液。
5.如权利要求1-4中任一光盘原版盘的制造方法，当在未设计上述表面活性剂处理工序时的最合适曝光量为D0、设计上述表面活性剂处理工序时的曝光量为D1时，有1.1≤D1/D0≤2。
6.如权利要求1-5中任一光盘原版盘的制造方法，在上述表面活性剂处理工序中，通过旋涂或浸渍使表面活性剂溶液与光刻胶接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TDK株式会社，未经TDK株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/01117852.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：皮带式开关门用驱动装置
- 下一篇：吸尘器
