[发明专利]用于抗反射涂层的有机聚合物和其制备方法

权利要求书

1．一种如下化学通式11的表示的化合物：式11

其中：

a和b分别为摩尔数，其满足条件：比例a∶b为0.1-1.0∶0.1-1.0；

R′为氢或甲基；

R₁和R₂为相同或不同的，各自表示含1-5个碳原子的取代或未取代的线性或支化烷基；和

R₃为氢或含1-5个碳原子的取代或未取代的线性或支化烷基。

2．如权利要求1所述的化合物，其中R′和R₃分别为氢原子，R₁和R₂为相同或不同的，各自表示甲基或乙基，得到下面化学通式2或3：

式2式3

3．如权利要求1的化合物，其中化合物具有分子量4，000-12，000。

4．一种制备通式11的化合物的方法，包括如下步骤：

将构成化学通式11的化合物的单体溶于有机溶剂中；和

使所得溶液在聚合引发剂存在下在氮气或氩气气氛中反应。

5．如权利要求4所述的方法，其中单体分别为下面化学通式1表示的化合物和化学通式2表示的化合物：

式1

式2

6．如权利要求4的方法，其中溶剂选自四氢呋喃、甲苯、苯、甲基乙基酮、二噁烷和其混合物。

7．如权利要求4的方法，其中聚合引发剂选自2，2-偶氮二异丁腈(AIBN)、过氧化苯甲酰、过氧化乙酰、过氧化月桂酰、叔丁基过氧化物和其混合物。

8．一种有机抗反射薄膜组合物，包括一种含化学通式11的化合物和如下化学通式12的化合物：

式12

其中：c为1；

R″为氢或甲基；

R₁为含1-5个碳原子的取代或未取代的线性或支化烷基。

9．如权利要求8的方法，其中R₄为乙基或丙基，得到如下化学通式5或6：式5式6

10．一种有机抗反射薄膜组合物，包括化学通式11的一种化合物、通式12的一种化合物、一种有机溶剂和一种热酸生成剂。

11．如权利要求10的有机抗反射薄膜组合物，其中有机溶剂选自3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、丙二醇甲基醚乙酸酯、2-庚酮、四氢呋喃和其混合物。

12．如权利要求10或11的有机抗反射薄膜组合物，其中，基于化学通式11或12的化合物重量，有机溶剂的用量优选为2，000至4，000wt％。

13．如权利要求10的有机抗反射薄膜组合物，其中热酸生成剂为选自如下化学通式7至10的化合物和其混合物：

式7

式8

14．如权利要求10或13的有机抗反射组合物，其中，基于通式11和12的化合物的总量，热酸生成剂的用量为0.1-10wt％。

15．一种用有机抗反射薄膜组合物形成有机反射薄膜图形的方法，该方法包括如下步骤：

将有机抗反射薄膜组合物涂于要进行刻蚀的层上；

烘烤该有机抗反射薄膜组合物涂布的层；

通过将光刻胶膜涂于有机抗反射薄膜上，将该光刻胶薄膜暴露于光源下并使曝光的光刻胶薄膜显影；

将有机抗反射薄膜和要刻蚀的层顺序刻蚀，其中光刻胶图形起到刻蚀掩蔽的作用。

16．如权利要求15的方法，其中烘烤步骤在100-250℃下进行1-5分钟。

17．如权利要求15的方法，其中还包括在曝光步骤之前和/或之后的烘烤步骤。

18．如权利要求16的方法，其中烘烤步骤在70-200℃下进行。

19．如权利要求15或17的方法，其中曝光步骤在选自包括ArF、KrF和ELV的远紫外光束，电子束、X-射线、离子束和其组合的光源下进行。