专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]薄化晶片的制造方法和薄化晶片的制造装置-CN202180007423.4在审
  • 泉直史 - 琳得科株式会社
  • 2021-03-10 - 2022-08-02 - H01L21/304
  • 具备:脆弱层形成工序,形成沿着半导体晶片(WF)的一个面(WFA)的面状的脆弱层(WL),并以该脆弱层(WL)为界将半导体晶片(WF)划分为薄化晶片(WF1)和剩余晶片(WF2);以及分离工序,支撑半导体晶片(WF)中的薄化晶片(WF1)侧和剩余晶片(WF2)侧中的至少一个,使薄化晶片(WF1)与剩余晶片(WF2)分离,在分离工序中,使薄化晶片(WF1)和剩余晶片(WF2)从半导体晶片(WF)的外缘部的一端部(WFF)朝向该半导体晶片(WF)的外缘部的另一端部(WFR)逐渐分离。
  • 晶片制造方法装置
  • [发明专利]镀覆装置-CN202180006280.5在审
  • 富田正辉 - 株式会社荏原制作所
  • 2021-11-09 - 2023-07-11 - C25D7/12
  • 本发明提供镀覆装置,包括:镀覆槽,其构成为收容镀覆液;基板支架,其构成为保持被镀覆面(Wf‑a)朝向下方的基板(Wf);以及升降机构,其构成为使基板支架升降。基板支架包括:支承机构(460),其构成为支承基板(Wf)的被镀覆面(Wf‑a)的外周部;背板组件(470),其配置于基板(Wf)的被镀覆面(Wf‑a)的背面侧,并构成为与支承机构(460)一起夹持基板(Wf);以及剥离机构(471),其构成为将使基板(Wf)从背板组件(470)剥离的力施加于基板(Wf)的被镀覆面(Wf‑a)的背面。
  • 镀覆装置
  • [发明专利]薄化晶片的制造方法和薄化晶片的制造装置-CN202180006503.8在审
  • 泉直史 - 琳得科株式会社
  • 2021-01-15 - 2022-06-24 - H01L21/304
  • 一种薄化晶片的制造装置,能够在防止薄化晶片破损的情况下对该薄化晶片实施各种工序,其具备:分离构件(10),其在由基材支撑构件(BS)支撑的半导体晶片(WF)上形成脆弱层(WL),以该脆弱层(WL)为界将半导体晶片(WF)划分为薄化晶片(WF1)和剩余晶片(WF2),并将该剩余晶片(WF2)从薄化晶片(WF1)分离;第一输送构件(20),其输送由分离构件(10)将剩余晶片(WF2)分离后的薄化晶片(WF1);处理构件(30),其对由第一输送构件(20)输送的薄化晶片(WF1)实施规定的处理;第二输送构件(40),其输送由处理构件(30)实施了规定的处理的薄化晶片(WF1);以及加强部件粘贴构件(50),其将加强部件(AS)粘贴于由第二输送构件(40)输送的薄化晶片(WF1),其中,第一输送构件(20)和第二输送构件(40)将薄化晶片(WF1)与基材支撑构件(BS)一起输送。
  • 晶片制造方法装置
  • [发明专利]镀覆装置及基板清洗方法-CN202180038910.7在审
  • 辻一仁;山本健太郎 - 株式会社荏原制作所
  • 2021-11-04 - 2023-06-30 - C25D7/12
  • 镀覆模块(400)包括:镀覆槽(410),构成为收容镀覆液;基板保持器(440),构成为保持被镀覆面(Wf‑a)朝向下方的基板(Wf);旋转机构(446),构成为使基板保持器(440)旋转;倾斜机构(447),构成为使基板保持器(440)倾斜;以及基板清洗部件(472),用于清洗基板保持器(440)所保持的基板(Wf)的被镀覆面(Wf‑a),基板清洗部件(472)构成为从与通过倾斜机构(447)倾斜的基板(Wf)的下端对应的位置朝向与上端对应的位置,向通过旋转机构(446)旋转的基板(Wf)的被镀覆面(Wf‑a)排出清洗液。
  • 镀覆装置清洗方法
  • [发明专利]预湿模块和预湿方法-CN202180005800.0有效
  • 关正也 - 株式会社荏原制作所
  • 2021-05-31 - 2023-03-21 - C25D5/00
  • 预湿模块(200)具备:工作台(220),其构成为对使被处理面(WF‑a)向上的基板(WF)的背面进行保持;旋转机构(224),其构成为使工作台(220)旋转;预湿室(260),其具备具有与基板(WF)的被处理面(WF‑a)相向的相向面(262a)的盖构件(262)和安装于盖构件(262)的相向面(262a)的外缘部的筒状构件(264);升降机构(230),其构成为使预湿室(260)升降;脱气液供给构件(204),其构成为对形成于预湿室(260)与基板(WF)的被处理面(WF‑a)之间的预湿空间(269)供给脱气液;喷嘴(268),其安装于盖构件(262)的相向面(262a);以及清洗液供给构件(202),其构成为经由喷嘴(268)而对基板(WF)的被处理面(WF‑a)供给清洗液。
  • 模块方法
  • [发明专利]薄型化板状部件的制造方法以及制造装置-CN201880057314.1在审
  • 泉直史;山下茂之 - 琳得科株式会社
  • 2018-08-17 - 2020-04-21 - H01L21/304
  • 薄型化板状部件的制造方法具备:向第一硬质支承体(110)的支承面(111)粘贴第一双面粘接片(AT1)的第一粘接面(AT11),向板状部件(WF)的整个第一表面(WF1)粘贴第二粘接面(AT12)的工序;在所述板状部件(WF)的内部形成边界层(CR)的工序;以第一保持单元(130)夹着第一硬质支承体(110)位于所述板状部件(WF)的相反侧的方式,将所述第一保持单元(130)和第一硬质支承体(110)拆装自如地固定的工序;利用第二保持单元(160)从第二表面(WF2)侧保持所述板状部件(WF)的工序;使所述第一保持单元(130)和所述第二保持单元(160)相对移动,从而以所述边界层(CR)为界,将所述板状部件(WF)分割为具有第一表面(WF1)的第一薄型化板状部件以及具有第二表面(WF2)的第二薄型化板状部件的工序。
  • 薄型化板状部件制造方法以及装置

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