专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种通用固定插头的锁扣装置-CN202121828809.5有效
  • 韩铮 - 东莞栢民电子有限公司
  • 2021-08-06 - 2022-08-16 - H01R13/629
  • 本实用新型公开了一种通用固定插头的锁扣装置,属于锁扣装置技术领域,包括安装面板,所述安装面板的下端中间设置有IEC电源母插,所述IEC电源母插上端设置有IEC电源公插头,所述安装面板的上端两侧设置有锁扣固定件,本实用新型将IEC电源公插头插入IEC电源母插,锁扣固定件下端的L形安装卡扣插入安装孔中,固定卡扣向上抬,沿靠近固定卡孔一端推动锁扣固定件,使固定卡扣下端扣进固定卡孔内,实现锁扣固定件的快速固定,将锁扣锁紧件插入锁扣固定件,向下按压,使之锁紧IEC电源公插头,拆卸时,按压止动卡扣使其卡齿脱离锁紧齿条,向上拉锁扣锁紧件即可拆卸,结构巧妙,方便拆卸。
  • 一种通用固定插头装置
  • [发明专利]自适应配方选择器-CN201280026144.3有效
  • 拉达·孙达拉扬;梅里特·芬克;陈立;巴顿·莱恩 - 东京毅力科创株式会社
  • 2012-03-29 - 2014-09-10 - H01J37/32
  • 一种处理晶圆的方法使用可以包括一个或更多个测量制程、一个或更多个离子能量控制(IEC)蚀刻工序以及一个或更多个离子能量优化(IEO)蚀刻制程的离子能量(IE)相关多层处理工序以及离子能量控制多输入/多输出(IEC-MIMO)模型和库。IEC-MIMO处理控制使用在多个层和/或多个IEC蚀刻工序之间的动态相互作用的行为建模。多个层和/或多个IEC蚀刻工序可以与可以使用IEO蚀刻制程来形成的线结构、沟槽结构、通孔结构、间隔结构、接触结构以及栅结构的形成相关联。
  • 自适应配方选择器
  • [发明专利]IEC插座-CN201010169473.6无效
  • 王公殿;邹晔松 - 宁波兴瑞电子有限公司;邹晔松;王公殿
  • 2010-05-12 - 2010-09-15 - H01R13/04
  • 本发明公开了一种IEC插座,包括筒状壳体、弹片、内导体、和用于将内导体固定在筒状壳体中的绝缘件,所述内导体包括内导体主体和内导体插针,内导体主体的截面呈矩形,内导体插针的截面呈圆形,在内导体的中部设置有两个突起本IEC插座的尺寸和现有的标准IEC插座相比,尺寸减小一半,但性能不受影响,和现有标准IEC插座的相同。本小型化IEC插座的结构简单、牢固,便于工业生产实现,成品率较高,材料成本大大降低。
  • iec插座
  • [发明专利]一种DCS控制系统-CN202011473021.7在审
  • 尚文轩 - 杭州和利时自动化有限公司
  • 2020-12-15 - 2021-03-16 - G05B19/418
  • 本发明公开了一种DCS控制系统,包括与组态监控软件装置连接的控制站以及与所述控制站连接的至少两个DP主站,所述控制站为多任务操作系统的控制站,用于配置多个IEC任务,所述DP主站与所述IEC任务之间为映射关联通过将控制站采用多任务操作系统的控制站,可以同时配置多个IEC任务,而所述DP主站与所述IEC任务之间为映射关联,一个IEC任务可以关联多个DP主站,但是同一个DP主站只能与一个IEC任务进行关联,由于可以实现多个
  • 一种dcs控制系统

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