|
钻瓜专利网为您找到相关结果 1156384个,建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [实用新型]一种硅片及太阳电池片-CN202221876651.3有效
-
张超;侯林均;李凯
-
通威太阳能(成都)有限公司
-
2022-07-08
-
2022-12-16
-
H01L31/0224
- 硅片背面具有用于激光开槽的开槽区域,非开槽区域包括多个镂空区域,镂空区域包括多个第一镂空区域和多个第二镂空区域,主栅镂空区域位于多个第一镂空区域和多个第二镂空区域内,焊接区域位于多个第二镂空区域内,且第一镂空区域在第二预设方向的宽度小于第二镂空区域在第二预设方向的宽度本申请的硅片通过重新设计背面不进行激光开槽的多个镂空区域,得到非矩形的镂空区域,使其能够适应背电极及背电场,将有铝浆覆盖并且无银浆覆盖区域,能开槽尽量开槽,提升了制得的太阳电池片的光电转换效率。同时,开槽区域与主栅线和焊接点存在一定距离,未影响到硅片的可靠性。
- 一种硅片太阳电池
- [实用新型]分类输送装置-CN201922213403.5有效
-
杨天澄
-
杨天澄
-
2019-12-11
-
2020-09-18
-
B65G1/04
- 本实用新型揭示了一种分类输送装置,包括主控装置、放置平台、若干输送平台,各输送平台通向不同的区域;放置平台设有第一镂空区域,第一镂空区域设有第一下落执行机构;各输送平台包括输送平台本体、第二控制器、第二驱动电机、第二传动机构,各输送平台本体包括输送带,输送带的设定位置设有第二镂空区域及第三镂空区域;在输送平台本体的第二镂空区域及第三镂空区域上下对齐时,第二镂空区域及第三镂空区域恰好设置于所述第一镂空区域正下方,从第一镂空区域落下的物品能透过对应输送平台本体的镂空区域落至设定的输送平台本体上。
- 分类输送装置
- [发明专利]具有镂空结构的卡-CN200510133008.6无效
-
马宇尘
-
上海序参量科技发展有限公司
-
2005-12-31
-
2006-06-28
-
G06K19/00
- 本发明提供一种具有镂空结构的卡,本发明属于民用电子器具领域,具体涉及一种能够携带信息的卡。一种具有镂空结构的卡,它是这么实现的,该卡包括:镂空结构,设置在卡体上,通过镂空区域展示镂空结构图像,该镂空结构具体为实质镂空型结构与衬托镂空型结构两者其一。其中的实质镂空型结构,按照实际的图像轮廓,在卡体上设置有镂空区域;其中的衬托镂空型结构,对照着所需要的图像轮廓设置有实体区域,在该实体区域的周边区域设置有镂空区域。本发明所提供的具有镂空结构的卡,通过在该卡上设置特定的镂空结构,来达到增加信息及美感的目的。
- 具有镂空结构
- [实用新型]一种夹具工装-CN201720614647.2有效
-
冯毅;周伟杰;时庆文;邱泽银;裴立志
-
信利光电股份有限公司
-
2017-05-27
-
2018-03-23
-
B24C9/00
- 本实用新型公开了一种夹具工装,用于锁定智能终端的曲面盖板,曲面盖板包括制备面,制备面包括平面区域和环绕平面区域的曲面区域,夹具工装包括上夹板,上夹板设置有一镂空区域;与上夹板可拆卸叠合设置的下夹板;其中,上夹板和下夹板的夹层之间、且与镂空区域相应位置设置有一用于放置曲面盖板的放置凹槽,曲面盖板的制备面朝向镂空区域一侧,且镂空区域与平面区域匹配对应。将曲面盖板放置在夹具工装的放置凹槽以进行锁定,曲面盖板的平面区域对应上夹板的镂空区域,其中,通过镂空区域对曲面盖板的平面区域进行工艺处理,而上夹板的环绕镂空区域的非镂空部分能够有效保护曲面盖板的曲面区域,保证曲面区域不被破坏,提高产品的良率。
- 一种夹具工装
- [发明专利]一种遮罩结构及隔离柱制作方法-CN202110245246.5在审
-
温质康;乔小平;苏智昱
-
福建华佳彩有限公司
-
2021-03-05
-
2021-07-23
-
H01L51/56
- 本发明公布一种遮罩结构及隔离柱制作方法,遮罩结构包括第一掩膜框、第二掩膜框和非镂空区域;所述第一掩膜框围绕所述非镂空区域,所述第一掩膜框和所述非镂空区域具有间隔,所述第一掩膜框和所述非镂空区域之间的间隔为镂空区域;所述第二掩膜框设置在所述第一掩膜框的顶部和所述非镂空区域的顶部上,所述第二掩膜框围绕所述非镂空区域,所述第二掩膜框上设置开孔,所述开孔位于镂空区域的上方,所述开孔用于作为薄膜材料沉积的通道。上述技术方案通过第二掩膜框来定位第一掩膜框和非镂空区域,当薄膜材料从第一掩膜框的顶部方向下沉积时,薄膜材料通过开孔和镂空区域沉积在下面的发光器件上,并形成隔离柱,可以减小了阴影效应的影响。
- 一种结构隔离制作方法
- [实用新型]一种遮罩结构-CN202120478525.1有效
-
温质康;乔小平;苏智昱
-
福建华佳彩有限公司
-
2021-03-05
-
2021-10-19
-
H01L51/56
- 本实用新型公布一种遮罩结构,包括第一掩膜框、第二掩膜框和非镂空区域;所述第一掩膜框围绕所述非镂空区域,所述第一掩膜框和所述非镂空区域具有间隔,所述第一掩膜框和所述非镂空区域之间的间隔为镂空区域;所述第二掩膜框设置在所述第一掩膜框的顶部和所述非镂空区域的顶部上,所述第二掩膜框围绕所述非镂空区域,所述第二掩膜框上设置开孔,所述开孔位于镂空区域的上方,所述开孔用于作为薄膜材料沉积的通道。上述技术方案通过第二掩膜框来定位第一掩膜框和非镂空区域,当薄膜材料从第一掩膜框的顶部方向下沉积时,薄膜材料通过开孔和镂空区域沉积在下面的发光器件上,并形成隔离柱,可以减小了阴影效应的影响。
- 一种结构
|