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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]半导体元件布局设计装置、布局设计方法和布局设计程序-CN200410030018.2无效
发明人：岛村哲夫;鹿仓康弘 -专利权人：三洋电机株式会社
申请日： 2004-03-17 - 公布日： 2004-10-06 - 主分类号： H01L21/82 文献下载
摘要：布局设计方法包括：取得半导体集成电路中包含的元件的元件类型、元件具有的电极间的连接关系的步骤S10；把半导体集成电路中包含的元件作为关注元件依次选择，根据元件类型和连接关系，求出应该与该关注元件接近配置的元件，把关注元件和应该接近配置的元件指定为对组的步骤S12；把指定为所述对组的元件彼此接近配置，进行半导体集成电路的布局的步骤S14。提供正确并且容易地进行包含有必要进行对指定的元件的半导体集成电路的布局设计的布局设计方法。
半导体元件布局设计装置方法程序

[发明专利]生产企业布局和设计-CN03813886.7有效
发明人：约瑟夫·林惠泽 -专利权人：约瑟夫·林惠泽
申请日： 2003-06-12 - 公布日： 2005-08-31 - 主分类号： E04H5/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种生产企业的改进布局。该布局包括一个生产区，生产区包括一个至少部分被生产走廊包围的网络中心。生产走廊由生产过程的各阶段组成。网络中心直接在线观察生产阶段，能够容易地监控生产过程。
生产企业布局设计

[发明专利]布局设计系统及布局设计方法-CN201880041307.2在审
发明人：筒井直昭;幸村雄介;岩城裕司;山崎舜平 -专利权人：株式会社半导体能源研究所
申请日： 2018-06-14 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：在短时间内进行不但满足设计规则且面积小的布局设计。本发明的一个方式是一种布局设计系统，该布局设计系统包括处理部，其中，处理部被输入电路图及布局设计信息，处理部具有根据电路图及布局设计信息进行Q学习生成布局数据的功能，处理部具有输出布局数据的功能，处理部包括第一神经网络
布局设计系统方法

[发明专利]布局设计装置及布局设计方法-CN201310091601.3有效
发明人：中川智洋 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-03-21 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明提供一种布局设计装置及布局设计方法，其能够在生成照片集等的情况下，更准确地向用户提示与用户喜好一致的布局设计。布局设计装置具有：项目保存部，其保存在布局设计中使用的项目；第1数据库，其针对每个用户而累积用户个人的布局设计信息及其评价值；第2数据库，其针对与用户的属性相对应的每个类型，累积类型的布局设计信息及其评价值；以及布局设计生成部，其基于第1数据库中累积的规定用户个人的布局设计信息及评价值、以及第2数据库中累积的与规定用户的属性相对应的类型的布局设计信息及评价值中的至少一方，使用项目保存部中保存的规定项目，生成规定项目的布局设计
布局设计装置方法

[发明专利]芯片、布局设计系统与布局设计方法-CN202011030123.1在审
发明人：宋廉祥 -专利权人：瑞昱半导体股份有限公司
申请日： 2020-09-27 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本发明的芯片包括第一电路系统以及第二电路系统。第一电路系统包括多个第一电路，其中所述第一电路在一时间点具有一第一功率消耗。第二电路系统包括多个第二电路，其中所述第二电路在所述时间点具有一第二功率消耗，且所述第一功率消耗高于所述第二功率消耗。所述第一电路中的至少一个与所述第二电路的至少一个交错设置，以在所述时间点降低所述第一电路的操作温度。
芯片布局设计系统方法

[发明专利]相移光刻掩模的设计和布局-CN200910171747.2有效
发明人：米歇尔·L·科特;克里斯托夫·皮拉特 -专利权人：新思公司
申请日： 2002-06-07 - 公布日： 2010-06-09 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种相移光刻掩模的设计和布局。本发明描述了一种用于限定全相位布局的方法，用于限定在集成电路中的材料层。所述方法可以用于限定、布置和精制移相器，来使用相移实质地限定所述层。通过所述处理，产生交替孔径、暗场相移掩模和互补掩模的计算机可读限定数据。掩模可以从所述限定数据建立，并且然后用于制造集成电路的材料层。在移相器或切口之间的分离被设计用于容易的掩模制造能力，并且也最大化了由相移掩模限定的每个图形的数量。成本函数用于描述相位分配的相对质量和选择较高质量的相位分配并降低相位冲突。
相移光刻设计布局

[发明专利]相移光刻掩模的设计和布局-CN02811551.1无效
发明人：米歇尔·L·科特;克里斯托夫·皮拉特 -专利权人：数字技术公司
申请日： 2002-06-07 - 公布日： 2004-08-25 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明描述了一种用于限定全相位布局的方法，用于限定在集成电路中的材料层。所述方法可以用于限定、布置和精制移相器，来使用相移实质地限定所述层。通过所述处理，产生交替孔径、暗场相移掩模和互补掩模的计算机可读限定。掩模可以从所述限定建立，并且然后用于制造集成电路的材料层。在移相器或切口之间的分离被设计用于容易的掩模制造能力，并且也最大化了由相移掩模限定的每个图形的数量。成本函数用于描述相位分配的相对质量和选择较高质量的相位分配并降低相位冲突。
相移光刻设计布局

[发明专利]设计布局的方法-CN201611177931.4在审
发明人：林彦宏;王中兴;侯元德 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2016-12-19 - 公布日： 2018-03-16 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：一种设计布局的方法包含将第一颜色群组指派给多个第一布线轨迹。所述方法包含将第二颜色群组指派给多个第二布线轨迹。第一布线轨迹在邻近第二布线轨迹之间。
设计布局方法

[发明专利]设计布局的方法-CN201911056968.5在审
发明人：彭士玮;赖志明;杨惠婷;曾健庭;林威呈 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-10-31 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：一种设计布局的方法，包括以下操作，产生数个第一布线轨道，分配至该布局的第一彩色组。产生数个第二布线轨道，分配至该布局的第二彩色组，其中数个第一布线轨道的第一布线轨道在相邻的数个第二布线轨道的数个第二布线轨道之间。
设计布局方法

[发明专利]一种可自动布局的集成电路布局设计方法与布局设计软件-CN03156339.2无效
发明人：甘沧棋;黄峻维 -专利权人：扬智科技股份有限公司
申请日： 2003-09-04 - 公布日： 2005-03-09 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明公开了一种可自动布局的集成电路布局设计方法与布局设计软件，是在集成电路设计电路及布局与电路仿真阶段时，由使用者指定集成电路的全部或部分组件端点，藉由自动布局的方式，连通复数个金属层，使得该复数个端点在所连通的金属层中
一种自动布局集成电路设计方法软件

[发明专利]产生布局设计的方法-CN202110126234.0在审
发明人：顾钧尧;陈文豪;余明道 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2021-01-29 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：一种产生集成电路的布局设计的方法。方法包括形成第一区域，此第一区域具有在第一方向上延伸的至少两个第一类型单元行。第一类型单元行的每一者具有沿着垂直于第一方向的第二方向量测的第一行高度。
产生布局设计方法

[发明专利]布局设计的拓扑模拟-CN202211427329.7在审
发明人：高田寄夫 -专利权人：美光科技公司
申请日： 2022-11-15 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本申请针对布局设计的拓扑模拟。公开了用以模拟布局设计的拓扑特征的设备、计算机实施方法和存储指令的非暂时性计算机可读媒体。实例方法包含：接收关于验证区域中的所述布局设计的信息，所述信息包含拓扑参数；定义一或多个窗口在第一方向上的宽度和第二方向上的长度；对于所述一或多个窗口，独立于所述第一方向上的所述宽度定义第一步长，独立于所述第二方向上的所述长度定义第二步长所述第一步长为所述一或多个窗口在所述第一方向上的邻近中心点之间的距离，且所述第二步长为所述一或多个窗口在所述第二方向上的邻近中心点之间的距离；提取关于多个窗口位置中的每一者处的所述一或多个窗口中的所述布局设计的信息
布局设计拓扑模拟

[发明专利]形成布局设计的方法-CN201510573824.2有效
发明人：谢东衡;林仲德;王胜雄;庄惠中;蔣敏雄;江庭玮;田丽钧 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2015-09-10 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： H01L27/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种形成用于制造集成电路(IC)的布局设计的方法。该方法包括识别由布局设计的多个栅极结构布局图案的一个或多个片段占据的布局设计中的一个或多个区域；以及生成与识别的一个或多个区域重叠的布局图案组。多个栅极结构布局图案具有预定间距，预定间距小于预定光刻技术的空间分辨率。布局图案组的第一布局图案的宽度小于预定间距的两倍。本发明还涉及形成布局设计的方法。
形成布局设计方法

[发明专利]苗圃功能布局设计技术-CN201110240351.6有效
发明人：张明明;彭祚登 -专利权人：北京林业大学
申请日： 2011-08-19 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： A01G7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种苗圃功能布局设计方法，该方法包括：(1)设置苗圃的功能区；(2)以苗木流量强度为指标，分析功能区对之间的苗木流量强度关系；(3)以除了苗木流量因素之外的功能区之间的影响因素为指标，分析功能区关系密切程度；(4)在苗木流量强度关系和功能区关系密切程度具有同样重要性的情况下，分析功能区综合密切程度，并得到功能区综合接近程度；(5)根据功能区综合密切程度，参考功能区综合接近程度，安排功能区之间的相对位置，由此得到苗圃功能区位置相关图通过本发明提供的苗圃功能布局设计技术，使整个布局紧凑合理，符合生产工艺的要求。
苗圃功能布局设计技术

[外观设计]网页布局设计手绘板-CN202330051154.3有效
发明人：封聪;谭敏锋 -专利权人：北京致远互联软件股份有限公司
申请日： 2023-02-15 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： 19-06 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：网页布局设计手绘板。2.本外观设计产品的用途：用于绘图。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。
网页布局设计手绘

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