专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种形状记忆合金中空微点阵材料及其制备方法-CN202111200191.2在审
  • 王永静;吴雨豪;朱晓东;陈亚奇 - 西安交通大学
  • 2021-10-14 - 2021-12-31 - C22C19/03
  • 本发明公开了一种形状记忆合金中空微点阵材料及其制备方法,配方包括:等原子比的NiTi合金,组分的重量百分比是:100%的NiTi合金;制备方法,包括步骤一,聚合物掩模加工;步骤二,NiTi合金膜层溅射成型;步骤三,中空微点阵材料获取;步骤四,具有记忆效应的NiTi合金中空微点阵材料获取;该发明所制备的中空微点阵材料的结构可设计性强;得到形状记忆合金膜中空微点阵材料的方法简便、易行,可通过控制溅射时间控制膜层厚度,可实现了管壁厚度在50nm~20μm之间的调控;本发明所制备的微点阵材料具有轻质、超弹性、突出的记忆效应、高阻尼、能量吸收和生物相容性;相对于其他沉积方法,通过磁控溅射技术的使用,材料选择广泛和膜层均匀性较好
  • 一种形状记忆合金中空点阵材料及其制备方法

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