专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种的合成工艺-CN201210416146.5无效
  • 陈守文 - 陈守文
  • 2012-10-26 - 2013-01-16 - C07D249/18
  • 本发明是一种的合成工艺。反应分两步完成,第一步利用邻氯硝基与水合肼反应生成1-羟基,采用DMSO作为溶剂,实现了HBTA合成反应在均相条件下完成。第二步,1-羟基与还原铁粉反应生成产物。在1-羟基还原制备后处理过程中,采用盐析方式分离产物,相比现有的萃取方法,大大提高了生产效率、降低了生产成本。
  • 一种三氮唑合成工艺
  • [发明专利]一种甲基的制备方法-CN202310817349.3在审
  • 魏元顺;孔维松;柳劲松;陈红 - 江苏顺恒信化工有限公司
  • 2023-07-05 - 2023-10-27 - C07D249/18
  • 本发明公开了一种甲基的制备方法,具体涉及精细化工品技术领域。本发明中进行重氮化生产的材料准备,进行原料重氮化处理,邻甲苯二胺和亚硝酸钠经过重氮化反应之后主要生成甲基钠;对重氮化处理后的产物进行酸化处理,同时进行尾气处理,酸化处理过程中,甲基钠和硫酸反应生成甲基和硫酸钠,同时在重氮化中剩余的亚硝酸钠与硫酸反应生成硫酸钠、一氧化氮、二氧化氮和水;对酸化处理后的产物进行后处理,得到甲基;本发明以邻甲苯二胺、亚硝酸钠和硫酸为原料,经过重氮化、酸化、后处理等过程制得甲基,可有效保证甲基制备过程中的安全性和稳定性。
  • 一种甲基三氮唑制备方法
  • [发明专利]一种N‑取代衍生物的制备方法-CN201710041864.1在审
  • 崔秀灵;王向东 - 华侨大学
  • 2017-01-19 - 2017-06-23 - C07D249/18
  • 本发明公开了一种N‑取代衍生物的制备方法,该N‑取代衍生物的结构式为其制备方法具体包括将衍生物、苯胺衍生物、醛类化合物、催化剂和有机溶剂混合均匀,在空气气氛中于80~100℃进行缩合反应,得到所述N‑取代衍生物。本发明可合成其他方法不能合成的具有N‑取代衍生物且不用添加金属;且所用原料易得,收率高,反应条件温和,反应时间短,底物范围广,反应专一性强,后处理简便且绿色。
  • 一种取代三氮唑衍生物制备方法
  • [发明专利]一种阵列基板的制备方法及清洗液-CN201810333856.9有效
  • 刘三泓 - 深圳市华星光电技术有限公司
  • 2018-04-13 - 2020-09-04 - H01L21/02
  • 本发明提供了一种清洗液,用于清洗阵列基板上包括铜‑配合物的钝化膜,所述清洗液包括水、无机碱、有机胺及铜螯合剂;所述清洗液的pH为10~11;所述铜螯合剂与铜的螯合能力大于与铜的螯合能力,并能生成水溶性络合物;所述有机胺用于断裂所述铜‑配合物中的配位键及溶解。该清洗液主要用于对采用含的光阻剥离液剥离光阻图案层后的阵列基板进行清洗。本发明还提供了该清洗液在阵列基板制备中的应用。
  • 一种阵列制备方法清洗

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