专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]金色铝的校方法-CN200710031771.7无效
  • 蔡旭楠;谭小林 - 广东东南薄膜科技股份有限公司
  • 2007-11-23 - 2008-05-14 - G01J3/46
  • 一种金色铝的校方法,包括以下步骤:(1)测出金色铝样品上至少两个不同位置的测的数据;(2)计算金色铝样品所有测的平均值;(3)对试涂色试涂上色;(4)在上述试涂色下面垫专用垫板,测出试涂色上至少两个不同位置的测的数据;(5)计算试涂色所有测的平均值;(6)将试涂色的平均值与金色铝样品测的平均值进行比较,如果试涂色的平均值与金色铝样品测的平均值在允许的色相误差范围内则结束,否则转到步骤本发明可以快速确定涂层金色的色相,大幅减少人力、物力的消耗,效率比较高,在晚间等光线不好的情况下也可以对
  • 金色方法
  • [发明专利]一种支持任意形状的图像匀方法-CN202211173390.3在审
  • 郭明强;马亚飞;黄颖;李旻;黄瑞玺;王波 - 中国地质大学(武汉)
  • 2022-09-26 - 2022-12-09 - G06T5/00
  • 本发明涉及一种支持任意形状的图像匀方法,首先使用大津法获得原始图像的二图,利用二图将原始图像掩,并将参考图像和掩后的原始图像都转为矩阵;将掩后原始图像中待匀区域的像素存储到矩阵中;分别计算掩后原始图像中待匀区域和参考图像RGB三个分量的像素均值;分别计算原始图像待匀区域和参考图像RGB三分量间的协方差矩阵并进行奇异分解;分别计算平移矩阵、旋转矩阵和缩放矩阵,并对待匀区域的矩阵进行转换操作;利用转换后结果矩阵中的元素给掩后原始图像的待匀区像素重新赋值本发明有益效果是:可以实现图像中任意形状区域的匀处理。
  • 一种支持任意形状图像方法
  • [发明专利]显示面板及显示装置-CN201610855039.0有效
  • 赵应春;金露 - 上海中航光电子有限公司;天马微电子股份有限公司
  • 2016-09-27 - 2019-04-23 - G02F1/1343
  • 显示面板包括阵列基板、薄膜晶体管、层和遮光层,所述层中各个组包括多个在一行方向排列的,所述遮光层在所述行方向的各个开口宽度比值等于各个的增益系数的比值,各个的三刺激与增益系数配合可以得到目标白色画面的三刺激本发明根据客户需要的白色画面色度坐标来调控各个所对应的开口宽度,通过不等宽的设计来调配出客户需要的不同的白色画面,大大减少了白色画面调整过程所需要的时间,提高了显示面板以及显示装置的生产效率
  • 显示面板显示装置
  • [发明专利]背光模块-CN202210960552.1在审
  • 傅嘉恩 - 友达光电股份有限公司
  • 2019-06-25 - 2022-10-21 - F21V9/08
  • 本发明公开一种背光模块,包含光源、多层、波长转换层。多层设置于光源上。波长转换层设置于多层相反于光源的一面。波长转换层将来自光源的部分光线转换为多个色光,包含第一光及第二光。第一光的强度峰值对应的波长小于第二光的强度峰值对应的波长。多层具有关于波长的反射范围,多层将波长落于反射范围内的光线反射,多层的反射范围包含第一光及第二光的强度峰值,且多层于波长范围小于500nm的穿透率大于50%。本发明可提高光利用率。
  • 背光模块
  • [发明专利]介质膜系设计方法及镀膜方法、盖板-CN202110771981.X有效
  • 田兴波;贾正宝;龙海红;朱斌;陈小群 - 蓝思科技(长沙)有限公司
  • 2021-07-08 - 2022-08-19 - G02B27/00
  • 本发明提供了一种介质膜系设计方法及镀膜方法、盖板,涉及镀膜技术领域,介质膜系设计方法包括:(a)用测设备测试目标介质膜板,得到其Lab和目标曲线;(b)将所述目标曲线导入系设计软件中,并选取层材料进行设计,使设计曲线与所述目标曲线一致,得到系结构,所述设计曲线对应所述Lab和一度坐标Lxy;(c)当厚大于500nm时,将步骤(b)获取的色度坐标Lxy重新输入系设计软件中,同时输入厚范围和层材料进行优化设计,筛选出符合要求的优化设计曲线,得到优化的系结构,进而用设计出的系结构调试镀膜。本发明缓解了现有镀膜技术颜色介质膜层太厚造成裂和强度下降的问题。
  • 介质设计方法镀膜盖板

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