专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种牙科陶瓷材料及其制备方法和应用-CN202011641939.8在审
  • 王欣宇;李智;沈非;孙文彬;曲明月 - 佛山仙湖实验室
  • 2020-12-31 - 2021-05-11 - C04B35/80
  • 本发明涉及陶瓷材料技术领域,公开了一种牙科陶瓷材料及其制备方法和应用,该牙科陶瓷材料一种牙科陶瓷材料,包括基础坯体及多层仿生陶瓷复合表面层,仿生陶瓷复合表面层中,其成分包括有氧化锆及磷酸钙;各层仿生陶瓷复合表面层中的磷酸钙含量不同;各层仿生陶瓷复合表面层按照其磷酸钙含量从低到高的顺序形成梯度形成于基础坯体上。本发明牙科陶瓷材料兼具力学性能和生物学性能,使用时可直接用作种植体或牙冠,不易出现脆性破坏和过量磨损现象。本发明利用旋涂方法在基础坯体的表面制备仿生陶瓷复合表面层,减缓了涂层和基础坯体之间的性能差异,提高基础坯体表面涂层的结合强度和耐磨性能,获得性能更优良的牙科陶瓷材料
  • 一种牙科陶瓷材料及其制备方法应用
  • [发明专利]一种适用于动态负荷的陶瓷材料-CN201310450807.0无效
  • 陈春水 - 陈春水
  • 2013-09-29 - 2014-01-29 - C04B35/10
  • 本发明涉及一种适用于动态负荷的陶瓷材料,属于陶瓷生产技术领域,其中各组分的重量份为Al2O370-80份、Cr2O33-5份、SrO3~8份、TiO55~10份、MgO5~10份;其制备方法为:将上述原料搅拌混合均匀,置于熔块炉中融化,融化温度为1400~1500℃,融化时间为6~8小时,将融化好的液体用冷水水淬,干燥即得适用于动态负荷的陶瓷材料陶瓷材料脆性的,不适用于动态负荷,该陶瓷材料由高含量的Al2O3和
  • 一种适用于动态负荷陶瓷材料
  • [发明专利]一种陶瓷材料及其制备方法-CN202111641332.4有效
  • 王欣宇;李智;沈非;孙文彬;曲明月 - 佛山仙湖实验室
  • 2021-12-29 - 2023-09-15 - C04B35/447
  • 本发明涉及牙科用材料技术领域,提供有一种陶瓷材料及其制备方法,该陶瓷材料包括含氧化锆的基础坯体及多层仿生陶瓷复合浆料层,所述仿生陶瓷复合浆料层中,其成分包括有氧化锆及磷酸钙;各层所述仿生陶瓷复合浆料层中的磷酸钙含量不同;各层所述仿生陶瓷复合浆料层按照其磷酸钙含量从低到高的顺序以叠加于所述基础坯体上。通过梯度叠加的含氧化锆与磷酸钙的多层仿生陶瓷复合浆料层结构设置,使应用其的陶瓷材料具有较高的力学性能和生物学性能,不易出现脆性破坏和过量磨损现象。
  • 一种陶瓷材料及其制备方法
  • [发明专利]牙科陶瓷材料研磨剂-CN200810235546.X有效
  • 仲跻和 - 江苏海迅实业集团股份有限公司
  • 2008-11-28 - 2009-06-24 - C09G1/02
  • 本发明涉及一种牙科陶瓷材料研磨剂,按照重量百分比包括如下组份:磨料10%~40%;表面活性剂0.1%~0.8%;光亮剂1%~10%;去离子水余量。本发明具有如下技术效果:1)其具有较好的分散性,粒度分布均匀,能够有效减少牙科陶瓷材料研磨后的表面划伤,同时提高光亮度;2)表面活性剂的加入能够有效控制加工过程中研磨抛光的均匀性,减少表面缺陷;另外,可以大大提高抛光速率,抛光过程中没有产生牙科陶瓷材料脆性断裂;3)在牙科陶瓷材料加工过程中添加了光亮剂,能使抛光后的牙科陶瓷材料的表面亮度提高,色泽自然,满足到人们高的审美要求;4)本发明研磨液为中性,化学稳定性好,使用的安全性能理想
  • 牙科陶瓷材料研磨剂
  • [发明专利]界面自韧化Si3N4/SiC片层陶瓷材料的制备方法-CN201510822753.5有效
  • 叶枫;刘仕超;张浩谦;张标;刘强;高烨 - 哈尔滨工业大学
  • 2015-11-23 - 2017-06-16 - B32B37/06
  • 界面自韧化Si3N4/SiC片层陶瓷材料的制备方法,它涉及一种陶瓷材料的制备方法。本发明的目的是为了解决单一的氮化硅陶瓷和碳化硅陶瓷材料脆性较大,易断裂的技术问题。本方法如下一、陶瓷浆料的制备;二、制备Si3N4生带、SiC生带以及烧结助剂生带;三、制备Si3N4/SiC片层复合材料生坯;四、制备界面自韧化Si3N4/SiC片层陶瓷材料材料的弯曲强度大于700MPa,收缩率﹤15%,同时,其韧性可到16MPa·m1/2以上,完全可以满足高韧性陶瓷材料的使用要求。本材料的断裂功﹥6KJ/m2,材料的断裂预警明确,具有高的安全系数。本发明属于陶瓷材料的制备领域。
  • 界面sisubsic陶瓷材料制备方法

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