专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种用于SiCf-CN202310609536.2在审
  • 成来飞;杨劲松;叶昉 - 西北工业大学
  • 2023-05-26 - 2023-10-03 - C04B41/89
  • 本发明公开了一种用于SiCf/SiC表面的Ti‑Si‑C复合涂层及其制备方法。该复合涂层具有从SiC基体表面向外侧依次为TiC层、Ti3SiC2层和Ti5Si3Cx层的三层结构,该复合涂层的制备方法包括以下步骤:1)制备具有富碳表面的SiCf/SiC;2)包埋;3)热处理;4)清洗。以该制备方法制备的复合涂层,TiC层用于缓和Ti3SiC2层与SiC基体的热失配应力,Ti5Si3Cx层用于进一步提升复合涂层的抗水氧能力,该复合涂层可以有效的提高SiCf/SiC复合材料的抗水氧与热液腐蚀能力,具有较强的结合强度。
  • 一种用于sicbasesub
  • [发明专利]一种涡轮外环涂层制备工装及其使用方法-CN202210501732.3有效
  • 张晰;张海昇;刘持栋;孙翔;李建章;成来飞 - 西安鑫垚陶瓷复合材料有限公司
  • 2022-05-09 - 2023-09-01 - C23C4/134
  • 本发明涉及一种涡轮涂层制备工装,具体涉及一种涡轮外环涂层制备工装及其使用方法。解决了目前缺乏特定工装用于涡轮外环表面的环境屏障涂层制备技术问题。本发明涂层制备工装包括多个涂层工装基座、涂层工装背板、涂层工装前板和涂层工装挡板;涂层工装基座上设置有卡槽,多个卡槽形成安装卡槽;涂层工装背板和涂层工装前板设置在安装卡槽内;涂层工装前板包括连接梁和多个隔断梳齿;相邻隔断梳齿之间形成多个构件安装卡位;涡轮外环构件位于构件安装卡位内;连接梁上设置有用于涡轮外环构件固定限位的斜面翻边卡扣;涂层工装背板上设置有挡板滑槽,涂层工装挡板通过挡板滑槽设置在隔断梳齿和涡轮外环构件的上端面上方。
  • 一种涡轮涂层制备工装及其使用方法
  • [发明专利]一种具备电磁波吸收性能的SiC/Si3-CN202211179300.1有效
  • 范晓孟;郝浩辉;请求不公布姓名;薛继梅;成来飞 - 西北工业大学
  • 2022-09-27 - 2023-08-25 - C04B35/80
  • 本申请涉及一种具备电磁波吸收性能的SiC/Si3N4复合物及其制备方法,SiC/Si3N4复合物包括SiC纤维预制体,由SiC纤维编织而成;BN界面层,通过化学气相渗透工艺制备并沉积于SiC纤维的表面;硅基陶瓷,通过先驱体浸渍裂解工艺在BN界面层的表面制备得到;Si3N4基体,通过化学气相渗透工艺制备并沉积于硅基陶瓷的表面。本发明提供的SiC/Si3N4复合物中,作为保护层的硅基陶瓷介于BN界面层和Si3N4基体之间,可以对BN界面层起到保护作用,使其在SiC纤维外侧保持完整连续。硅基陶瓷通过先驱体浸渍裂解工艺(PIP工艺)制备得到,PIP工艺制备硅基陶瓷时,硅基陶瓷的内部会存在孔隙及裂纹,其中的裂纹及孔隙在扩展过程中又可以起到引导裂纹多向偏转的作用,使复合物具有较高的韧性。
  • 一种具备电磁波吸收性能sicsibasesub
  • [发明专利]一种夹层闭孔隔热界面相及其制备方法和应用-CN202310596181.8在审
  • 叶昉;郭广达;成来飞;张立同 - 西北工业大学
  • 2023-05-24 - 2023-08-18 - C04B35/628
  • 本发明涉及一种夹层闭孔隔热界面相及其制备方法和应用,采用CVI工艺在编织的纤维布表面沉积一层SiCO界面层保护纤维免受后续工艺损伤和环境氧侵蚀,再将含Sc2SiO5的有机浆料通过真空浸渍的方法引入到含有SiCO界面层的SiC纤维布内,将纤维布叠层,加压升温固化,随后将其在管式炉内加压裂解,在SiCO界面层表面制备膜状多孔Sc2SiO5层,最后采用CVI工艺在膜状多孔Sc2SiO5层表面制备高晶化程度的SiBN界面层,由此形成SiCO‑Sc2SiO5‑SiBN夹层闭孔隔热界面相。三种界面层组合形成的夹层闭孔隔热界面相在保证SiC/SiC复合材料强韧性的前提下,将纤维所受实际温度降低100℃左右,有望解决现阶段国产纤维耐温性待提升的问题,进一步提高SiC/SiC复合材料的使用温度。
  • 一种夹层隔热界面及其制备方法应用
  • [发明专利]一种用于陶瓷复材的全自动热冲击装置及试验方法-CN202310492445.5在审
  • 李博;张毅;霍达;成来飞 - 西安鑫垚陶瓷复合材料股份有限公司
  • 2023-05-04 - 2023-08-18 - G01N5/00
  • 本发明公开了一种用于陶瓷复材的全自动热冲击装置,属于陶瓷复材热冲击技术领域,其目的是解决现有常规马弗炉热冲击试验方法不能准确获得热冲击试验的温度制度曲线的问题,其包括支撑系统,支撑系统包括型材架,型材架内设置有加热保温系统,加热保温系统正下方设置有升降系统,升降系统的一侧设置有显示控制系统,位于升降系统处的型材架上设置有合金板材作为设备外壳,显示控制系统、加热保温系统和升降系统均穿过合金板材,与输入电源相连;本发明可提高炉体的承重和装载量,同时,实现自动化控温目的,提高控温精度,解决了以往人工夹取试样效率低、难以准确控制热冲击试验条件的问题,提高作业效率,准确获得热冲击试验的温度制度曲线。
  • 一种用于陶瓷全自动冲击装置试验方法
  • [发明专利]一种高强高纯氮化硅坩埚及其制备方法和应用-CN202310572227.2在审
  • 张青;成来飞;叶昉;周杰;赵凯 - 西北工业大学
  • 2023-05-22 - 2023-08-18 - C04B35/591
  • 本发明涉及多晶硅铸锭技术领域,具体涉及一种高强高纯氮化硅坩埚及其制备方法和应用。本发明采用反应烧结结合化学气相沉积法制备氮化硅坩埚,解决现有反应烧结制备的氮化硅坩埚中,因具有杂质导致的不适合应用于硅晶制备的技术问题。本发明采用化学气相沉积法制备高纯度Si3N4涂层,通过采用此涂层作为坩埚内层,以阻隔氮化硅陶瓷基体中杂质的扩散,避免单晶硅生产中基体内的杂质与硅进行反应。反应烧结的氮化硅基体具有较高的强度,而且CVD Si3N4纯度高无杂质,二者结合后所制备的氮化硅坩埚能够很好地满足单晶硅的制备要求,具有广阔的市场应用前景。
  • 一种高强高纯氮化坩埚及其制备方法应用

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