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- [发明专利]化学镀浴-CN201911199413.6在审
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前川拓摩;柴田利明;小田幸典
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上村工业株式会社
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2019-11-29
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2020-06-09
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C23C18/44
- 本发明提供即使在镀浴中不含有氯化物等卤化物也具有镀膜性优异的特性的化学镀浴。本发明的无卤素的化学镀浴,其为含有水溶性铂化合物或水溶性钯化合物、和还原剂的化学镀浴,所述水溶性铂化合物为四氨合铂(II)络盐,但是,除去所述四氨合铂(II)络盐的卤化物,所述水溶性钯化合物为四氨合钯(II)络盐,但是,除去所述四氨合钯(II)络盐的卤化物和硫酸四氨钯(II),所述还原剂为甲酸或其盐,所述化学镀浴作为添加剂不含有卤化物。
- 化学
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