“疏液性膜”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果8754063个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]疏液构件、喷嘴板、使用其的液体喷射头及液体喷射设备-CN200610072100.0有效
发明人：西岛辰巳 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2006-04-10 - 公布日： 2006-10-18 - 主分类号： B41J2/14 文献下载
摘要：本发明提供具有高疏液性和疏液耐久性的诸如喷嘴板的疏液构件、使用该疏液构件的液体喷射头以及液体喷射设备。疏液构件包括：下层膜，设置在基板的表面上并包含硅；和疏液膜，设置在所述下层膜上并由具有氟碳基团的硅烷偶联剂制成。在该疏液构件中，当通过飞行时间二次离子质谱仪的测量来检测基于氟碳的碎片离子和硅离子时，在基于氟碳的碎片离子中所检测到的最高离子对硅离子的强度比大于或等于10。
构件喷嘴使用液体喷射设备

[发明专利]围堰的形成方法、膜图案的形成方法、装置以及电子机器-CN200610082674.6有效
发明人：守屋克之;平井利充 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2006-05-12 - 公布日： 2006-11-15 - 主分类号： H01L21/288 文献下载
摘要：本发明提供一种消除了围堰的疏液化处理所引起的不良情况的围堰形成方法、膜图案的形成方法、半导体装置的制造方法、电光学装置以及电子机器。是一种区划功能液所构成的膜图案的形成区域的围堰的形成方法。具有：在基板(P)上涂布抗蚀液并干燥，形成由抗蚀剂所构成的围堰膜(31)的工序；在围堰膜(31)中进行使用疏液化处理气体与等离子的疏液化处理的工序；对疏液化处理后的围堰膜(31)，使用掩模M有选择地照射紫外线，降低疏液性的工序；对疏液化处理后的围堰膜(31)，使用掩模M有选择地进行曝光的工序；以及在疏液性降低工序与曝光工序之后，显影围堰膜(31)并形成图案，形成围堰的工序。降低疏液性的工序与曝光工序，使用相同的掩模M连续或同时进行。
围堰形成方法图案装置以及电子机器

[发明专利]成膜方法-CN201880081409.7有效
发明人：长谷川昌孝;金沢勇人 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2018-12-11 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： B05D1/02 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种在通过气溶胶沉积法进行的成膜中，能够进行高精度地图案化的成膜的成膜方法。通过将包含成膜材料的原料液气溶胶化，向基材供给气溶胶，将成膜材料成膜于基材上时，基材在被成膜面上具有相对于原料液为疏液性的疏液区域及相对于原料液为亲液性的亲液区域，将疏液区域的宽度设为L，将气溶胶的直径设为
方法

[发明专利]显示装置及其制造方法-CN200710142101.2有效
发明人：熊谷稔 -专利权人：卡西欧计算机株式会社
申请日： 2007-05-10 - 公布日： 2007-12-19 - 主分类号： H01L21/82 文献下载
摘要：在由突出配置在一面侧的隔壁(18)划定各显示像素(PIX)的形成区域(Rpx)的绝缘性基板(11)中，在利用UV臭氧处理等赋予亲液性之后，浸渍在酸性水溶液中实施软刻蚀来除去形成在隔壁(18)表面上的氧化膜，之后，浸渍在疏液处理溶液中，从而在隔壁(18)表面上形成疏液膜而赋予疏液性，由此，在绝缘性基板(11)上形成同时存在呈现亲液性的区域和呈现疏液性的区域的亲疏水图形。
显示装置及其制造方法

[发明专利]一种强化滴状冷凝传热的超亲液-超滑图案化表面及其加工方法-CN202110386915.0有效
发明人：杨晓龙;祁飚;唐煜;朱荻 -专利权人：南京航空航天大学
申请日： 2021-04-12 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： B05D5/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种强化滴状冷凝传热的超亲液‑超滑图案化表面及其加工方法，表面包括基底、超疏液纳米结构、液体润滑层、超亲液图案和图案化水膜；超疏液纳米结构为在基体表面加工出的并具有超疏液性能的纳米结构；液体润滑层为润滑液浸润超疏液纳米结构后被超疏液纳米结构锁住的润滑液层；超亲液图案为在超疏液纳米结构中加工出的槽状图案；超亲液图案为楔形或方形条纹阵列；图案化水膜为通过浸润在超亲液图案上形成的水膜；液体润滑层与图案化水膜边界清晰、不互溶；图案化水膜构成超亲液图案区，超疏液纳米结构锁住的液体润滑层构成超滑区本发明可实现稳态滴状冷凝，显著提高了冷凝传热效率及滴状冷凝传热长效性。
一种强化冷凝传热超亲液图案表面及其加工方法

[实用新型]疏液膜涂层部件、液体喷射装置及其构件-CN200420050743.1无效
发明人：宫岛弘夫;足助慎太郎;松尾泰秀;市川祐永;小池保则 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2004-05-08 - 公布日： 2005-11-16 - 主分类号： B41J2/05 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种疏液膜涂层部件、液体喷射装置及其包括有所述疏液膜涂层部件的构件。为了有利地实现疏液效果，该疏液膜涂层部件包括衬底、形成在衬底表面上的底涂层膜以及形成在所述底涂层膜表面上的金属醇盐疏液膜。上述疏液膜涂层部件可用于喷嘴板、液体喷射头和液体喷射装置。
疏液膜涂层部件液体喷射装置及其构件

[发明专利]喷嘴板的制造方法、喷嘴板、液滴喷头及液滴喷出装置-CN200610005756.0有效
发明人：足助慎太郎 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2006-01-06 - 公布日： 2006-07-19 - 主分类号： B41J2/16 文献下载
摘要：提供能够低成本地制造喷嘴板的喷嘴板制造方法、按照该喷嘴板制造方法制造的喷嘴板、具备该喷嘴板的液滴喷头及具备该液滴喷头的液滴喷出装置。本发明的喷嘴板制造方法，是一种将具备多个喷嘴孔(21)和设置在液滴喷出面(22)上并相对于液滴具有疏液性的疏液膜(7)的芯片(26)接合在喷嘴板主体上而获得喷嘴板的方法。该方法具有疏液膜去除工序和接合工序；疏液膜去除工序，将保护疏液膜(7)的掩模材料(9)从面(27)侧经由各喷嘴孔(21)向液滴喷出面(22)的喷嘴孔周边漏出地供给、且从液滴喷出面(22)侧相对于芯片(26)在大气压下施以等离子体处理，从而去除从掩模材料(9)露出的疏液膜(7)；接合工序，将芯片(26)在去除了疏液膜(7)的部分与喷嘴板主体接合。
喷嘴制造方法喷头喷出装置

[发明专利]像素界定层及其制作方法、阵列基板、显示面板和装置-CN201910335137.5有效
发明人：侯文军 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2019-04-24 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本申请提供了一种像素界定层及其制作方法、阵列基板、显示面板和显示装置，用以提供一种新的具有疏液性的像素界定层。像素界定层，包括位于衬底上，设置有至少一凸起结构的界定膜层；凸起结构位于界定膜层远离衬底的一面，且凸起结构具有疏液性。由于像素界定层，包括位于衬底上，设置有至少一凸起结构的界定膜层，该界定膜层设置有至少一凸起结构，凸起结构远离衬底设置，且具有疏液性，因此，界定膜层在凸起结构的作用下也具有疏液能力，能够很好的将喷墨打印过程中的墨水限定在像素内
像素界定及其制作方法阵列显示面板装置

[发明专利]表面处理方法及膜图案的形成方法-CN03108289.0无效
发明人：平井利充;长谷井宏宣 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2003-03-27 - 公布日： 2003-12-03 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供为了改善由喷墨法完成的膜图案的形成，而能得到均匀具有所需亲液性的基板的表面处理方法、以及依据该表面处理得到的表面处理基板及膜图案的形成方法等。本发明中，在基板表面上进行形成由有机分子构成的自我组织化膜的疏液化处理。之后用紫外光照射等方法缓和疏液性，而达到所需的疏液性。
表面处理方法图案形成

[发明专利]表面处理方法及膜图案的形成方法-CN200610077890.1无效
发明人：平井利充;长谷井宏宣 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2003-03-27 - 公布日： 2007-01-31 - 主分类号： H05K3/12 文献下载
摘要：本发明提供为了改善由喷墨法完成的膜图案的形成，而能得到均匀具有所需亲液性的基板的表面处理方法、以及依据该表面处理得到的表面处理基板及膜图案的形成方法等。本发明中，在基板表面上进行形成由有机分子构成的自我组织化膜的疏液化处理。之后用紫外光照射等方法缓和疏液性，而达到所需的疏液性。
表面处理方法图案形成

[发明专利]喷墨头记录装置-CN201710045173.9有效
发明人：关雅志 -专利权人：东芝泰格有限公司
申请日： 2017-01-19 - 公布日： 2019-03-08 - 主分类号： B41J2/14 文献下载
摘要：实施方式的技术问题在于提供一种喷墨头记录装置，能够防止因擦拭器的擦拭动作而使疏液层的疏液性发生劣化。实施方式的喷墨头记录装置具有喷嘴板、压力室、压力生成单元、墨供给单元以及涂敷膜层叠体。涂敷膜层叠体形成于所述喷嘴板的液滴喷出方向一面，并在厚度方向上层叠有多层涂敷膜，所述涂敷膜是在使显示疏液性的疏液区域与显示亲液性的亲液区域分散配置的状态下涂敷而成的。
喷墨记录装置

[发明专利]膜图案的形成法、有源矩阵基板、电光装置、电子仪器-CN200610084866.0无效
发明人：守屋克之;平井利充 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2006-05-23 - 公布日： 2006-11-29 - 主分类号： H01L21/84 文献下载
摘要：而且，在第1图案形成区域(52、53)内形成第1膜图案、在第2图案形成区域内形成第2膜图案后，对基板的全面实施疏液处理。其后，选择地保持第2膜图案的各规定位置的疏液性的情况下、降低基板上的疏液性。在第1膜图案和第2膜图案上层叠盖层，除去第2膜图案的各规定位置的疏液性，使各规定位置之间由导电膜连接。在分开的图案形成区域内形成具有盖层的膜图案时，通过使其形成工序简单化，提供可以提高膜图案的生产率的膜图案的形成方法、有源矩阵基板、电光学装置和电子仪器。
图案形成有源矩阵电光装置电子仪器

[发明专利]一种针对膜蒸馏过程的抗润湿、抗污染双疏膜及其制备方法和应用-CN202110001360.3有效
发明人：廖园;廖祥军;阿卜杜勒·加尼·瑞泽普 -专利权人：南开大学
申请日： 2021-01-04 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： B01D61/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种针对膜蒸馏过程的抗润湿、抗污染双疏膜及其制备方法，该双疏膜由双层静电纺丝纳米纤维基质和复合双疏层构成。本发明中双疏膜是指兼具超疏水和超疏油性能的膜。所述双疏膜双层纳米纤维基质层通过静电纺丝不同配比铸膜液制得。所述双疏膜通过化学活化、原位聚合和浸涂改性，获得具有低表面能的重入结构，从而获得复合双疏层。本发明中的双疏膜可有效抵抗低表面张力液体的润湿，比如表面活性剂和含油液体。所述双疏膜在静态接触润湿和动态膜蒸馏测试中均表现优异的抗润湿性。本发明的双疏膜在膜蒸馏过程的废水处理和海水淡化领域展现良好发展前景。
一种针对蒸馏过程润湿污染双疏膜及其制备方法应用

[发明专利]一种像素界定层、其制备方法及显示装置-CN201810835318.X在审
发明人：宋莹莹 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2018-07-26 - 公布日： 2018-11-30 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：所述像素界定层的制备方法为提供形成有阳极的显示基板；在聚酰胺酸溶液中添加疏液性粒子，形成纺丝溶液；利用所述纺丝溶液，通过静电纺丝法在所述形成有阳极的显示基板上形成多个层叠设置的膜层，所述层叠设置的膜层的疏液性由显示基板表面向远离显示基板的方向依次递增；对所述多个层叠设置的膜层进行固化，然后经过构图处理，形成像素界定层。所述方法制备的像素界定层保证了在像素界定层的侧面表现梯度的疏液特性，在后期进行喷墨打印时，像素区域中形成的膜层厚度达标，像素内部均匀性好且避免像素轮廓出现U型。而且，本发明使用的材料不包括含氟性疏液材料，制备成本降低。
像素界定层制备显示基板膜层层叠设置阳极纺丝溶液显示装置疏液性聚酰胺酸溶液静电纺丝法均匀性好喷墨打印疏液特性像素轮廓像素区域依次递增含氟疏液像素固化粒子侧面达标表现保证

[发明专利]一种显示装置、其制作方法及像素界定层的制作方法-CN202010794869.3在审
发明人：穆琳佳;金南德 -专利权人：海信视像科技股份有限公司
申请日： 2020-08-10 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种显示装置、其制作方法及像素界定层的制作方法，每次在像素区域内喷墨打印功能层或发光层之前，对像素界定层远离基板的部分区域进行疏液性处理，从而使得像素界定层的上半部分具有疏液性，阻挡墨水溢出像素区域；同时本发明实施例不仅对像素界定层的顶部进行疏液性处理，还可以对侧壁上半部分的不同深度也相应地进行疏液性处理，从而避免打印的墨水在像素界定层的侧壁上造成粘连而造成的膜层边缘高中间低的情形，由此保证膜层的平整性
一种显示装置制作方法像素界定

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条