专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]显示基板及其制备方法和显示装置-CN201910511562.5有效
  • 赵德江 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2019-06-13 - 2021-10-22 - H01L27/32
  • 本发明提供了一种显示基板,包括:衬底基板,衬底基板上设置有沿远离衬底基板方向依次层叠设置的:像素界定层、第一层和第二层;第二层的高于第一层和像素界定层的;像素界定层上设置有多个像素开口,第一层设置有与像素开口一一对应连通的第一开口,第二层上设置有与第一开口一一对应连通的第二开口;第一层的一部分被第二开口露出;第二开口的开口面积随第二开口到显示基板中心的距离的增大而减小。本发明通过调整第二开口的面积,使整个显示基板各个像素开口中液体的挥发速度保持一致,从而提高形成的显示区域的显示均匀
  • 显示及其制备方法显示装置
  • [发明专利]像素界定层及其制造方法、显示基板-CN201710312218.4有效
  • 侯文军 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2017-05-05 - 2019-12-24 - H01L27/32
  • 包括:层叠设置的第一材料层、亲材料层和第二材料层,所述亲材料层由亲材料制成,所述亲材料为对溶解有有机电致发光材料的溶液有吸引的材料,所述第一材料层和所述第二材料层均由材料制成,所述材料为对所述溶解有有机电致发光材料的溶液有排斥的材料。本发明可以减小因溶液在像素界定层的斜面上的攀爬对溶液在像素区域内的成膜均一的影响。本发明用于制造有机发光二极管的显示基板。
  • 像素界定及其制造方法显示
  • [发明专利]显示装置及其制造方法-CN200710142101.2有效
  • 熊谷稔 - 卡西欧计算机株式会社
  • 2007-05-10 - 2007-12-19 - H01L21/82
  • 在由突出配置在一面侧的隔壁(18)划定各显示像素(PIX)的形成区域(Rpx)的绝缘基板(11)中,在利用UV臭氧处理等赋予亲之后,浸渍在酸性水溶液中实施软刻蚀来除去形成在隔壁(18)表面上的氧化膜,之后,浸渍在处理溶液中,从而在隔壁(18)表面上形成膜而赋予,由此,在绝缘基板(11)上形成同时存在呈现亲的区域和呈现的区域的亲疏水图形。
  • 显示装置及其制造方法
  • [发明专利]围堰的形成方法、膜图案的形成方法、装置以及电子机器-CN200610082674.6有效
  • 守屋克之;平井利充 - 精工爱普生株式会社
  • 2006-05-12 - 2006-11-15 - H01L21/288
  • 本发明提供一种消除了围堰的液化处理所引起的不良情况的围堰形成方法、膜图案的形成方法、半导体装置的制造方法、电光学装置以及电子机器。是一种区划功能所构成的膜图案的形成区域的围堰的形成方法。具有:在基板(P)上涂布抗蚀并干燥,形成由抗蚀剂所构成的围堰膜(31)的工序;在围堰膜(31)中进行使用液化处理气体与等离子的液化处理的工序;对液化处理后的围堰膜(31),使用掩模M有选择地照射紫外线,降低的工序;对液化处理后的围堰膜(31),使用掩模M有选择地进行曝光的工序;以及在降低工序与曝光工序之后,显影围堰膜(31)并形成图案,形成围堰的工序。降低的工序与曝光工序,使用相同的掩模M连续或同时进行。
  • 围堰形成方法图案装置以及电子机器

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