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[发明专利]掩模坯料的制造方法及光掩模的制造方法-CN200810099160.0无效
发明人：浅川敬司;宫田凉司 -专利权人： HOYA株式会社;HOYA电子马来西亚有限公司
申请日： 2008-05-14 - 公布日： 2008-11-19 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种掩模坯料的制造方法，其是具有从具有在一方向上延伸的抗蚀剂液供给口的涂敷喷嘴喷出抗蚀剂液，同时，使所述涂敷喷嘴及基板的被涂敷面在与所述一方向交叉的方向上相对扫描，并在所述被涂敷面上涂敷所述抗蚀剂液的抗蚀剂液涂敷工序的带有抗蚀剂膜的掩模坯料的制造方法，其特征在于，包括：在使基板的被涂敷面和所述涂敷喷嘴的前端部靠近，使所述抗蚀剂液与所述被涂敷面接触时，以将所述涂敷喷嘴的前端部和所述被涂敷面的间隔设为相对小的状态开始液体接触，然后，将所述涂敷喷嘴的前端部和所述被涂敷面的间隔扩大至相对大的状态
坯料制造方法光掩模

[发明专利]电极的制造方法以及非水电解质电池的制造方法-CN201180076032.4有效
发明人：森岛秀明;植松育生;中畑政臣;丰嶋毅 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2011-12-27 - 公布日： 2014-08-27 - 主分类号： H01M4/139 文献下载
摘要：根据实施方式，提供包括向集电体的第1面进行的浆料涂敷、向集电体的第2面进行的浆料涂敷以及干燥的电极的制造方法。在实施方式的电极的制造方法中，在集电体的第1面，以在与集电体的搬送方向正交的方向交替配置浆料涂敷部和浆料未涂敷部的方式，使用第1模头涂敷浆料。在集电体的第2面，以在与集电体的搬送方向正交的方向交替配置浆料涂敷部和浆料未涂敷部的方式，使用第2模头，涂敷浆料。在具有形成在外周面的多个环状突起部的第2支持辊的环状突起部上，配置集电体的浆料未涂敷部。通过第2支持辊将集电体搬送到干燥装置。利用干燥装置使集电体的第1面以及第2面的浆料涂敷部干燥。
电极制造方法以及水电电池

[发明专利]粘贴装置-CN201610374204.0在审
发明人：岛井太;佐藤晶彦;丸山健治;细田浩;千叶正树 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2013-02-28 - 公布日： 2016-08-31 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：通过在一条流水线上进行向薄膜涂敷粘接剂以及向基板粘贴薄膜而高效率地进行粘贴作业。粘贴装置(100)具备用于输送薄膜(60)的输送部(104)、将涂敷液(N)涂敷于薄膜的涂敷部(106)、将涂敷有涂敷液的薄膜切断为规定长度的切割器(48)以及将薄膜粘贴于基板(1)的粘贴部(105)。
粘贴装置

[发明专利]半导体装置制造装置-CN201110104633.3无效
发明人：原晓;玉井真吾;重山昭宏;小川路夫;青柳均;田中裕之 -专利权人：芝浦机械电子装置股份有限公司
申请日： 2011-04-22 - 公布日： 2011-11-09 - 主分类号： B05C5/00 文献下载
摘要：其具备：涂敷头，其将粘结剂以多个液滴向涂敷对象物排出；载物台，其载置有涂敷对象物，在涂敷头的下方可移动；清扫部，其清扫涂敷头的排出面；第一移动驱动部，其使清扫部向清扫涂敷头的排出面的作业位置、与设定在载物台的移动区域下方且避免与载物台发生干扰的退避位置移动
半导体装置制造

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201210174363.8无效
发明人：宫本英典;佐保田勉 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2012-05-30 - 公布日： 2012-12-05 - 主分类号： B05C9/14 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，该基板处理装置具备：第一腔，其具有将含有易氧化性的金属及溶剂的液状体的涂敷膜形成在基板上的涂敷部；第二腔，其具有加热所述涂敷膜的第一加热部；连接部，其将所述第一腔与所述第二腔之间连接，其中，在所述连接部设有对涂敷在所述基板上的所述涂敷膜进行加热的第二加热部及对所述涂敷膜的周围的压力进行调整的压力调整部。
处理装置方法

[发明专利]光纤的制造方法及制造装置-CN201980021074.4在审
发明人：吉田直 -专利权人：住友电气工业株式会社
申请日： 2019-03-20 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： C03C25/12 文献下载
摘要：一种光纤的制造方法，其包含树脂涂敷工序，即，经由配管将树脂供给至树脂涂敷部，使玻璃纤维经过树脂涂敷部而在玻璃纤维的外周涂敷树脂，在树脂涂敷工序中，对配管内的树脂温度进行测定，对在至少一部分的配管外周设置的加热部进行控制，以使得配管内的树脂温度成为所设定的目标温度，并且在树脂涂敷部和设置有加热部的配管之间配置粘度计，对目标温度的设定值进行调整，以使得通过粘度计测定出的树脂粘度成为目标粘度。
光纤制造方法装置

[发明专利]柔性涂敷器柄部区域-CN201980054377.6有效
发明人：艾伦·R·东布罗夫斯基;罗伯特·A·阿斯穆斯 -专利权人： 3M创新有限公司
申请日： 2019-08-09 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： A61M35/00 文献下载
摘要：本公开提供一种涂敷器(100)，该涂敷器包括中空主体(110)，中空主体包括远侧部分(112)、近侧部分(114)、外部表面(118)、内部表面(116)和激活区域(120)，其中中空主体在涂敷器的激活区域中包括位于外部表面和内部表面中的至少一者上的至少两个纵向凹槽涂敷器包括位于中空主体内部的易碎安瓿(160)，易碎安瓿被构造成容纳溶液。涂敷器可包括头部(140)，该头部具有吸收部件(150)，该吸收部件能够在易碎安瓿破裂时吸收安瓿的内容物并可有助于将安瓿内容物施涂到期望的表面。
柔性涂敷器柄部区域

[发明专利]用于液体或粘性化妆品的涂敷器及其相关的封装组件-CN201510919375.2有效
发明人：凯尔·内斯比特 -专利权人：阿贝尔服务
申请日： 2015-12-11 - 公布日： 2020-09-08 - 主分类号： A45D34/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于液体或粘性化妆品的涂敷器以及液体或粘性化妆品的封装组件，液体或粘性化妆品尤其为指甲油，涂敷器沿纵向延伸轴线延伸并且包括被称为涂敷器的远端的远端和被称为涂敷器的近端的近端，涂敷器包括：近端处的尾端件，尾端件能够被附接至封装组件的杆；远端处的刮刀；将尾端件和刮刀连接的基部，尾端件、基部和刮刀为由聚合物材料制成的一体件，其特征在于，刮刀包括：至少两个舌部，至少两个舌部的每个具有被连接至刮刀的实心部分的端部及相反的端部；形成在每个舌部的在相反的端部的区域中的延伸部中的至少两个涂敷器突出部，每个涂敷器突出部具有形成涂敷器的远端的自由端。
用于液体粘性化妆品涂敷器及其相关封装组件

[发明专利]糊剂涂敷装置-CN201480014289.0在审
发明人：冈村浩志;德永政昭;小方浩;永冶利彦 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2014-03-06 - 公布日： 2015-10-28 - 主分类号： H05K3/34 文献下载
摘要：具备：保持基板(2)的作为基板保持部的基板搬运输送器(11)；向基板(2)涂敷糊剂(Pst)的涂敷头(13)；进行糊剂(Pst)的尝试涂敷的尝试涂敷台(14)；从侧方拍摄利用涂敷头(13)涂敷于尝试涂敷台(14)的糊剂(Pst)的侧方摄像机(17)；及存储由侧方摄像机(17)拍摄到的图像的侧方图像存储部(63)。
糊剂涂敷装置

[发明专利]擦拭层片及其制造方法-CN98108866.X无效
发明人：竹内直人;合田裕树;小西孝义;冈田和也 -专利权人：尤妮佳股份有限公司
申请日： 1998-03-09 - 公布日： 2002-12-25 - 主分类号： B32B3/28 文献下载
摘要：本发明所要解决的问题是在擦拭层片等中、在用空开一定间隔的粘接部粘接多个层的场合，形成粘接剂的涂敷图案的工序较复杂。本发明的解决方案是在层之间呈带状涂敷粘接剂2。之后通过其宽度大干带状的涂敷区域的压花，沿粘接剂的涂敷区域按照一定间隔形成加压区域3。因此，在加压区域3和粘接剂2的涂敷区域之间的重叠部，层之间被牢固地固定而形成粘接部a。通过呈带状涂敷粘接剂，可在每个粘接部a中使粘接剂的涂敷量保持均匀，并可获得足够的粘接强度。另外，粘接剂的涂敷工序也很简单。
擦拭及其制造方法

[发明专利]涂敷工具-CN201210365771.1有效
发明人：西川贵广;影山伴广 -专利权人：沙奇哈塔株式会社
申请日： 2012-09-27 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： B43K5/10 文献下载
摘要：本发明是一种涂敷工具，该涂敷工具包括：后端封闭的外管，设置在该外管内并收纳墨水吸留体、且前端与外部空气连通而后端封闭的内管，由设在该内管的前端周部的涂敷体保持部保持、且后端与所述墨水吸留体连接的涂敷体，以及将由所述外管的内壁和所述内管的外壁形成的墨水罐的前端开口部密封的前端部件；其特征在于，在所述墨水罐中填充有墨水，在所述涂敷体保持部设有将所述涂敷体的侧面与所述墨水罐连通的墨水连通孔，该墨水连通孔不与所述墨水吸留体抵接，而且，在所述涂敷体保持部与所述涂敷体之间设有将所述内管前端和所述涂敷体保持部后端连通的空气流路，该空气流路与所述墨水连通孔分离。
工具

[发明专利]涂敷装置-CN202280002678.6在审
发明人：吉塚秀人;松山隆勇 -专利权人：株式会社埃纳科技
申请日： 2022-05-12 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： B05C1/02 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种涂敷装置，其能够对非圆形工件的外周端面以该工件的厚度以下的涂敷宽度高精度地涂敷膜形成液；所述涂敷装置具备旋转机构部20和涂敷机构部30，其中所述旋转结构部20以工件2以及形状与工件2的外形相同的仿形模具22在同一旋转轴中心同步旋转的方式构成，所述涂敷机构部30具备在被按压在仿形模具22的外周端面22a的状态下，能够与仿形模具22一起旋转的按压滚轮31、包括在被按压在工件2的外周端面2a的状态下，一边与工件2一起旋转一边在工件2的外周端面2a涂敷膜形成液3的涂敷滚轮33的涂敷部32以及使具有相同外径的按压滚轮31和涂敷滚轮33同步旋转的旋转传递结构40。
装置

[发明专利]涂敷工具及安装有涂敷工具的容器-CN201810116310.8有效
发明人：渡边美纪;永井口梨绘;关谷梨乃;北林由嗣 -专利权人：朋友株式会社
申请日： 2018-02-06 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： A45D19/00 文献下载
摘要：本发明提供一种涂敷工具及安装有涂敷工具的容器。该涂敷工具是安装在用于收容涂敷剂的容器上进行使用，将容器中收容的涂敷剂排出并涂敷至毛发上的涂敷工具。具有沿着厚度方向排列设置的多个板状梳齿；多个板状梳齿中含有排出梳齿，该排出梳齿具有至少一个的排出口、以及连通容器的收容空间和排出口的内部通道；以排列设置有多个板状梳齿的方向作为列设方向，排出梳齿从列设方向观察时的外形为具有相同宽度的主体部和以三角形状从主体部突出的前端部的形状；至少一个的排出口包括前端侧排出口，该前端侧排出口至少有一部分设在所述前端部。采用本发明的涂敷工具，能够方便地将涂敷材料涂敷至毛发的根部。
工具装有容器

[发明专利]涂敷处理装置和涂敷液捕集构件-CN201810998096.3有效
发明人：上村良一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-08-29 - 公布日： 2021-05-28 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：一种涂敷处理装置和涂敷液捕集构件。提供如下技术：在使供给有高粘度的涂敷液的基板旋转而进行涂敷处理时，对涂敷处理中飞散的涂敷液进行捕集而去除，并且抑制生产率的降低。在使晶圆旋转而涂敷抗蚀剂液的抗蚀剂涂敷装置中，在沿着杯体的周向设置的排气路径设置有捕集由于晶圆的旋转而产生的线状的涂敷液的涂敷液捕集构件，在涂敷液捕集构件设置有溶剂积存部。因此，在对晶圆进行了背面侧溶剂供给处理时从晶圆甩开的溶剂落到涂敷液捕集构件，积存于溶剂积存部。并且，通过设为溶剂积存到溶剂积存部的状态，能够在对接下来的晶圆进行了抗蚀剂涂敷处理时也在抗蚀剂涂敷处理期间溶解去除被涂敷液捕集构件捕集的线状的涂敷液，能够抑制生产率的降低。
处理装置涂敷液捕集构件

[实用新型]涂敷处理装置和涂敷液捕集构件-CN201821405221.7有效
发明人：上村良一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-08-29 - 公布日： 2019-06-25 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：一种涂敷处理装置和涂敷液捕集构件。提供如下技术：在使供给有高粘度的涂敷液的基板旋转而进行涂敷处理时，对涂敷处理中飞散的涂敷液进行捕集而去除，并且抑制生产率的降低。在使晶圆旋转而涂敷抗蚀剂液的抗蚀剂涂敷装置中，在沿着杯体的周向设置的排气路径设置有捕集由于晶圆的旋转而产生的线状的涂敷液的涂敷液捕集构件，在涂敷液捕集构件设置有溶剂积存部。因此，在对晶圆进行了背面侧溶剂供给处理时从晶圆甩开的溶剂落到涂敷液捕集构件，积存于溶剂积存部。并且，通过设为溶剂积存到溶剂积存部的状态，能够在对接下来的晶圆进行了抗蚀剂涂敷处理时也在抗蚀剂涂敷处理期间溶解去除被涂敷液捕集构件捕集的线状的涂敷液，能够抑制生产率的降低。
涂敷液捕集构件溶剂晶圆积存部捕集涂敷涂敷处理装置抗蚀剂涂敷积存线状去除抗蚀剂涂敷装置处理期间基板旋转抗蚀剂液排气路径溶剂供给周向设置高粘度杯体飞散背面溶解