专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]双层底面排气式阀口袋-CN200620069517.7无效
  • 方先其 - 方先其
  • 2006-02-23 - 2007-05-09 - B65D30/10
  • 本实用新型公开了一种双层底面排气式阀口袋,包括袋体、上、下底面,上底面带有阀口,在底面上均匀打有微孔并附有带有均匀微孔的加层,加层与底面四周粘合或熔接,加层的微孔与底面的微孔相互错位。本实用新型由于上下底面打有微孔,且附有带有微孔的加层,加层的微孔与上下底面的微孔相互错位,因此,既能确保内包装物不泄漏,又具有透气性能,并且制作工艺简单,成本较低。
  • 双层底面排气口袋
  • [发明专利]光敏的防反射底面涂层-CN03818306.4有效
  • D·J·古尔瑞罗 - 部鲁尔科学公司
  • 2003-07-28 - 2005-09-21 - G03C1/492
  • 提供防反射组合物以及使用这些组合物形成电路的方法。所述组合物包含溶于或分散于溶剂系统中的聚合物。优选的聚合物包括聚碳酸酯类、聚磺酸酯类、聚碳酸酯-砜类以及它们的混合物。所述组合物可以施涂到硅片或其它基材上,形成开始时不溶于一般光致抗蚀剂显影溶液中的固化或硬化层。当暴露到光中时,所述固化或硬化的层在光致抗蚀剂显影溶液中变得可溶,使所述层和显影的光致抗蚀剂层一起选择性除去,由此取消单独的除去步骤。
  • 光敏反射底面涂层
  • [发明专利]半导体装置-CN201610821641.2在审
  • 川尻智司 - 三垦电气株式会社
  • 2016-09-13 - 2018-01-30 - H01L29/78
  • 半导体装置具有漂移区;基区,其配置在漂移区上;发射区,其配置在基区上;内壁绝缘膜,其配置在槽的内壁,该槽从发射区的上表面延伸并贯通发射区和基区;栅电极,其与基区的侧面对置地配置在槽的侧面的内壁绝缘膜上;底面电极,其与栅电极绝缘分离地配置在槽的底面内壁绝缘膜上;以及层间绝缘膜,其设于栅电极和底面电极之间,栅电极在槽的角部侧的端部延伸到比漂移区和基区的界面与槽的侧面相交的位置低的位置,栅电极在底面电极侧的端部比底面电极在栅电极侧的上表面的位置高,该半导体装置具有如下的栅电极的下表面,该下表面连接栅电极在槽的角部侧的端部和栅电极在底面电极侧的端部。
  • 半导体装置
  • [发明专利]一种基坑结构及其施工工艺-CN202111064825.6在审
  • 黄琴;白菲菲;张孙胜;沈德龙 - 德清县亿胜建设有限公司
  • 2021-09-11 - 2021-12-17 - E02D17/02
  • 本申请涉及一种基坑结构,包括通过放坡开挖形成的基坑主体,基坑主体的每一个倾斜内壁均设有数排斜壁桩杆,基坑主体的倾斜内壁贴合有斜壁板,斜壁板底部抵接于对应的一排斜壁桩杆,每一块斜壁板均铰接有板支撑杆,板支撑杆远离相连接的斜壁板一端设有底面定杆,基坑主体底面设有底面块,底面定杆可拆卸连接于底面块,底面定杆设有带动板支撑杆朝向相近的基坑主体的倾斜内壁移动的板支撑杆移动装置,具备即使不同基坑主体的倾斜内壁坡度不同,斜壁板和板支撑杆之间均能进行相适应的设置
  • 一种基坑结构及其施工工艺

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