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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]利用离子迁移分离的质谱仪占空比的改进-CN202110168437.6在审
发明人： S·帕拉萨德;E·R·武泰斯;J-J·顿亚什 -专利权人：萨默费尼根有限公司
申请日： 2021-02-07 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： H01J49/28 文献下载
摘要：本发明描述了使用离子迁移分离来改进质谱仪的占空比。在一个方面中，质谱仪可使用离子迁移光谱仪来允许输送通过的多电荷离子比单电荷离子多。这使得质量分析仪利用更多的多电荷离子执行质量分析。
利用离子迁移分离质谱仪改进

[发明专利]将金属着色的方法和着色金属-CN202210367783.1在审
发明人： P·维利;J·麦尔;A·布尔梅 -专利权人：柯马杜股份有限公司
申请日： 2022-04-02 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： C23C14/48 文献下载
摘要：本发明涉及一种将金属制成的待处理部件(20)着色的方法，该方法包括步骤：通过将由单电荷或多电荷离子源产生的单电荷或多电荷离子束导向该待处理部件(20)，在待处理部件(20)的表面层中注入单电荷或多电荷离子，待处理部件(20)在该离子注入的影响下改变颜色。
金属着色方法

[发明专利]蓝色反射玻璃基板及其制造方法-CN201780022685.1在审
发明人： B·纳维特;P·布朗热;D·巴萨杜 -专利权人：旭硝子欧洲玻璃公司;旭硝子玻璃北美公司;AGC株式会社;奎尔技术工程公司
申请日： 2017-03-13 - 公布日： 2019-07-02 - 主分类号： C03C23/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于通过离子注入制造蓝色反射玻璃基板的方法，所述方法包括电离化N₂源气体以便形成N的单电荷和多电荷离子的混合物，通过用包括在15kV与35kV之间的加速电压A加速以及包括在‑9.33×10¹⁵×A/kV+3.87×10¹⁷个离子/cm²与7.50×10¹⁷个离子/cm²之间的剂量D来形成N的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及蓝色反射玻璃基板，所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
多电荷离子离子反射玻璃单电荷基板混合物玻璃基板加速电压电离化源气体制造

[发明专利]中性色减反射玻璃基板及其制造方法-CN201780022706.X有效
发明人： B·纳维特;P·布朗热;D·巴萨杜 -专利权人：旭硝子欧洲玻璃公司;旭硝子玻璃北美公司;旭硝子株式会社;奎尔技术工程公司
申请日： 2017-03-13 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： C03C23/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于通过离子注入制造中性色减反射玻璃基板的方法，所述方法包括电离化N2源气体以便形成N的单电荷和多电荷离子的混合物，通过用包括在20kV与25kV之间的加速电压A加速并且将离子剂量设定为包括在6×1016个离子/cm2与‑5.00×1015×A/kV+2.00×1017个离子/cm2之间的值来形成N的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及中性色减反射玻璃基板，所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
中性反射玻璃及其制造方法

[发明专利]减反射、耐划伤玻璃基板及其制造方法-CN201780022716.3有效
发明人： B·纳维特;P·鲍兰格;D·巴萨多 -专利权人：旭硝子欧洲玻璃公司;旭硝子玻璃北美公司;AGC株式会社;奎尔技术工程公司
申请日： 2017-03-13 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： C03C23/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于通过离子注入制造耐划伤、减反射玻璃基板的方法，所述方法包括电离化N2的源气体以便形成N的单电荷和多电荷离子的混合物，通过用包括在20kV与30kV之间的加速电压加速和包括在5×1016个离子/cm2与1017个离子/cm2之间的离子剂量来形成N的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及耐划伤、减反射玻璃基板，所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
反射划伤玻璃及其制造方法

[发明专利]陶瓷粉末的颗粒表面处理方法和通过所述方法得到的陶瓷粉末颗粒-CN201811128433.X有效
发明人： C·米克;J-L·巴赞 -专利权人：斯沃奇集团研究和开发有限公司
申请日： 2018-09-27 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： C04B35/626 文献下载
摘要：本发明涉及粉末形式的陶瓷材料的表面处理方法，所述方法包括步骤：提供由多个待处理陶瓷材料颗粒形成的粉末，和通过将通过单电荷或多电荷离子源，例如电子回旋共振ECR类型的单电荷或多电荷离子源产生的单电荷或多电荷离子束(14)送向所述颗粒的外表面而使所述陶瓷粉末颗粒经受离子注入过程，所述颗粒具有通常多面体形状。
陶瓷粉末颗粒表面处理方法通过得到

[发明专利]具有减少的内部反射率的玻璃基板及其制造方法-CN201780022707.4在审
发明人： B·纳维特;P·布朗热 -专利权人：旭硝子欧洲玻璃公司;旭硝子玻璃北美公司;旭硝子株式会社;奎尔技术工程公司
申请日： 2017-03-13 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： C03C23/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于通过离子注入制造具有减少的内部反射率的玻璃基板的方法，所述方法包括电离化N₂、O₂、Ar和/或He的源气体以便形成N、O、Ar和/或He的单电荷和多电荷离子的混合物，通过用包括在15kV与60kV之间的加速电压加速和包括在10¹⁷个离子/cm²与10¹⁸个离子/cm²之间的离子剂量来形成N、O、Ar和/或He的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及具有减少的内部反射率的玻璃基板，所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
玻璃基板离子多电荷离子单电荷反射率混合物加速电压电离化源气体制造

[发明专利]将单电荷或多电荷离子注入待处理对象表面的方法及实现该方法的装置-CN201880002606.5有效
发明人： P·维利;R·科尚德;J-L·巴赞;C·米科;A·库尔 -专利权人：斯沃奇集团研究和开发有限公司
申请日： 2018-04-12 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： H01J27/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于在被处理对象(30)的表面上注入多电荷离子的方法，该方法包括以下步骤：将由电子回旋共振ECR型多电荷离子源(1)产生的多电荷离子束(12)导向被处理对象(30)的表面，所述方法还包括以下步骤：产生至少一个一次电子束(28)并引导所述一次电子束(28)以使其穿过多电荷离子束(12)。
电荷离子注入处理对象表面方法实现装置

[发明专利]可热处理的减反射玻璃基板及其制造方法-CN201780022718.2在审
发明人： B·纳维特;P·鲍兰格 -专利权人：旭硝子欧洲玻璃公司;旭硝子玻璃北美公司;旭硝子株式会社;奎尔技术工程公司
申请日： 2017-03-13 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： C03C23/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于通过离子注入制造可热处理的减反射玻璃基板的方法，所述方法包括选择N₂、O₂、或Ar的源气体，电离化所述源气体以便形成Ar、N、或O的单电荷和多电荷离子的混合物，通过用包括在15kV与60kV之间的加速电压加速并且将离子剂量设定为包括在7.5×10¹⁶与7.5×10¹⁷个离子/cm²之间的值来形成Ar、N、或O的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及可热处理的以及经热处理的减反射玻璃基板，所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
热处理多电荷离子减反射玻璃离子单电荷基板混合物源气体玻璃基板加速电压电离化制造

[发明专利]减反射玻璃基板及其制造方法-CN201780022712.5有效
发明人： B·纳维特;P·鲍兰格;D·巴萨多 -专利权人：旭硝子欧洲玻璃公司;旭硝子玻璃北美公司;旭硝子株式会社;奎尔技术工程公司
申请日： 2017-03-13 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： C03C23/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于通过离子注入制造减反射玻璃基板的方法，所述方法包括选择N2或O2的源气体，电离化所述源气体以便形成N或O的单电荷和多电荷离子的混合物，通过用包括在13kV与40kV之间的加速电压A加速并且将离子剂量设定为包括在5.56×1014×A/kV+4.78×1016个离子/cm2与‑2.22×1016×A/kV+1.09×1018个离子/cm2之间的值来形成N或O的单电荷和多电荷离子束。本发明进一步涉及减反射玻璃基板，所述玻璃基板包括根据此方法通过用单电荷和多电荷离子的混合物进行离子注入而处理的区域。
反射玻璃及其制造方法

[发明专利]用于抗微生物剂敏感性测试的测定和试剂-CN201980059565.8在审
发明人： B·斯皮尔斯;K·弗伦蒂 -专利权人：赛录科试诊断公司
申请日： 2019-07-09 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： B01J20/04 文献下载
摘要：提供了用于抗微生物剂敏感性测试(AST)的系统和方法，其中考虑了微生物的阴离子电荷的变化。阳离子表面活性剂可以用于使原本抗性的微生物对多阳离子抗生素(如多粘菌素)敏感。由于微生物通过减少表面阴离子电荷的突变获得多阳离子抗生素抗性，微生物对多阳离子抗生素的敏感性可以是其表面电荷的指示。为了能够与微生物表面静电相互作用，可以应用阳离子表面活性剂以增加微生物的阴离子电荷。
用于抗微生物剂敏感性测试测定试剂

[发明专利]一种同时测量同位素丰度与杂质含量的质谱系统与方法-CN202110302534.X有效
发明人：姜山 -专利权人：启先核（北京）科技有限公司
申请日： 2021-03-22 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： G01N30/72 文献下载
摘要：本发明提供一种同时测量同位素丰度与杂质含量的质谱系统与方法，质谱系统包括：离子源系统，用于进样和引出多电荷态的离子束流；加速度子系统，用于对多电荷态离子进行加速、同时将多电荷态离子在能量和动量进行聚焦和分析；以及探测器子系统，用于检测同位素离子的束流、区分两种同量异位素以及区分两种具有相同质荷比的离子。本发明利用多电荷态的电子回旋共振离子源能够瓦解所有分子离子，利用薄膜吸收技术和单粒子能量探测技术能够分辨同量异位素离子，从而显著提高了同位素丰度测量的灵敏度，降低了对每一种元素的检测下限，能够实现材料或样品中同位素丰度比值和杂质含量的同时
一种同时测量同位素杂质含量谱系方法

[发明专利]一种无机质谱仪-CN201910948022.3在审
发明人：姜山 -专利权人：姜山
申请日： 2019-10-08 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： H01J49/26 文献下载
摘要：本发明公开一种无机质谱仪，是一种基于多电荷态离子源的无机质谱仪器，具体结构包括：多电荷态离子源，前端分析系统、后端分系统和离子探测器。所述多电荷态离子源与前端分析系统相连接，所述前端分析系统与后端分析系统相连接，所述的后端分析系统与离子探测器相连接。
一种无机质谱仪

[发明专利]一种二次离子质谱的一次离子源-CN201010222243.1无效
发明人：王亮;徐福兴;丁传凡 -专利权人：复旦大学
申请日： 2010-07-09 - 公布日： 2010-11-24 - 主分类号： H01J49/10 文献下载
摘要：本发明属于分析技术领域，具体为一种二次离子质谱的一次离子源。具体采用带多电荷的较大分子化合物的离子作为二次离子质谱的一次离子源。二次离子质谱中，二次离子的离子化效率和对样品深度的分析能力取决于一次离子的能量。带多电荷的一次离子，相比于传统的带单电荷的一次离子，能在相同加速电场下获得更大的动能，从而提高二次离子的离子化效率，优化了仪器结构。本发明给出的实验系统具有结构简单，操作方便，造价便宜等优点。
一种二次离子一次离子源

[发明专利]金属粉末的颗粒的表面处理方法及由此获得的金属粉末颗粒-CN201880045385.X在审
发明人： C·米科;J-L·贝津 -专利权人：斯沃奇集团研究和开发有限公司
申请日： 2018-06-21 - 公布日： 2020-03-06 - 主分类号： C23C14/48 文献下载
摘要：本发明涉及一种对金属粉末材料进行表面处理的方法，所述方法包括以下步骤：提供由多个待处理金属材料的颗粒形成的粉末，并通过将由例如电子回旋共振(ECR)型的单电荷或多电荷离子源产生的单电荷或多电荷离子束(14)引向所述颗粒的外表面对所述金属粉末进行离子注入过程，其中所述颗粒具有半径为R的总体球形。
金属粉末颗粒表面处理方法由此获得

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