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- [发明专利]产品良率分析系统及方法-CN200510130508.4有效
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林宸霆;吴志宏;李美彦
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台湾积体电路制造股份有限公司
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2005-12-13
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2006-06-21
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G06F17/00
- 本发明提供一种产品良率分析系统及方法，所述产品良率分析系统，包括下述互相耦合的多个装置。其中一晶圆测试结果撷取装置撷取晶圆测试数据后，由一晶圆缺陷图产生装置据以产生晶圆缺陷图。再由一整合良率计算装置依据上述测试结果数据，计算整合良率值。再由一区域性系统良率计算装置及重复性系统良率计算装置依据上述测试结果数据及晶圆缺陷图，分别计算上述晶圆的区域性系统良率值及重复性系统良率值。最后由一随机良率计算装置依据上述产品整合良率值、上述区域性系统良率值计算重复性系统良率值。本发明能够依据其良率损失的原因的不同，进一步将上述系统良率值分析为区域性系统良率值及重复性系统良率值。
- 产品分析系统方法
- [发明专利]重复性缺陷的筛选方法-CN201710987031.4有效
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陈超;郭贤权;许向辉;陈昊瑜
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上海华力微电子有限公司
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2017-10-20
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2020-04-10
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H01L21/66
- 本发明的一种重复性缺陷的筛选方法，包括：获取晶圆的缺陷分布数据；以晶粒为重复单元，计算出缺陷的第一重复性合集及其在晶粒中的坐标；以光罩为重复单元，计算出缺陷的第二重复性合集，并计算第二重复性合集中各缺陷对应于以晶粒为重复单元的坐标；匹配第二重复性合集中各缺陷以晶粒重复单元的坐标与第一重复性合集中各缺陷的坐标，计算坐标相同的缺陷在各自重复性合集中重复的次数，并计算两次数的差值与第二重复性合集中次数的比值k；如果k等于零或小于设定阈值k0，则确认该缺陷为重复性缺陷。本发明中，提高筛选所得到的光罩引入缺陷信息的准确率，从而降低漏检风险，提升良率。
- 重复性缺陷筛选方法
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