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[发明专利]一种硅氧氮烷聚合物的制备方法-CN201910164853.1有效
发明人：罗永明;艾丽青;徐彩虹;李永明;张宗波 -专利权人：中国科学院化学研究所
申请日： 2019-03-05 - 公布日： 2021-08-03 - 主分类号： C08G77/48 文献下载
摘要：本发明属于聚合物技术领域，具体涉及一种硅氧氮烷聚合物的制备方法。将含烷氧基二硅氮烷或含烷氧基环二硅氮烷与含氢硅氧烷或含氢硅烷进行反应、或者含氢二硅氮烷与含烷氧基硅氧烷或含烷氧基硅烷进行反应，即可得到硅氧氮烷聚合物。本发明采用分别含有烷氧基和硅氢基团的反应单体聚合反应生成特定结构的硅氧氮烷聚合物，反应条件温和，反应时间短，得到的硅氧氮烷聚合物结构较易控制，产物容易分离。
一种硅氧氮烷聚合物制备方法

[发明专利]一种聚硅氮烷材料的制备方法及应用-CN201910097510.8有效
发明人：康文兵 -专利权人：大晶信息化学品（徐州）有限公司
申请日： 2019-01-31 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： C08G77/62 文献下载
摘要：本发明涉及高分子材料领域，具体涉及一种聚硅氮烷材料的制备方法及应用。具体步骤为：通过预定的合成方法获得第一聚硅氮烷溶液；将所述第一聚硅氮烷吡啶溶液加入有机溶剂进行稀释，获得第二聚硅氮烷溶液；向所述第二聚硅氮烷吡啶溶液中加入引发剂，搅拌反应获得聚硅氮烷材料。该制备方法通过在聚硅氮烷溶液中加入可以产生自由基的引发剂，促进了小分子聚硅氮烷之间的交联反应，反应条件温和，且进一步提高了聚硅氮烷材料的分子量。
一种聚硅氮烷材料制备方法应用

[实用新型]一种六甲基二硅氮烷的碱洗装置-CN202020340321.7有效
发明人：何鸿杰 -专利权人：吉安永翔硅业新材料有限公司
申请日： 2020-03-17 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： B01J4/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及化工碱洗设备技术领域，且公开了一种六甲基二硅氮烷的碱洗装置，包括支座，所述支座的内底壁固定安装有放置箱，所述支座的内壁左侧固定安装有六甲基二硅氮烷箱，所述支座的内壁右侧固定安装有与六甲基二硅氮烷箱相对应的液碱箱，所述六甲基二硅氮烷箱与液碱箱的连接处转动连接有转杆，所述转杆的底部固定连接有转动开关。该六甲基二硅氮烷的碱洗装置，通过转动转杆，让六甲基二硅氮烷和液碱同时流出，在凸起作用下充分融合，通过搅拌棒的转动，使得六甲基二硅氮烷和液碱加速融合，通过阀体转动，使得六甲基二硅氮烷与杂质能分离，解决了接触面积小
一种甲基二硅氮烷装置

[发明专利]制造硅质膜的方法和用于该方法的聚硅氮烷膜处理液-CN201080039326.5有效
发明人：尾崎祐树;林昌伸 -专利权人： AZ电子材料(日本)株式会社
申请日： 2010-09-02 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： H01L21/316 文献下载
摘要：本发明提供了一种形成硅质膜的方法。根据该方法，在低温下可以由聚硅氮烷化合物形成具有亲水性表面的硅质膜。在该方法中，在基板表面上涂布含有聚硅氮烷化合物和二氧化硅转化反应加速剂的组合物以形成聚硅氮烷膜，然后在其上涂布聚硅氮烷膜处理液以使聚硅氮烷化合物在300℃以下转化为硅质膜。该聚硅氮烷膜处理液含有溶剂、过氧化氢和醇。
制造质膜方法用于聚硅氮烷膜处理

[发明专利]一种六甲基二硅氮烷合成方法-CN201210252719.5有效
发明人：赵志全;孙颖;夏燕 -专利权人：山东新时代药业有限公司
申请日： 2012-07-15 - 公布日： 2012-11-07 - 主分类号： C07F7/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种六甲基二硅氮烷的合成方法，采用混合溶剂法一步氨化反应合成六甲基二硅氮烷，反应体系中六甲基二硅氧烷的加入会抑制六甲基二硅氮烷水解副反应的发生，提高反应收率。该工艺收率高，反应时间短，精馏耗能少，降低了六甲基二硅氮烷的生产成本，具有较大的产业化优势。
一种甲基二硅氮烷合成方法

[发明专利]聚硅氮烷、包含其的硅质膜形成用组合物以及使用其制造硅质膜的方法-CN202180067814.5在审
发明人：铃木胜力;冈村聪也;冈安哲雄;T·方姆史坦 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2021-09-29 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C09D183/16 文献下载
摘要：一种聚硅氮烷，当测量溶解于二甲苯的17质量％的聚硅氮烷溶液的1H‑NMR时，以二甲苯的芳环氢的量为基准，该聚硅氮烷的SiH3硅质膜形成用组合物，其包含该聚硅氮烷。一种制造硅质膜的方法，包括将聚硅氮烷组合物施涂在基材上方。
聚硅氮烷包含质膜形成组合以及使用制造方法

[发明专利]聚硅氮烷的制备方法-CN88108250.3无效
发明人：迪罗·威斯;汉斯-杰尔·克来诺;玛塞鲁斯·波克特;马丁·布吕克 -专利权人：赫彻斯特股份公司
申请日： 1988-12-02 - 公布日： 1993-06-30 - 主分类号： C08G77/62 文献下载
摘要：本发明涉及新型聚硅氮烷、其制备方法、将其进一步加工成含四氯化三硅的陶瓷材料的方法和该陶瓷材料本身。为了制备该聚硅氮烷，用结构式为RSiC12-NR1-SiCl2R的Si，Si1-二有机基-N-烷基-四氯-二硅氮烷与氨反应。然后可将该聚硅氮烷热解为含四氮化三硅的陶瓷材料。本发明的聚硅氮烷溶于通常的质子惰性溶剂。
聚硅氮烷制备方法

[发明专利]一种电子级六甲基二硅氮烷的制备方法-CN202310884635.1在审
发明人：颜华红;楼嘉琪;陈繁荣;王涛 -专利权人：浙江硕而博化工有限公司
申请日： 2023-07-19 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C07F7/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种电子级六甲基二硅氮烷的制备方法，包括步骤：S1，以工业级六甲基二硅氮烷为原料，将其通入多级微孔膜耦合吸附单元中通过吸附脱除金属离子；S2，多级微孔膜耦合吸附单元排出的物料进入脱轻精馏塔内脱除轻组分，所述脱轻精馏塔采用硅氮烷亚沸点精馏操作；S3，经脱轻处理后的六甲基二硅氮烷进入脱重精馏塔精馏提纯、脱除重组分，所述脱重精馏塔采用硅氮烷亚沸点精馏操作；S4，经脱重处理后的六甲基二硅氮烷进入过滤器进行过滤除杂，经所述过滤器过滤除杂后得到电子级六甲基二硅氮烷，本发明所述的电子级六甲基二硅氮烷的制备方法具有生产操作过程简单、精制提纯效果佳、污染小、产物利用度高、能耗低的优点。
一种电子甲基二硅氮烷制备方法

[发明专利]六苯基环三硅氮烷的制备方法-CN201711433291.3在审
发明人：龙玲;邹振 -专利权人：四川银邦新材料有限公司
申请日： 2017-12-26 - 公布日： 2018-04-13 - 主分类号： C07F7/21 文献下载
摘要：本发明公开了六苯基环三硅氮烷的制备方法，包括以下步骤1)、六苯基环三硅氮烷的合成以二氯二苯基硅烷为反应原料，经溶剂溶解后，在搅拌条件下缓慢通入氨气，加热升温回流7‑10小时，获得含有氯化铵杂质的六苯基环三硅氮烷溶液；2)、六苯基环三硅氮烷的提纯将步骤1)获得的六苯基环三硅氮烷溶液趁热过滤，滤渣为氯化铵，滤液减压蒸馏，减压蒸馏后用氨水析出六苯基环三硅氮烷，然后过滤烘干。通过本发明所述方法制备的六苯基环三硅氮烷纯度高、收率高。
苯基环三硅氮烷制备方法

[发明专利]一种六甲基环三硅氮烷的制备方法-CN201610744019.6在审
发明人：陈晓华;岳立;时二波;刘磊;韩文玉;戴建才;刘祖峰;杨波 -专利权人：张家港市国泰华荣化工新材料有限公司
申请日： 2016-08-29 - 公布日： 2018-03-09 - 主分类号： C07F7/21 文献下载
摘要：本发明公开了一种六甲基环三硅氮烷的制备方法，包括以下步骤（1）先将二甲基二氯硅烷、有机溶剂及八甲基环四硅氮烷一起加入反应釜中，接着在(‑20~20)℃通入氨气，然后将温度控制在(‑30~30)℃反应，得到含有六甲基环三硅氮烷、八甲基环四硅氮烷及氯化铵的反应液；（2）接着向反应釜内加入碱性水，然后静置分液，取含有六甲基环三硅氮烷与八甲基环四硅氮烷的上层反应液；（3）接着对步骤（2）中分液获得的上层反应液进行减压精馏，得到六甲基环三硅氮烷本发明的优点是反应选择性好、副产物少、收率高，六甲基环三硅氮烷的摩尔收率不低于82%。
一种甲基环三硅氮烷制备方法

[发明专利]一种室温等离子体固化的聚硅氮烷涂层及其制备方法和应用-CN201810291418.0在审
发明人：艾娇艳;王元兵;武放舟 -专利权人：广东工业大学;广州弘海化工科技有限公司
申请日： 2018-04-03 - 公布日： 2018-10-26 - 主分类号： C09D183/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种室温等离子体固化的聚硅氮烷涂层及其制备方法和应用。所述聚硅氮烷涂层的原料包括聚硅氮烷、溶剂、填料、催化剂和添加剂；所述聚硅氮烷为无机聚硅氮烷、有机聚硅氮烷或改性的超支化聚硅氮烷中的一种以上。本发明的聚硅氮烷涂层具有良好的热稳定性和阻隔性，其与聚合物基体表面的粘结性好，能有效地保护基体免受环境水汽、氧气、酸、碱的腐蚀。本发明的聚硅氮烷涂层经室温等离子体固化后可提高聚合物基材的阻隔性能、阻燃性能、耐刮擦性、耐热性能、耐辐射和耐紫外光的性能。本发明的聚硅氮烷涂层经等离子体固化后转化成了二氧化硅涂层，施工工艺简便，容易实现连续化工艺，有利于转化为二氧化硅致密涂层。
聚硅氮烷等离子体固化制备方法和应用聚合物基体表面二氧化硅涂层无机聚硅氮烷有机聚硅氮烷聚合物基材二氧化硅耐刮擦性耐热性能耐紫外光热稳定性施工工艺致密涂层阻隔性能阻燃性能水汽超支化连续化耐辐射有效地粘结性阻隔性改性溶剂催化剂添加剂氧气转化腐蚀

[发明专利]一种含环硼氮烷的硅硼氮烷陶瓷前驱体聚合物、制备方法及其应用-CN201810384994.X有效
发明人：齐会民;王帆;朱亚平;郭康康;彭翔 -专利权人：华东理工大学
申请日： 2018-04-26 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： C08G79/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种含环硼氮烷的硅硼氮烷陶瓷前驱体聚合物、制备方法及其应用。本发明所述的含环硼氮烷的硅硼氮烷陶瓷前驱体聚合物的结构特征是在聚合物分子链中含有环硼氮烷和硅氮烷结构。该陶瓷前驱体聚合物的制备方法是以氯化铵、有机伯胺、三卤化硼、二氯硅烷和氨气为主要原料，在隋性气体保护下分三步反应合成硅硼氮烷陶瓷前驱体聚合物。首先氯化铵或有机伯胺与三卤化硼反应合成三氯环硼氮烷，然后将三氯环硼氮烷与烃基溴化镁格氏试剂反应得到烃基取代的氯代环硼氮烷，再与二氯硅烷共氨解合成硅硼氮烷陶瓷前驱体聚合物。本发明的含环硼氮烷的硅硼氮烷陶瓷前驱体聚合物为无色或浅黄色粘稠状液体，可溶于常用溶剂，工艺性能优良。前驱体聚合物固化物可热解转化陶瓷，陶瓷产率高，可用于制备硅硼氮陶瓷基复合材料。
一种含环硼氮烷硅硼氮烷陶瓷前驱聚合物制备方法及其应用

[发明专利]氯二硅氮烷-CN202211155402.X在审
发明人： B·K·黄;B·D·瑞肯;M·D·特拉根豪福;X·周 -专利权人：美国陶氏有机硅公司
申请日： 2017-09-21 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： C01B33/107 文献下载
摘要：本发明公开了氯二硅氮烷；由其合成的硅杂原子化合物；含有所述硅杂原子化合物的器件；制备所述氯二硅氮烷、所述硅杂原子化合物和所述器件的方法；以及所述氯二硅氮烷、所述硅杂原子化合物和所述器件的用途。
氯二硅氮烷

[发明专利]氯二硅氮烷-CN201780058710.1有效
发明人： B·K·黄;B·D·瑞肯;M·D·特拉根豪福;X·周 -专利权人：美国陶氏有机硅公司
申请日： 2017-09-21 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： C01B33/107 文献下载
摘要：本发明公开了氯二硅氮烷；由其合成的硅杂原子化合物；含有所述硅杂原子化合物的器件；制备所述氯二硅氮烷、所述硅杂原子化合物和所述器件的方法；以及所述氯二硅氮烷、所述硅杂原子化合物和所述器件的用途。
氯二硅氮烷

[发明专利]含四氮化三硅的陶瓷材料和其制备方法-CN91103490.0无效
发明人：迪罗·威斯;汉斯-杰尔·克来诺;玛塞鲁斯·波克特;马丁·布吕克 -专利权人：赫彻斯特股份公司
申请日： 1988-12-02 - 公布日： 1994-02-16 - 主分类号： C01B21/068 文献下载
摘要：本发明涉及由新型聚硅氮烷加工成含四氮化三硅的陶瓷材料的方法和该陶瓷材料本身。为了制备该聚硅氮烷，用结构式为RSiCl2-NR′-SiCl2R的Si，Si′-二有机基-N-烷基-四氯-二硅氮烷与氨反应。然后可将该聚硅氮烷热解为含四氮化三硅的陶瓷材料。
氮化陶瓷材料制备方法

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