专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [外观设计]聚能管顶端-CN202130303685.8有效
  • 张友明;张书豪 - 张友明
  • 2021-05-20 - 2021-11-16 - 22-03
  • 1.本外观设计产品的名称:聚能管顶端盖。2.本外观设计产品的用途:套在聚能管顶端,密封聚能管内的炸药,同时能够实现多个聚能管互相连接起来使用。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。
  • 聚能管顶端
  • [发明专利]内窥镜顶端部件及内窥镜-CN201280025335.8有效
  • 高头英泰;加茂裕二;辻善文 - 奥林巴斯医疗株式会社
  • 2012-12-10 - 2014-02-05 - G02B13/00
  • 提供一种内窥镜顶端部件(1),其包括顶端部件主体(4)和顶端透镜(5),该顶端部件主体(4)安装于内窥镜(2)的插入部(3)的顶端,该顶端透镜(5)通过双色成形一体形成于该顶端部件主体(4),具有正焦度并由透明树脂构成,该顶端透镜(5)是在构成内窥镜(2)的照明光学系统(9)的光学构件中配置在最靠物体侧的透镜,在顶端部件主体(4)设有供与顶端透镜(5)后续连接的两片具有正的焦度的后续透镜(11、12)插入的插入孔(13
  • 内窥镜顶端部件
  • [实用新型]容器连接结构-CN201220556059.5有效
  • 林沛缇 - 林沛缇
  • 2012-10-29 - 2013-07-03 - B65D8/04
  • 一种容器连接结构,其包含有两端分别具有顶端开口部与封闭部的容置单元;以及一与顶端开口部结合的顶端边框,该顶端边框的一面上设有与顶端开口部周缘固接的第一嵌槽。该容置单元的顶、底端也可分别设有顶端开口部和底端开口部,且顶端开口部和底端开口部分别结合有顶端边框或底端边框。藉此,可将容器的边框与容置单元分开制作,并使边框利用组装的方式与容置单元的开口部周缘结合,而达到快速组装、稳固结合以及增加容器挺度的功效。
  • 容器连接结构
  • [实用新型]一种下排地漏-CN202320371149.5有效
  • 张荣誉;曹进锋;王兴东 - 厦门瑞尔特卫浴科技股份有限公司
  • 2023-03-02 - 2023-06-27 - E03F5/04
  • 本实用新型公开了一种下排地漏,包括:主壳体,具有内腔和与所述内腔相通的顶端开口和底端开口;水封件,设于所述内腔中并与所述主壳体之间形成水封;支管接头,具有顶端开口、底端开口和侧开口,所述支管接头可供选择地安装在所述主壳体的顶端开口处,所述支管接头的底端开口用于与所述主壳体的顶端开口相接通;地漏盖,用于盖接所述主壳体的顶端开口或所述支管接头的顶端开口
  • 一种地漏
  • [发明专利]顶端抗反射涂料聚合物、制法及顶端抗反射涂料组合物-CN200510051901.4有效
  • 郑傤昌 - 海力士半导体有限公司
  • 2005-02-18 - 2005-11-02 - C08F220/18
  • 本发明公开了一种用于光刻法的顶端抗反射涂料聚合物,一种制备该抗反射涂料聚合物的方法及含有该抗反射涂料聚合物的抗反射涂料组合物,其中该光刻法是半导体器件制造方法中的一种。具体地说,该顶端抗反射涂料聚合物用于制造亚-50纳米半导体器件的浸没式光刻。该顶端抗反射涂料聚合物由上式1表示。由于使用该抗反射涂料聚合物形成的顶端抗反射涂层不溶于水中,因此其可应用于使用水作为光源介质的浸没式光刻中。此外,由于该顶端抗反射涂层可降低来自下层的反射,改善了CD的均匀性,因而可形成超细图样。
  • 顶端反射涂料聚合物制法组合
  • [发明专利]顶端抗反射涂料聚合物、制法及顶端抗反射涂料组合物-CN200510062817.2无效
  • 郑傤昌 - 海力士半导体有限公司
  • 2005-03-31 - 2006-01-11 - G03F7/00
  • 本发明公开了一种用于光刻法的顶端抗反射涂料聚合物,一种制备该抗反射涂料聚合物的方法及含有该抗反射涂料聚合物的抗反射涂料组合物,其中该光刻法是半导体器件制造方法中的一种。具体地说,该顶端抗反射涂料聚合物用于制造亚-50纳米半导体器件的浸没式光刻。该顶端抗反射涂料聚合物由上式1表示。由于使用该抗反射涂料聚合物形成的顶端抗反射涂层不溶于水中,因此其可应用于使用水作为光源介质的浸没式光刻中。此外,由于该顶端抗反射涂层可降低来自下层的反射,改善了CD的均匀性,因而可形成超细图样。
  • 顶端反射涂料聚合物制法组合
  • [实用新型]一种液体样品冰融测试装置-CN201420681793.3有效
  • 杨有铭;王博;马春香 - 中国石油天然气股份有限公司
  • 2014-11-12 - 2015-04-08 - G01N25/02
  • 一种液体样品冰融测试装置,包括:冰冻器,包括冰冻腔室和封底,所述冰冻腔室为包括顶端开口和底端开口的中空腔体结构,所述底端开口大于或等于所述顶端开口,所述封底与所述底端开口可拆卸密封连接,所述封底与所述底端开口分别具有一封底连接位置和一封底拆分位置;融化器,包括融化腔室,所述融化腔室为具有一融化顶端开口的罐体结构,所述融化顶端开口大于所述底端开口,所述融化器与所述冰冻器分别具有一连接位置和一拆分位置;以及连接机构,分别与所述底端开口和所述融化顶端开口可拆卸连接
  • 一种液体样品测试装置

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