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[发明专利]一种Zn_1-xMg_xO基异质结及其制备方法-CN201210541857.5有效
发明人：曹铃;王金平;崔艳霞;陈彬;刘瑞萍 -专利权人：太原理工大学
申请日： 2012-12-14 - 公布日： 2013-04-24 - 主分类号： H01L33/02 文献下载
摘要：其所述异质结是由衬底上的n-Zn1-xMgxO薄膜层和p-Ni1-yMgyO薄膜层构成；其所述方法是将ZnO和MgO与Al2O3或Ga2O3粉末混合后压制成型并烧结，制得掺Al或Ga的Zn1-xMgxO陶瓷靶材；将NiO、MgO和Li2CO3粉末混合后压制成型并烧结，制得掺Li的Ni1-xMgxO陶瓷靶材；将衬底置于脉冲激光沉积装置，调整靶材与衬底间距离，在适当的衬底温度、氧气压强和激光频率下，以掺Al或Ga的Zn1-xMgxO陶瓷靶为溅射靶材，在衬底上沉积n-Zn1-xMgxO薄膜层；然后以掺Li的Ni1-xMgxO陶瓷靶为溅射靶材，在n-Zn1-xMgxO薄膜层上沉积p-Ni1-yMgyO薄膜层，获得Zn1
一种 zn sub mg 基异质结及其制备方法

[发明专利]一种具有环状结构的防弹陶瓷片、防弹靶板及其制备方法-CN201810103292.X在审
发明人：高朋召;高波;吴传清;林明清;张远军;颜进;林海军 -专利权人：湖南中泰特种装备有限责任公司
申请日： 2018-02-01 - 公布日： 2018-06-15 - 主分类号： C04B35/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有环状结构的防弹陶瓷片、防弹靶板及其制备方法，所述防弹陶瓷片为圆形，由中心陶瓷圆片和多组圆环嵌套而成，且多组圆环的内径依次增加。所述防弹靶板，包括具有环形结构的防弹陶瓷片和PE背板，防弹陶瓷片均匀分布在所述PE背板上。本发明的防弹陶瓷片引入环状结构设计，可提高其防弹性能；在Al2O3粉料中引入一定量TiO2和MgO粉料，实现低温烧结；引入一定的3Y‑ZrO2，实现增韧；环间填充混合粉末的存在，通过烧结，可将陶瓷片、陶瓷环和异形件粘接起来
防弹陶瓷片环状结构防弹靶板制备背板粉料圆环引入嵌套低温烧结防弹性能环形结构混合粉末质量稳定中心陶瓷烧结防弹板陶瓷环陶瓷片异形件原料粉圆片增韧粘接生产工艺填充制作

[发明专利]陶瓷板真空溅射镀膜装置及其镀膜方法-CN201911221862.6在审
发明人：王维昀;王新强;李永德;王后锦;袁冶;康俊杰 -专利权人：松山湖材料实验室
申请日： 2019-12-03 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种陶瓷板真空溅射镀膜装置及其镀膜方法，陶瓷板真空溅射镀膜装置包括真空腔室、公转工件架、内侧圆柱溅射靶、内侧平面溅射靶、内侧离子源、外侧圆柱溅射靶、外侧平面溅射靶和外侧离子源；内、外侧离子源用于基片表面镀膜前清洁及辅助沉积，有效提升镀层与陶瓷基板的浸润性和结合力；内、外侧圆柱溅射靶和内、外侧平面溅射靶可以同时对平面状或弧面状的陶瓷基板进行单、双面镀膜加工，大大提升工作效率，而且是利用公转工件架的公转带动陶瓷基板移动，陶瓷基板无需自转，确保陶瓷基板与靶材的间隔的的恒定，有利于镀膜的均匀性，也使得待镀陶瓷基板与靶材及离子源之间可实现小间距设置，有效增强膜层附着力，镀膜效果好。
陶瓷基板离子源圆柱溅射靶溅射靶镀膜真空溅射镀膜外侧平面工件架陶瓷板靶材附着力恒定镀膜效果辅助沉积工作效率基片表面间距设置内侧平面双面镀膜真空腔室弧面状结合力浸润性均匀性平面状增强膜镀层自转清洁移动加工

[实用新型]一种用于X射线周向平靶陶瓷管的一体化阳极靶-CN201520601876.1有效
发明人：吴鹤林;卢建华 -专利权人：湖北省大冶市探伤机厂
申请日： 2015-08-12 - 公布日： 2015-12-30 - 主分类号： H01J35/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于X射线周向平靶陶瓷管的一体化阳极靶，包括有阳极靶基体和靶面，其中阳极靶基体呈圆柱状结构，具有无氧铜材质，靶面选用圆形的镜面钨板，并且阳极靶基体和靶面在铸靶模具中一次熔铸而成，靶面位于阳极靶基体的下端面上；在靠近阳极靶基体下端的侧面上设有焊接缝；本实用新型加工简单方便，产品的精确度和成品率均较高，生产成本低，热传导效率高，大大提高了X射线管的使用寿命，适用于工业推广运用。
一种用于射线陶瓷一体化阳极

[发明专利]钛酸锶钡陶瓷靶的制备方法-CN03116802.7无效
发明人：张汝冰;杨春生;冯洁 -专利权人：上海交通大学
申请日： 2003-05-08 - 公布日： 2003-10-15 - 主分类号： C04B35/465 文献下载
摘要：一种钛酸锶钡陶瓷靶的制备方法属于材料领域。烘干后进行热分解即得钛酸锶钡复合粉粉末；将得到的钛酸锶钡粉末经预处理后按化学计量比配料，经球磨机球磨粉碎后，放于硅碳棒炉中预烧；将预烧好的粉末经球磨机再粉碎后，由液压机压成块材，并进行等静压成型；放于硅碳棒炉中最终烧结，得到钛酸锶钡陶瓷靶本发明制备合成的钛酸锶钡粉体，具有高纯、超细、高均匀性和高活性，较好完全满足射频磁控溅射的要求，因此，本发明的钛酸锶钡陶瓷靶是一种很有应用前景的新型靶材。
钛酸锶钡陶瓷制备方法

[发明专利]柔性金属基底双靶共溅射连续镀制梯度金属陶瓷膜层方法-CN201110354715.3无效
发明人：赵慨;冯煜东;王艺;王志民;速小梅 -专利权人：中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所
申请日： 2011-11-10 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种柔性金属基底双靶共溅射连续镀制梯度金属陶瓷膜层方法，对柔性金属基底通过清洗活化处理并镀制金属反射膜层后；在镀制好的金属反射膜层上，连续镀制梯度M-Al2O3金属陶瓷膜层；本发明通过双靶共溅射的工艺使金属M粒子在Al2O3介质基体中的含量从金属陶瓷与金属分界面向金属陶瓷表面呈梯度减少；使带有金属陶瓷复合膜层的复合膜具有高吸收发射比和高效吸热的性能；而且可以一次连续卷绕镀制，实现了在柔性金属基底高反射金属膜上连续大面积镀制梯度金属陶瓷吸收膜层
柔性金属基底双靶共溅射连续梯度陶瓷膜方法

[发明专利]采用弹性金属纤维和石墨烯增强散热的旋转阳极CT球管-CN201510882765.7在审
发明人：盛兴;王瑞海;王宁红;寇建勇 -专利权人：中国电子科技集团公司第十二研究所
申请日： 2015-12-04 - 公布日： 2016-04-06 - 主分类号： H01J35/10 文献下载
摘要：所述CT球管主要包括管壳，连接于所述管壳内的旋转阳极靶以及位于管壳内且与旋转阳极靶位置相对应的阴极；旋转阳极靶通过轴承与管壳连接；管壳包括阴极陶瓷段和金属段，阴极陶瓷段为带中心孔的圆柱形结构，其两端分别加工有环形凹槽，位于金属段内的一端环形凹槽的槽深小于位于金属段外的一端环形凹槽的槽深，且位于金属段外一端环形凹槽内侧的端面低于外侧的端面；轴承滚珠腔内填充有纳米级石墨烯粉末，并在轴承滚珠腔的两端设置有挡片；旋转阳极靶靶头的表面与管壳的相对面之间设置有弹性金属纤维束，弹性金属纤维束与管壳和靶头均接触。
采用弹性金属纤维石墨增强散热旋转阳极 ct

[发明专利]一种低辐射玻璃的制作方法-CN201310718118.3无效
发明人：魏佳坤 -专利权人：揭阳市宏光镀膜玻璃有限公司
申请日： 2013-12-21 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： C03C17/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种低辐射玻璃的制作方法,其特征在于包括以下步骤：A、交流中频电源溅射陶瓷钛靶，在玻璃基板上磁控溅射TiO₂介质层；B、直流电源溅射铬平面靶，在TiO₂介质层上磁控溅射CrNx阻挡层；C、交流电源溅射掺铝氧化锌陶瓷旋转靶，在TiO₂介质层上磁控溅射AZO平整层；D、直流电源溅射银平面靶，在AZO平整层上磁控溅射Ag功能层；E、直流电源溅射，在Ag功能层上磁控溅射(NiCr)xOy层；F、交流中频电源溅射锡靶，在(NiCr)xOy层上磁控溅射SnO₂保护层；G、直流电流溅射石墨靶，在步SnO₂保护层上磁控溅射
一种辐射玻璃制作方法

[发明专利]靶材、靶材的制造方法及平板状靶-CN201580032190.8在审
发明人：世良佳弘;石田新太郎;矢野智泰 -专利权人：三井金属矿业株式会社
申请日： 2015-05-25 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：实施方式的靶材是平板状的陶瓷。该靶材供溅镀的溅镀面的表面粗糙度Ra为0.5μm以上1.5μm以下，且形成于溅镀面的微裂隙的最大深度为15μm以下。
靶材制造方法平板

[发明专利]耐磨陶瓷复合涂层和其制备方法-CN200680013077.6无效
发明人： K·山卡;A·G·克莱杰 -专利权人：标准航空有限公司
申请日： 2006-04-20 - 公布日： 2008-08-20 - 主分类号： C09D1/00 文献下载
摘要：通过热喷涂方法提供涂覆的制品，其中在制品的靶表面上沉积包括氧化物陶瓷和非氧化物陶瓷的原料以提供耐磨涂层。在热喷涂前通过混合碳化物和/或硼化物陶瓷粉末与氧化物陶瓷粉末提供原料。
耐磨陶瓷复合涂层制备方法

[发明专利]透明导电薄膜制备所用的靶材及导电薄膜和电极制造方法-CN200710065344.0有效
发明人：薛建设;林承武;梁珂 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2007-04-11 - 公布日： 2008-10-15 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种透明导电薄膜制备所用的靶材，靶材为AZO陶瓷，其中Al元素的含量在1at％－10at％，其他组分为ZnO。本发明同时公开透明导电薄膜的制造方法以及透明导电电极的制造方法。本发明通过利用资源丰富的Al和Zn代替资源稀缺高价格的In和Sn，制备二元陶瓷靶材，并利用磁控溅射或电子束蒸发AZO靶材的方法在基体上沉积薄膜，经过光刻和刻蚀作为FPD透明导电电极，能够降低成本，得到具有低的电阻率和优良的可见光透过率
透明导电薄膜制备所用电极制造方法

[发明专利]一种具有MAB相结构的MoAlB陶瓷薄膜及其制备方法-CN202211336629.4在审
发明人：张国君;张亚刚;谭长生 -专利权人：西安理工大学
申请日： 2022-10-28 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及表面处理技术领域，尤其涉及一种具有MAB相结构的MoAlB陶瓷薄膜及其制备方法，采用四靶磁控溅射离子镀和退火热处理两步法进行制备，具体步骤如下：S1，采用MoB2、Mo和双Al靶四靶体系在衬底材料上进行溅射沉积，获得沉积态薄膜；S2，对沉积态薄膜进行退火热处理，获得具有222型MAB相结构的晶态MoAlB陶瓷薄膜。本发明采用磁控溅射离子镀及退火热处理两步法能够在低温条件下获得具有MAB相结构的MoAlB陶瓷薄膜；同时可以实现对特定成分和微观结构MoAlB薄膜的可控制备，且工艺稳定、易于实现产业化生产。
一种具有 mab 结构 moalb 陶瓷薄膜及其制备方法

[发明专利]一种钙锶铝氧系列陶瓷靶材的制备方法-CN202310631411.X在审
发明人：马吉;张通;李俊宏;赵米;黄鑫;吴绮茜;孔睿琪 -专利权人：昆明理工大学
申请日： 2023-05-31 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： C04B35/44 文献下载
摘要：本发明公开一种钙锶铝氧系列陶瓷靶材的制备方法，将硝酸锶(四水硝酸钙)、九水硝酸铝、柠檬酸溶于去离子水溶剂中，其中，柠檬酸作为络合剂，乙二醇为分散剂，放置在恒温磁力搅拌器上，加热搅拌形成湿凝胶，放入干燥箱烘干；最后将凝胶研磨，预烧处理得到纳米粉体；将纳米粉体研磨并对其进行压片处理，再进行二次烧结即得锶钙铝氧系列陶瓷靶材。本发明采用溶剂凝胶法保证了各组分在分子级别的混合，得到的陶瓷靶材致密度好，成分、晶粒尺寸均一，此外，本法工艺简单，重复性好，选用的化学试剂价格低廉易得。
一种钙锶铝氧系列陶瓷制备方法

[发明专利]适用于EAST托卡马克装置全钨偏滤器的靶板探针系统-CN201410437565.6有效
发明人：许吉禅;王亮;徐国盛;罗广南;姚达毛;李建刚;李强;曹磊;张炜;陈良;刘少承;汪惠乾;冯威;郭后扬 -专利权人：中国科学院等离子体物理研究所
申请日： 2014-08-30 - 公布日： 2017-01-11 - 主分类号： G21B1/23 文献下载
摘要：本发明公开了一种适用于EAST托卡马克装置全钨偏滤器的靶板探针系统，全钨偏滤器上偏滤器钨靶板与Cassette水冷箱体通过销钉固定联接，探针部件包括陶瓷探针支撑座、石墨探针头、内核铜芯柱、内核螺母、接线螺钉、弹簧垫圈、陶瓷封块、引线；探针安装部件包括固定支撑条、顶紧螺钉、底部挡片。探针部件及其安装部件通过机械联接，把探针牢固地安装在偏滤器上，且保证石墨探针头的圆弧顶部刚好完全露出靶板表面。本发明由于采用了陶瓷外壳，使探针有非常好的绝缘性能，提高了探针的抗干扰性能；探针安装方法简便、易于操作，同时保证了探针的稳固性，不易受外界的影响产生松动，提高探针的诊断准确率。
适用于 east 马克装置全钨偏滤器探针系统

[发明专利]一种磁控溅射陶瓷靶材及制备方法-CN202210197348.9有效
发明人：许积文;余晨旭;杨玲;王华;周贤界 -专利权人：桂林电子科技大学
申请日： 2022-03-02 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： C04B35/453 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁控溅射陶瓷靶材及制备方法，所述陶瓷靶材由氧化锌、掺杂物和助烧物组成，所述掺杂物含量占比为0.7‑2.5wt%，所述助烧物含量占比为0.08‑0.15wt%；所述掺杂物的组成为钨酸锌和/采用本发明提供的陶瓷靶材进行磁控溅射镀膜，可以获得高载流子迁移率的透明导电薄膜。
一种磁控溅射陶瓷制备方法