专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种陶瓷蚝壳贴面保温隔热瓷砖-CN202220104630.3有效
  • 唐坚;王硕;夏瑜;曾慧盛 - 暨南大学
  • 2022-01-14 - 2022-09-16 - E04F15/08
  • 本实用新型涉及一种陶瓷蚝壳贴面保温隔热瓷砖,包括陶瓷蚝壳层、连接层和基体层,陶瓷蚝壳层、连接层和基体层依次连接;陶瓷蚝壳层包括多片陶瓷蚝壳,多片陶瓷蚝壳均与连接层连接,多片陶瓷蚝壳在连接层阵列排布形成大蚝壳式陶瓷蚝壳层、多片陶瓷蚝壳在连接层阵列排布形成小蚝壳式陶瓷蚝壳层、多片陶瓷蚝壳在连接层阵列排布形成合掌不封闭式陶瓷蚝壳层、多片陶瓷蚝壳在连接层阵列排布形成合掌封闭式陶瓷蚝壳层或多片陶瓷蚝壳在连接层阵列排布形成立式陶瓷蚝壳层本实用新型隔热保温效果好,同时既可大批量工业制造,又能满足个性定制需求;属于一种瓷砖。
  • 一种陶瓷贴面保温隔热瓷砖
  • [发明专利]一种不可展曲面FSS阵列结构排布方法-CN201910339158.4有效
  • 陈志新;王瑞;王秀芝;黄兴军 - 北京机电工程研究所
  • 2019-04-25 - 2022-11-11 - G06F30/20
  • 本发明提供了一种不可展曲面FSS阵列结构排布方法,包括如下步骤:利用平面A与排布曲面S相交,获得相交曲线,即截面引导线L;在截面引导线L上,从FSS阵列结构排布起点Pa向终点Pb方向,以弧长间隔d沿截面引导线L生成截面阵列C1~Cn;将截面阵列C1~Cn与排布曲面S的交线作为单元引导线L1~Ln;在每一条单元引导线Li上,i=1~n,从起始位置点Pi0沿单元引导线向两侧以弧长间隔d生成m个FSS单元排布位置点Pi1~Pim;根据FSS单元参数,在单元排布位置点建模生成FSS单元模型。本发明方法规范标准、排布精度高,可满足各类可展及不可展曲面FSS阵列结构排布,并可为曲面FSS电磁仿真及数字加工等提供准确输入。
  • 一种不可曲面fss阵列结构排布方法
  • [发明专利]基于介电电泳的阵列液晶传感器-CN201910013287.4有效
  • 邓吉楠;杨军;胡宁;韩县伟;陈梦迪 - 重庆大学
  • 2019-01-07 - 2020-07-28 - G01N27/447
  • 本发明公开了一种基于介电电泳的阵列液晶传感器,包括上侧壁和下侧壁,所述上侧壁和下侧壁的四周密闭并形成用于容纳液晶液滴的腔室,且所述上侧壁和下侧壁上对应设有阵列电极。本发明的基于介电电泳的阵列液晶传感器,通过在上侧壁和下侧壁上对应设置阵列电极,当腔室内通入液晶液滴后,阵列电极通电,在上侧壁和下侧壁上对应形成交变电场,液晶液滴在电场力的作用下移动到同一空间平面上并形成有规则的图案阵列排布,最终的排列效果和阵列电极的分布有关,可通过改变阵列电极的排列方式和间距,实现不同的液晶液滴的阵列排布效果,即可实现介电电泳作用下液晶液滴阵列的构建。
  • 基于电泳阵列液晶传感器
  • [发明专利]无掩模激光直写系统及无掩模激光直写方法-CN202110004223.5在审
  • 陈大鹏;傅剑宇 - 无锡物联网创新中心有限公司
  • 2021-01-04 - 2021-05-07 - G03F7/20
  • 一种无掩模激光直写系统及无掩模激光直写方法,无掩模激光直写系统包括:W个光纤阵列,各光纤阵列均包括若干M行*N列排布的光纤;样品台,样品台上适于承载待光刻晶圆,待光刻晶圆包括至少V个芯片区;版图数据转化模块,版图数据转化模块适于根据光纤阵列的参数将所述目标刻蚀版图转换为模块图形,模块图形包括若干目标图形模块,各目标图形模块包括M行*N列排布的若干目标图形单元,各目标图形单元包括k行*j列排布的若干网格,第w光纤阵列中任一根光纤适于加工第i×w个芯片区的每个目标图形模块中的一个目标图形单元;控制模块。所述无掩模激光直写系统能提高图形的效率。
  • 无掩模激光系统方法
  • [发明专利]无掩模激光直写系统及无掩模激光直写方法-CN202011442428.3有效
  • 陈大鹏;傅剑宇 - 无锡物联网创新中心有限公司
  • 2020-12-08 - 2022-09-20 - G03F7/20
  • 一种无掩模激光直写系统及无掩模激光直写方法,无掩模激光直写系统包括:光纤阵列,所述光纤阵列包括若干M行*N列排布的光纤;样品台,所述样品台上适于承载待光刻工件,所述待光刻工件具有目标刻蚀版图;版图数据转化模块,版图数据转化模块适于根据光纤阵列的参数将所述目标刻蚀版图转换为模块图形,模块图形包括若干目标图形模块,各目标图形模块包括M行*N列排布的若干目标图形单元,各目标图形单元包括k行*j列排布的若干网格;控制模块,所述控制模块适于控制每根光纤输出激光束以及关断激光束,控制模块还适于控制所述光纤阵列与所述样品台之间进行相对位移。所述无掩模激光直写系统能提高图形的效率。
  • 无掩模激光系统方法

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