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[发明专利]防反射膜形成用组合物、以及使用该组合物的光刻胶图案形成方法-CN200880015585.7无效
发明人：泽野敦;越山淳;广崎贵子 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-05-16 - 公布日： 2010-03-24 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明提供在光刻胶膜上形成防反射膜时所用的防反射膜形成用组合物，该组合物操作简单，且与使用PFOS的防反射膜同样可形成具有优异光学特性的防反射膜。用于形成设置于光刻胶膜上的防反射膜的防反射膜形成用组合物，该防反射膜形成用组合物包含特定的氟化合物。该防反射膜形成用组合物，由于上述特定的氟化合物有助于提高防反射膜的光学特性，因而可以形成具有优异光学特性的防反射膜。
反射形成组合以及使用光刻图案方法

[发明专利]防反射膜、防反射物品、偏振片、图像显示装置、模块、带触摸面板的液晶显示装置及防反射膜的制造方法-CN201780050120.4在审
发明人：增田千裕;朝日美帆;福岛悠太;实藤龙二 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2017-07-27 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： G02B1/118 文献下载
摘要：本发明提供一种防反射膜及上述防反射膜的制造方法、以及具有上述防反射膜的防反射物品、偏振片、图像显示装置、模块及带触摸面板的液晶显示装置，本发明的防反射膜具有塑料基材及防反射层，在所述防反射层中，上述防反射层包含金属氧化物粒子及粘合剂树脂，上述防反射层具有包括由上述金属氧化物粒子所形成的凹凸形状的蛾眼结构，上述防反射层的从与上述塑料基材相反的一侧入射时的防反射膜的总透光率为88％以上，并且，将上述防反射层的从与上述塑料基材相反的一侧入射时的防反射膜的波长
防反射膜防反射层塑料基材金属氧化物粒子图像显示装置液晶显示装置防反射物品触摸面板偏振片入射粘合剂树脂凹凸形状蛾眼结构总透光率透射率波长制造

[发明专利]包含硅氧烷化合物的防反射涂敷组合物、利用该防反射涂敷组合物来调节表面能的防反射膜-CN201380057163.7在审
发明人：赵烘宽;金源国 -专利权人：乐金华奥斯有限公司
申请日： 2013-10-08 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： C09D183/08 文献下载
摘要：本发明涉及既具有低折射率，还能形成调节表面能的涂敷层的防反射涂敷组合物、利用该防反射涂敷组合物的防反射膜及上述防反射膜的制备方法，更详细地，涉及防反射膜及其制备方法，上述防反射膜及其制备方法使用防反射涂敷组合物来形成涂敷层，从而使反射率最小化并调节表面能，上述防反射涂敷组合物作为粘结剂，包含将含有氟烷基的有机硅烷(organosilane)和烷氧基硅烷以规定重量比反应而合成的硅氧烷化合物。由于利用上述反射涂敷组合物的防反射膜的防反射效果优秀，因此，期待能够适用于触摸膜等多种显示设备。
包含硅氧烷化合物反射组合利用调节表面

[发明专利]防反射膜及其制造方法-CN200980123023.9有效
发明人：今奥崇夫;田口登喜生;藤井晓义;津田和彦 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2009-09-01 - 公布日： 2011-05-18 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：提供抑制透过防反射膜的光产生波长色散的防反射膜。防反射膜是通过载置在基材上来降低可见光在基材表面的反射的防反射膜，上述防反射膜具有对透过防反射膜的可见光赋予第一波长色散的波长色散构造，并且含有对透过防反射膜的可见光赋予第二波长色散的波长色散材料，透过上述防反射膜的可见光在可见光区域内具有平坦的透射波长色散
反射及其制造方法

[发明专利]半导体器件的图案形成方法及半导体器件-CN03102902.7无效
发明人：黄永善;郑载昌;李晟求;卜喆圭;申起秀 -专利权人：海力士半导体有限公司
申请日： 2003-01-21 - 公布日： 2004-01-28 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种半导体器件的图案形成方法，由在形成半导体器件的光刻胶图案的过程中在防反射膜上形成细微弯曲，来增大光刻胶与防反射膜间的接触面积，并能防止光刻胶图案崩溃现象，同时，重复积层有不同折射率和吸光度的两层防反射膜，能防止因防反射膜的弯曲而降低图案关键尺寸的均匀度。一种半导体器件的图案形成方法包括：在被蚀刻层的上部涂布第一层有机防反射膜组成物，对其进行烘烤形成第一层有机防反射膜；在第一层防反射膜上部，涂布有与第一层防反射膜不同折射率和吸光度的第二层防反射膜组成物，对其进行烘烤形成第二层防反射膜；对形成的防反射膜进行蚀刻，而在防反射膜上形成细微弯曲；在有机防反射膜上涂布光刻胶，曝光显影后形成光刻胶图案。
半导体器件图案形成方法

[发明专利]防反射薄膜、偏振片和显示器-CN200580046240.4有效
发明人：丰嶋哲也;荒川公平 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2005-11-08 - 公布日： 2008-01-02 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本发明涉及防反射薄膜，将该防反射薄膜贴合在偏振镜上制成的偏振片，以及包含该偏振片的显示器，所述防反射膜至少具有防反射层及基材树脂层，前述基材树脂层至少含以热塑性树脂为主要成分的a层及b层，前述a层的弯曲模量比b层的弯曲模量大，并且前述a层位于防反射层侧。按照本发明提供在透明树脂基材上叠层防反射层而形成的、防反射性能，韧性及表面硬度一切方面均为优异的防反射薄膜、使用该防反射薄膜的偏振片及包含该偏振片的显示器。
反射薄膜偏振显示器

[发明专利]防反射膜-CN201880057999.X在审
发明人：榊原隆广;梅本浩一;小岛良太;荫山宏树 -专利权人：株式会社大赛璐
申请日： 2018-08-06 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： G02B1/111 文献下载
摘要：本发明的防反射膜(X)具有包含基材(11)、硬涂层(12)及防反射层(13)的层叠结构。防反射层(13)包含固化性树脂、低折射率粒子及纳米金刚石粒子。防反射层(13)可以进一步含有含氟固化性化合物。这样的防反射膜适于同时实现高防反射性以及高耐擦伤性。
反射

[发明专利]防反射膜-CN202210684292.X在审
发明人：榊原隆广;梅本浩一;小岛良太;荫山宏树 -专利权人：株式会社大赛璐
申请日： 2018-08-06 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： G02B1/111 文献下载
摘要：本发明的防反射膜(X)具有包含基材(11)、硬涂层(12)及防反射层(13)的层叠结构。防反射层(13)包含固化性树脂、低折射率粒子及纳米金刚石粒子。防反射层(13)可以进一步含有含氟固化性化合物。这样的防反射膜适于同时实现高防反射性以及高耐擦伤性。
反射

[发明专利]防反射膜、其制造方法、光学元件以及图像显示装置-CN03805414.0有效
发明人：宫武稔;吉冈昌宏;增田友昭;北川笃;鹰尾宽行;白水香织 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2003-03-12 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： G02B1/10 文献下载
摘要：本发明的防反射膜中，在透明基材薄膜的至少一面上直接或通过介入其它的层形成有防反射层。所述防反射层是由折射率满足n_d²⁰≤1.49的至少两种低折射率材料形成。本发明的防反射膜具有由低折射率材料形成的防反射层，其防反射特性和耐擦伤性优良。此外，通过介入具有由微粒子形成的凹凸形状表面的硬膜层等而设置防反射层，可以获得防眩性优良的防反射膜。
反射制造方法光学元件以及图像显示装置

[实用新型]一种镜筒-CN201320821955.4有效
发明人：木下岁久 -专利权人：理光映像有限公司
申请日： 2013-12-13 - 公布日： 2014-10-15 - 主分类号： G02B7/02 文献下载
摘要：本实用新型提供一种镜筒，其为在内壁面上形成有防反射面的镜筒，在镜筒基体的内壁面中相当于防反射面的部分安装有防反射组件，防反射组件为在镜筒内的光照射面上实施了防反射处理的环状组件。
一种

[发明专利]防反射膜-CN201980020558.7有效
发明人：榊原隆广;横山将史 -专利权人：株式会社大赛璐
申请日： 2019-01-21 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： G02B1/111 文献下载
摘要：本发明的防反射膜(X)具有层叠结构，该层叠结构包含基材(11)、硬涂层(12)及防反射层(13)，防反射层(13)侧的发光反射率为2％以下。在对防反射膜(X)的试验片利用以其防反射层(13)侧为内侧进行弯曲的圆柱形心轴法的弯曲试验中，表示耐弯曲性的心轴直径的最小值在6mm以下的范围。并且/或者，在对防反射膜(X)的试验片利用以其防反射层(13)侧为外侧进行弯曲的圆柱形心轴法的弯曲试验中，表示耐弯曲性的心轴直径的最小值在10mm以下的范围。这样的防反射膜适于同时实现高防反射性和高耐弯曲性。
反射

[发明专利]二氧化硅涂布的防反射膜或板-CN201310686440.2在审
发明人：胡红杰;周作成 -专利权人：杜邦公司
申请日： 2013-12-16 - 公布日： 2015-06-17 - 主分类号： B32B33/00 文献下载
摘要：本文中公开了一种具有基膜或板层的防反射膜或板，所述基膜或板层在其一侧上涂覆有基于二氧化硅的防反射涂层；一种用于制备所述防反射膜或板的所述防反射涂层的涂布溶液；一种制备所述防反射膜或板的方法；以及包含所述防反射膜或板的物品
二氧化硅反射

[发明专利]一种防反射膜及其制备方法-CN201711140280.6在审
发明人：金亚东;刘正;杨承翰;周玉波 -专利权人：宁波长阳科技股份有限公司
申请日： 2017-11-16 - 公布日： 2019-05-24 - 主分类号： G02B1/111 文献下载
摘要：本发明涉及防反射膜技术领域，特别涉及到一种防反射膜及其制备方法。为了解决现有涂布方法制备的多层结构的防反射膜的光学性能和机械性能较差的问题，本发明提供了一种防反射膜及其制备方法，所述防反射膜包括基材层和防反射层，所述基材层的一面涂布有防反射层，所述防反射层从下至上依次为中折射率层、高折射率层和低折射率层；所述防反射膜从下至上依次为基材层、中折射率层、高折射率层和低折射率层。本发明提供的防反射膜具有稳定的光学性能和机械性能，提高了显示器的清晰度和晶硅电池的光电转换效率。
防反射膜制备防反射层基材层机械性能低折射率层高折射率层光学性能折射率层光电转换效率多层结构晶硅电池显示器

[实用新型]防反射薄膜-CN202222153420.6有效
发明人：王冬;洪莘 -专利权人：昇印光电（昆山）股份有限公司
申请日： 2022-08-16 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本申请揭示一种防反射薄膜，其包括：基底，所述基底包括第一表面以及相对设置的第二表面；防反射结构，所述防反射结构设于所述基底的一表面，所述防反射结构连续设置；其中，所述防反射结构的特征尺寸范围为0.7um～30um；所述防反射结构的平均特征尺寸不大于20um；单位面积内，所述防反射结构的平均特征尺寸以上分布的面积与于平均特征尺寸以下分布的面积比范围为20%～50%。本申请提供的一种防反射薄膜，通过控制所述防反射结构的特征尺寸大小的占比和深度来调节雾度和透过率，这样可以控制所述防反射薄膜的雾度值范围在5%‑70%左右，透过率60%‑90%不等，所以本申请所提供的薄膜的适用性更广
反射薄膜

[发明专利]防反射膜形成用组合物、以及使用该组合物的光刻胶图案形成方法-CN200880015584.2有效
发明人：泽野敦;越山淳;广崎贵子 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-05-16 - 公布日： 2010-03-24 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明提供具有特定pH值的防反射膜形成用组合物，该组合物保存稳定性、与光刻胶膜的配合性、以及涂布性优异，可以形成具有充分的光学特性的防反射膜。用于形成设置于光刻胶膜上的防反射膜的防反射膜形成用组合物，该防反射膜形成用组合物包含水溶性膜形成成分和特定氟化合物。该防反射膜形成用组合物通过添加特定氟化合物，可以容易地调整pH值而不会使涂布性降低，因而可以提供保存稳定性、以及与光刻胶膜的配合性优异的防反射膜形成用组合物。并且，该氟化合物也有助于提高防反射膜的光学特性，因此可以提供可形成具有优异光学特性的防反射膜的防反射膜形成用组合物。
反射形成组合以及使用光刻图案方法

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