专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]元素的回收方法-CN202210092238.6在审
  • 河崎实;八桥广光;喜多宣明 - 同和金属矿业有限公司
  • 2022-01-26 - 2023-02-03 - C22B11/02
  • 本发明涉及元素的回收方法。从使用过的废气净化用催化剂等含有元素的被处理原料中通过干式法以较高的效率回收元素。一种元素的回收方法,将含有元素的被处理原料和包含金属铜或氧化铜的至少1种的铜源材料与助焊剂成分和还原剂一起在炉内加热熔融,利用比重差将吸收了元素的金属熔液与炉渣系氧化物分离后,对吸收了所述元素的金属熔液进行氧化处理,利用比重差分离为以氧化铜为主成分的氧化物层和元素被浓缩了的以金属铜为主成分的金属熔液,其中,将通过所述加热熔融而分离的金属熔液中的银的含量调整为2000ppm以上且8000ppm以下,从而能够以高效率回收元素
  • 元素回收方法
  • [发明专利]从含金属矿石中提取金属的工艺-CN200510019388.0无效
  • 徐致钢 - 徐致钢
  • 2005-09-01 - 2006-03-22 - C22B11/00
  • 一种从含金属矿石中提取金属的工艺,是将元素受超声波的超声空化作用及大功率微波装置的酥化、击穿、分离、聚合等特效,从而把中的各个元素以高纯状态提取出来。本发明的工艺只要在任一种矿石和废渣或二次资源中含有元素,都能顺利地把元素全部提取出来,其整个提取过程是封闭循环的,微波技术装置清洁、卫生、节能高效,而超声波技术中的超声空化作用所产生的物质瞬间巨大传质、化学反应等惊人效果,整个工艺中冶炼金属的任一环节没有污染产生。在华东、华南的多个省份内,有大量的“黑色岩系”矿藏,本发明可用于生产大量的金属,使我国将很快由短缺这些战略物资的国度变成为战略物资充足的国家。
  • 含铂族金属矿石提取工艺
  • [发明专利]钛合金-CN201280037157.0有效
  • 上仲秀哉;米满善久;松本启;武内孝一 - 新日铁住金株式会社
  • 2012-07-20 - 2016-11-23 - C22C14/00
  • 一种钛合金,其按质量%计含有元素:0.01~0.15%和稀土元素:0.001~0.10%,剩余部分包含Ti和杂质。优选按质量%计含有Co:0.05~1.00%来替代前述Ti的一部分,优选含有元素:0.01~0.05%。另外,优选前述元素为Pd、前述稀土元素为Y。由此可以提供具有与以往同等或更好的耐蚀性以及良好的加工性的,元素的含有率低于以往而经济的,或者产生表面缺陷等损伤时、不易进行以该损伤作为起点的腐蚀的钛合金。
  • 钛合金
  • [发明专利]金属的分离/回收方法-CN03134944.7有效
  • 浅野聪;真锅善昭;福井笃 - 住友金属矿山株式会社
  • 2003-09-30 - 2004-05-05 - C22B3/42
  • 本发明涉及一种金属的分离/回收方法,采用离子交换树脂,由含相对低浓度金属同时含高浓度杂质元素的氯化物溶液,进行选择性吸附和洗脱氯化物形式的金属,如不论其形式如何的氯络合物的金属。本发明的由含金属和杂质元素的氯化物溶液中分离/回收金属的方法包括以下步骤:第一步,使聚胺基阴离子交换树脂与溶液进行接触,第二步,洗涤吸附处理的树脂,以及第三步,由洗涤处理后的树脂上洗脱金属。
  • 金属分离回收方法
  • [发明专利]一种难熔金属表面的金属涂层及其制备方法-CN201010123869.7无效
  • 陈照峰;吴王平;丛湘娜;王亮兵 - 南京航空航天大学
  • 2010-03-15 - 2010-07-28 - C23C14/16
  • 本发明为难熔金属10提供一种金属涂层30,该涂层30与难熔金属基材10之间具有一个0.2~2微米厚的过渡层20,过渡层20中从难熔金属10基材一侧到金属涂层30一侧,金属元素依次递增,直至过渡层20结束,金属元素含量达到100%,金属涂层30厚度在100微米以内。本发明提供一种在难熔金属10表面制备金属涂层30的方法。该方法在真空炉内进行,使用金属作为靶材,靶材电压范围在0~-1200V之间,难熔金属作为基材,电压范围在0~-900V之间。使用氩气作为工作气氛,在真空室内压力达到15~55Pa时,接通直流电源,经过连续的溅射和反溅射、吸附和解吸附,最后形成具有择优生长取向的金属涂层。
  • 一种金属表面金属涂层及其制备方法

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