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[实用新型]一种施釉装置-CN202122055540.8有效
发明人：张良;刘俊荣 -专利权人：佛山欧神诺陶瓷有限公司
申请日： 2021-08-27 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： B28B11/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种施釉装置，包括釉斗、第一钟罩和第二钟罩，第一钟罩呈上下敞口状，第一钟罩和第二钟罩之间形成贮釉空间，贮釉空间底部开设有导流口，从釉斗下釉口流出的釉料暂时贮存在贮釉空间，当釉料充满贮釉空间后从第一钟罩溢出到第二钟罩，形成施釉釉幕，从而完成施釉。施釉完成后，由于贮釉空间的底部开设有导流口，将导流口打开，贮釉空间内未能溢出的釉料即可从导流口排出，方便清洗贮釉空间内沉积的釉料，防止釉料沉积腐蚀施釉装置，提高设备使用寿命，还可以提高生产效率。
一种装置

[实用新型]一种陶瓷打印的喷釉喷头-CN202122973861.6有效
发明人：邓社广;钟志生;何俭恒 -专利权人：佛山希望数码印刷设备有限公司
申请日： 2021-11-30 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： B28B11/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种陶瓷打印的喷釉喷头，属于陶瓷打印技术领域，喷釉模块包括进釉管、长条釉管、快接管组件和喷釉喷头组件，长条釉管设有进釉口和打印釉口，喷釉喷头组件设有多个；进釉管通过进釉口与长条釉管内的釉浆腔连通，长条釉管的打印釉口通过快接管组件与各个喷釉喷头组件连通；快接管组件和各个喷釉喷头组件一一连通，并形成相互独立的多条喷射釉路；喷釉喷头组件包括阀门喷头单元和阀门喷嘴，阀门喷头单元的输入端与快接管组件连接，阀门喷头单元的输出端与阀门喷嘴连接，阀门喷头单元用于控制对应喷釉喷头组件的喷射釉路的通断。本实用新型解决了喷头难以控制釉层的厚度以及无法实现陶瓷打印的多样化打印的按需施釉需求的问题。
一种陶瓷打印喷头

[实用新型]一种人工灌釉设备的供釉装置-CN202221117533.4有效
发明人：王彦庆;杜伟建;孙岩;王辉;边久贵;吴军;宋金超;李金石;张英林;董坤;刘志强 -专利权人：惠达卫浴股份有限公司
申请日： 2022-05-11 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： B28B11/04 文献下载
摘要：本实用新型一种人工灌釉设备的供釉装置，属于坐便器制造领域，包括相连的高位釉浆锥桶和低位釉浆收集锥斗，高位釉浆锥桶顶部设置有锥桶进浆口、底部设置有锥桶出浆口，锥桶进浆口与高位釉浆锥桶侧面相切并与水平面呈5°～10°，低位釉浆收集锥斗顶部三面布设有锥斗防溢溅围板、底部设置有锥斗出浆口。釉浆通过所述低位釉浆收集锥斗将灌釉后剩余釉浆重新收集，经气动隔膜泵将釉浆打至高位釉浆锥桶通过锥桶进浆口切向下旋进锥桶中，冲刷桶壁的同时带动釉浆在桶内旋转防止釉浆沉淀产生浓度变化，循环使用不浪费釉浆的同时保证釉浆浓度处于恒定值，省去生产结束后工人长时间清洁供釉装置，提高生产效率的同时使连续生产的产品质量得到了保证。
一种人工设备装置

[实用新型]一种陶瓷餐具外表面的施釉装置-CN201720982415.2有效
发明人：林建亮 -专利权人：东源华溢陶瓷有限公司
申请日： 2017-08-07 - 公布日： 2018-04-17 - 主分类号： B28B11/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种陶瓷餐具外表面的施釉装置，其结构包括供釉斗漏口、连接片、主体、回釉盘、回釉盘漏口、底座、支撑住、供釉斗、臂形支架，供釉斗漏口、连接片与供釉斗为一体化结构，供釉斗底端与主体相连接，回釉盘、回釉盘漏口与底座为一体化结构，支撑住装设有臂形支架；本实用新型的一种陶瓷餐具外表面的施釉装置，装设有球阀等组件，能够及时控制陶瓷淋釉速度，避免了材料的浪费，施釉均匀，提高了陶瓷餐具的质量，使用方便。
一种陶瓷餐具外表装置

[实用新型]一种汝窑生产用涂釉机-CN201820624294.9有效
发明人：郭利芳;杜延 -专利权人：深圳珍懿文化科技有限公司
申请日： 2018-04-28 - 公布日： 2018-12-25 - 主分类号： B28B11/04 文献下载
摘要：本实用新型公开一种汝窑生产用涂釉机，其中包括底座，其特征在于，底座的靠左或者靠右一侧上设置有搅拌桶，底座的中间位置上设置有涂釉装置，所述的涂釉装置包括涂釉桶和若干个夹持装置，所述的涂釉桶的进釉口与搅拌桶的出釉口通过管道进行连通，所述的涂釉桶的顶部设置有桶盖，底座的右侧或者左侧上设置有集釉桶，集釉桶的进釉口与涂釉桶的出釉口通过管道进行连通，所述的集釉桶和搅拌桶之间设置有管道，所述的管道上设置有抽釉机。本实用新型的涂釉机能使得釉料更加均匀和加厚的涂在坯体外表面上，而且健康环保。
涂釉底座搅拌桶本实用新型进釉口釉口连通顶部设置夹持装置健康环保加厚的坯体桶盖釉机釉料生产

[实用新型]一种侧排马桶管道施釉装置-CN202223570602.X有效
发明人：梁建星;李牧;成锐;叶贵芳;秦磊 -专利权人：广东汇博机器人技术有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： B28B11/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种侧排马桶管道施釉装置，包括注釉位移驱动机构、注釉管、接釉位移驱动机构和接釉罩，所述注釉管和所述接釉罩均水平设置；所述注釉位移驱动机构与所述注釉管相连接，所述注釉位移驱动机构用于驱动所述注釉管在水平方向移动；所述接釉位移驱动机构与所述接釉罩相连接，所述接釉位移驱动机构用于驱动所述接釉罩在水平方向移动；所述注釉管的前端面设有密封环，所述接釉罩的前端开设有套口，所述接釉罩的下部开设有出釉口；所述注釉管的前端和所述套口朝向同一方位该施釉装置能对侧排马桶的排水管道施釉，施釉可靠性高。
一种马桶管道装置

[发明专利]一种用于日用陶瓷的喷釉装置-CN201710039489.7在审
发明人：刘开亮 -专利权人：成都陶玛斯卫浴有限责任公司
申请日： 2017-01-19 - 公布日： 2017-06-13 - 主分类号： B28B11/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于日用陶瓷的喷釉装置，包括喷釉室，供釉装置，所述喷釉室包括工作台，工作台上设有置物板和支架，支架上设有竖直滑轨，所述喷釉室还设有喷釉罩，喷釉罩下端设有敞口，喷釉罩通过滑块与支架相连，所述喷釉罩位于置物板的正上方；喷釉罩的壁为空心，喷釉罩的顶端外壁设有进釉口，进釉口与供釉装置相连；喷釉罩的内壁均匀设有多个喷釉口。本发明的喷釉装置，能够实现对陶瓷全方位的喷釉，而不用通过旋转喷头或者陶瓷就能均匀的对陶瓷进行喷油，提高了工作效率，并且保证了喷釉的质量。
一种用于日用陶瓷装置

[实用新型]全自动高效日用陶瓷喷釉装置-CN201720067439.5有效
发明人：刘开亮 -专利权人：成都陶玛斯卫浴有限责任公司
申请日： 2017-01-19 - 公布日： 2017-08-15 - 主分类号： B28B11/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了全自动高效日用陶瓷喷釉装置，包括喷釉室，供釉装置，所述喷釉室包括工作台，工作台上设有置物板和支架，支架上设有竖直滑轨，所述喷釉室还设有喷釉罩，喷釉罩下端设有敞口，喷釉罩通过滑块与支架相连，所述喷釉罩位于置物板的正上方；喷釉罩的壁为空心，喷釉罩的顶端外壁设有进釉口，进釉口与供釉装置相连；喷釉罩的内壁均匀设有多个喷釉口。本实用新型的喷釉装置，能够实现对陶瓷全方位的喷釉，而不用通过旋转喷头或者陶瓷就能均匀的对陶瓷进行喷油，提高了工作效率，并且保证了喷釉的质量。
全自动高效日用陶瓷装置

[实用新型]一种淋釉器-CN202121386570.0有效
发明人：向承刚;韦明辉 -专利权人：向承刚
申请日： 2021-06-21 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： B28B11/04 文献下载
摘要：本实用新型公开一种淋釉器，包括：缓冲槽，缓冲槽上设有进釉口和溢流口，缓冲槽的前侧设有溢流壁，溢流口设于溢流壁上，溢流口设于缓冲槽的上侧；导釉件，其设于缓冲槽的前侧，导釉件的上侧设有导釉面，导釉面的后侧为进釉侧，进釉侧与溢流口连接，导釉面的前侧为出釉侧，出釉侧设于进釉侧的下侧。本技术中由于釉料是在缓冲槽中的上侧的溢流口流出的，在溢流口位置的釉料受到的压力基本不变，相比于现有的直线淋釉器可以提高流出溢流口的釉料的均匀性；本技术中光滑的导釉面的面积可以做得较小，相比于现有的钟罩淋釉器可以减少加工难度，降低制造加工成本，而且缓冲槽和导釉件的左右方向的长度只需比砖坯稍大，减少设备占用空间。
一种淋釉器

[实用新型]一种釉水原料循环系统-CN202121163171.8有效
发明人：贺晓东;贺一平;贺讯 -专利权人：重庆家喜实业有限公司
申请日： 2021-05-27 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： B28B11/04 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种釉水原料循环系统，包括容釉罐、储釉罐和动力泵，容釉罐设于地面之上，地面之下设有可供储釉罐放入的凹坑，容釉罐的上端位置设有溢流口，溢流口处连接有导流通道，导流通道出口端下方设有过滤装置，过滤装置也设于地面之上，动力泵一端与容釉罐通过第一导管相连，动力泵另一端与储釉罐通过第二导管相连，过滤装置顶部设有入料口，过滤装置底端侧面设有出料口，出料口处设有第二导流通道，第二导流通道的出口位于储釉罐的上方，本实用新型通过在地面上设置容釉罐，并在容釉罐旁边设置过滤装置、储釉罐和动力泵，储釉罐设于地面之下，不仅能够实现釉水原料的流动循环，而且容釉罐的高度适宜，更利于工作人员施工。
一种原料循环系统

[发明专利]一种陶瓷卫浴产品用的排污口擦釉装置及方法-CN201910100977.3在审
发明人：许文杰;廖慨钦 -专利权人：广东金马领科智能科技有限公司
申请日： 2019-01-31 - 公布日： 2019-04-12 - 主分类号： B28B11/22 文献下载
摘要：本发明公开一种陶瓷卫浴产品用的排污口擦釉装置及方法，其装置包括进给机构、安装框架、升降机构和擦釉机构，安装框架上部与进给机构连接，安装框架中部与擦釉机构连接，安装框架内设有升降机构，且升降机构与擦釉机构相连接；进给机构驱动安装框架带动升降机构和擦釉机构进行水平移动，升降机构驱动擦釉机构进行升降运动。其方法是先启动进给机构，驱动安装框架带动升降机构和擦釉机构水平移动至坯体下方，然后启动升降机构，驱动擦釉机构沿安装框架上升至与坯体的排污口相接触，最后启动擦釉机构对坯体的排污口进行擦釉。本发明可实现针对性的排污口擦釉处理，擦釉清洁效果较好，不仅能提高排污口擦釉的精准性，还能灵活适应排污口位置的变化。
升降机构排污口安装框架进给机构坯体驱动安装陶瓷卫浴排污口位置驱动机构连接机构水平清洁效果升降运动灵活移动

[实用新型]一种陶瓷卫浴产品用的排污口擦釉装置-CN201920184201.X有效
发明人：许文杰;廖慨钦 -专利权人：广东金马领科智能科技有限公司
申请日： 2019-01-31 - 公布日： 2019-12-10 - 主分类号： B28B11/22 文献下载
摘要：本实用新型公开一种陶瓷卫浴产品用的排污口擦釉装置，包括进给机构、安装框架、升降机构和擦釉机构，安装框架上部与进给机构连接，安装框架中部与擦釉机构连接，安装框架内设有升降机构，且升降机构与擦釉机构相连接；进给机构驱动安装框架带动升降机构和擦釉机构进行水平移动，升降机构驱动擦釉机构进行升降运动。使用时先启动进给机构，驱动安装框架带动升降机构和擦釉机构水平移动至坯体下方，然后启动升降机构，驱动擦釉机构沿安装框架上升至与坯体的排污口相接触，最后启动擦釉机构对坯体的排污口进行擦釉。本实用新型可实现针对性的排污口擦釉处理，擦釉清洁效果较好，不仅能提高排污口擦釉的精准性，还能灵活适应排污口位置的变化。
升降机构安装框架排污口进给机构坯体本实用新型驱动安装排污口位置驱动机构连接机构水平清洁效果升降运动陶瓷卫浴灵活移动

[实用新型]内釉施釉结构-CN201721319585.9有效
发明人：肖书明;周文军 -专利权人：合江县华艺陶瓷制品有限公司
申请日： 2017-10-13 - 公布日： 2018-04-27 - 主分类号： B05B13/06 文献下载
摘要：本实用新型涉及施釉结构领域，旨在解决现有技术中的内釉施釉结构存在结构复杂，不方便实现自动化操作的问题，提供一种内釉施釉结构，其包括供釉系统、配合嘴、回位件。供釉系统设置有若干朝上开口的出釉管，供釉系统能够从出釉管的出口出釉。配合嘴具有贯通其上下端面的通口。出釉管的出口从下方对应于通口。配合嘴弹性支撑于回位件上端，并能够在外力的作用下克服回位件的回位力向下运动至使配合嘴的通口的下端密封接通出釉管的出口，使出釉管的出口出釉只能从通口的上端通出。本实用新型的有益效果是能够方便地实现上内釉，且容易实现上内釉的自动化、釉水利用率高。
内釉施釉结构

[实用新型]一种陶瓷制品生产用上釉罩口拍-CN202123207458.9有效
发明人：姚威;孙文良 -专利权人：湖南高峰陶瓷制造有限公司
申请日： 2021-12-20 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： B28B11/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种陶瓷制品生产用上釉罩口拍，属于陶瓷制品生产技术领域，一种陶瓷制品生产用上釉罩口拍，包括罩口拍底盘，罩口拍底盘为空心圆环，罩口拍底盘的下端焊接有握柄，罩口拍底盘上端螺接有罩口拍，罩口拍底盘的内壁设置有内螺纹，罩口拍的下端设置有与内螺纹相匹配的外螺纹，罩口拍的内侧固定连接有敷釉网，敷釉网采用120目筛网制成，使敷釉网具备粘釉效果的同时，又具备缓速渗釉的属性，敷釉网的表面开设有镂空圆孔，方便快速渗釉,可以实现经由敷釉网加工而成的陶瓷杯口边大小更加均匀
一种陶瓷制品生产用上釉罩口拍

[实用新型]一种内腔淋釉机-CN201520081167.5有效
发明人：李峰 -专利权人：李峰
申请日： 2015-02-05 - 公布日： 2015-06-10 - 主分类号： C04B41/86 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种内腔淋釉机，包括机体和喷枪，所述的机体包括连接为一体的上工作台、立柱和下工作台，上工作台上设有置釉盆，置釉盆上设有出釉口和进釉口，下工作台上设有向下凹陷的淋釉腔，淋釉腔内设有固定盘，固定盘上设有喷枪，淋釉腔的底部还设有一个釉料回收口，所述的出釉口通过第一管道与喷枪相连接，所述的进釉口通过第二管道与釉料回收口相连接，第一管道和第二管道设置在立柱内并都通过接头与气泵相连接，本实用新型加工效率高
一种内腔淋釉机

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