专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]大规格瓷砖釉面的装置-CN201620373014.2有效
  • 欧高建 - 欧高建
  • 2016-04-28 - 2016-09-21 - C04B41/86
  • 本实用新型公开了一种大规格瓷砖釉面的装置,包括输装置、罩、钟罩分和瓷片载体,输装置具有输腔体,输装置的下端设有输嘴,罩的顶部中心向上凸起设有钟罩分,钟罩分内部具有分腔体,钟罩分的分腔体上边缘为圆形的溢流边缘,罩下方设瓷片载体;罩由罩主体弧面和端部弧面,罩主体弧面的圆弧半径R1为3900mm~4500mm,端部弧面的圆弧半径R2为130mm~210mm,罩的下端端面圆直径D1为2300mm~2800mm。本实用新型通过输装置的输嘴对钟罩分进行输,然后在钟罩分中平衡压力后经过溢流边缘向罩上表面溢流出浆,再经过端部弧面边缘对位于瓷片载体中的瓷片进行施处理。
  • 规格瓷砖釉面装置
  • [发明专利]一种-CN201911364304.5在审
  • 廖绍基;黄彬成 - 廖绍基
  • 2019-12-26 - 2020-05-08 - C04B41/86
  • 本发明公开了一种,包括机构和向所述机构供浆的蓄槽,所述蓄槽内设有用于防止浆凝结的搅动装置;其中,所述机构包括设有用于导出浆的釉板和与所述釉板对应设置的载滚筒,所述蓄槽内的浆通过粘附转动的载滚筒,移至所述釉板处。采用本发明,稳定均匀,可控制量,而且能有效防止浆的凝结。
  • 一种淋釉器
  • [实用新型]一种-CN201922425623.4有效
  • 廖绍基;黄彬成 - 廖绍基
  • 2019-12-26 - 2020-11-20 - C04B41/86
  • 本实用新型公开了一种,包括机构和向所述机构供浆的蓄槽,所述蓄槽内设有用于防止浆凝结的搅动装置;其中,所述机构包括设有用于导出浆的釉板和与所述釉板对应设置的载滚筒,所述蓄槽内的浆通过粘附转动的载滚筒,移至所述釉板处。采用本实用新型,稳定均匀,可控制量,而且能有效防止浆的凝结。
  • 一种淋釉器
  • [实用新型]日用陶瓷半自动-CN200720177350.0有效
  • 陈林;龙德奇;曹英德;庞焕城;庞学坚;梁第才;黄健 - 广西三环企业集团股份有限公司
  • 2007-09-11 - 2008-10-01 - C04B41/86
  • 本实用新型公开了一种日用陶瓷半自动机,包括总成、托坯架、传送带、调整装置、转弯机、工作台、正背面装置。特征是传送带上放托坯架(9)上放瓷坯(10),瓷坯(10)顶上对着总成I,传送带两端有转弯机(14、16),总成I的过滤网(1)外面是隔罩(2),隔罩(2)下面是过渡支架(3),隔罩(2)下面是隔环(4),隔环(4)外面是弧形罩(6),弧形罩(6)外面是浆分散(7),浆分散(7)底是挡托(8)。浆从浆分散(7)流出形成幕(12)流到瓷坯(10)上,两侧有挡托(8)挡,具有幕(12)均匀、稳定、釉面平整、不粘带、没有口沿缕等优点。
  • 日用陶瓷半自动淋釉机
  • [实用新型]一种瓷砖生产线-CN201420649843.X有效
  • 梁金坤;黄金源;曾英和 - 福建敏捷机械有限公司
  • 2014-11-03 - 2015-03-11 - C04B41/86
  • 一种瓷砖生产线,包括机架、传动装置、驱动装置及设置于机架上方的,传动装置包括通过传动轴可转动设置于机架上传动轮组及传送带,其中一传动轴作为动力轴与驱动装置动力输出轴同步转动联接。传动轮组至少包括分别设置于进、出料端的进、出料传动轮、设置于进、出料传动轮之间并分设于口两侧的两分隔传动轮及设置于两分隔传动轮下方的两导向传动轮,两分隔传动轮之间形成有间隙,口设置于该间隙正上方,间隙正下方设置有釉料收集,每组传动轮组配合绕设有一条传送带。本实用新型可避免釉料浪费,降低生产成本,且可实现同步传动,避免不均匀,提高瓷砖质量等级。
  • 一种瓷砖生产线
  • [发明专利]一种-CN202110048459.9在审
  • 廖绍基;黄彬成 - 廖绍基
  • 2021-01-14 - 2021-05-11 - B28B11/04
  • 本发明公开了一种,包括釉板和向所述釉板输送浆的上釉机构;其中,所述上釉机构包括与所述釉板对应设置的布辊和用于调节上釉量的计量辊和挡釉板,所述布辊和计量辊的两侧设有所述挡釉板,所述计量辊、布辊和挡釉板之间形成用于缓存浆的蓄池;所述蓄池内的浆通过粘附转动的布辊,移至所述釉板处。采用本发明,结构简单,浆不易发生沉淀,且量的控制精度高。
  • 一种淋釉器

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