专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]选择蚀刻方法-CN200580030348.4有效
  • G·瓦格纳 - SEZ股份公司
  • 2005-09-01 - 2007-08-08 - H01L21/306
  • 本发明公开了一种选择蚀刻基材上的第一材料的方法,该方法对第二材料具有高选择,该方法通过将液体蚀刻剂以足够快的流动流过基材表面以产生平行于该基材表面的最小平均速度v,其中所述第一材料选自基于至少两种不同化学元素的具有半导体性能的材料
  • 选择性蚀刻方法
  • [发明专利]磨耗选择颗粒-CN201280036462.8无效
  • D·X·李 - 雪佛龙美国公司
  • 2012-08-28 - 2014-04-23 - B01J35/02
  • 提供供流化催化裂化系统使用的添加剂颗粒以降低自在所述系统内的再生器产生的烟道气的不透明度。将颗粒供给到所述单元以催化烃进料的裂化且与在供给用于所述裂化反应的催化剂的再生期间生成的硫氧化物反应。至少一部分所供应的颗粒包含活性颗粒和粘合剂,其中至少一部分所述活性颗粒处于0.5-40微米的尺寸范围内。
  • 磨耗选择性颗粒
  • [发明专利]选择跳频-CN99804443.1无效
  • W·E·比尔德;A·特里格斯 - 艾利森公司
  • 1999-01-28 - 2003-12-24 - H04B7/26
  • 无线通信系统中使得能够实时地确定和采用优选的跳频(FH)序列的系统和方法。利用各种技术确定或估计小区中移动台的平均速度。若平均速度低于预定的阈值,则采用循环FH序列,以便实现优异的频率分集,因而应付小规模衰落波谷。若平均速度高于预定的阈值,则采用随机FH序列,以便实现优异的干扰平均化,因而应付同信道干扰。还可以使用延迟计时器和滞后,以提高稳定性和对付短期波动。周期性地重复平均速度的测量和平均速度与阈值的比较。
  • 选择性
  • [发明专利]包括无源光学纳米结构的照明设备-CN202080080480.0在审
  • J·哈罗德;M·G·鲁宾逊;G·J·伍德盖特 - 瑞尔D斯帕克有限责任公司
  • 2020-10-01 - 2022-07-08 - F21K9/90
  • 通过从发光元件的单片阵列选择地去除无源光学纳米结构同时保持它们的相对空间位置来制造照明设备。选择所述纳米结构,使得在至少一个方向上,对于至少一对选择去除的无源光学纳米结构,对于每个相应的对,存在至少一个未被选择的纳米结构,所述至少一个未被选择的纳米结构在所述单片阵列中位于在所述至少一个方向上的所述一对选择去除的无源光学纳米结构之间,用所述选择去除的无源光学纳米结构形成无源光学纳米结构的非单片阵列,同时保持他们的相对空间位置,且使所述非单片阵列中的所述无源光学纳米结构中的每一个与发光元件的非单片阵列中的相应的发光元件对准。
  • 包括无源光学纳米结构照明设备
  • [发明专利]一种水相中含硫化合物的选择催化氧化反应体系-CN201610492858.3有效
  • 赵伟;杨春霞 - 南阳师范学院
  • 2016-06-23 - 2018-09-11 - C07B45/04
  • 本发明提出了一种水相中含硫化合物的选择催化氧化反应体系,是将摩尔比为1:400:1200的催化剂、含硫化合物、30%过氧化氢在水相中室温下搅拌1.5‑2小时,转化率大于97%,产物砜的选择大于94%;将摩尔比为1:1666:1666的催化剂、含硫化合物、30%过氧化氢在水相中室温下搅拌6小时,转化率大于90%,产物亚砜的选择大于80%。本发明反应结束后使用乙酸乙酯萃取,有机相分离后,催化剂分散在水相中可直接用于下一次催化反应,催化活性保持,转化率和选择保持。本发明具有使用水为溶剂、反应条件温和、催化活性高、产物选择好、催化剂用量少且可重复使用等诸多优点。
  • 一种相中硫化选择性催化氧化反应体系
  • [发明专利]用于隔离视口的设备和方法-CN201110227923.7无效
  • E·J·利特尔;M·J·帕沃尔 - 初星太阳能公司
  • 2011-06-30 - 2012-01-25 - C23C14/52
  • 该设备包括视口(402)、为将视口(402)与工艺室(406)选择隔离而放置的器件(404)、以及置于视口(402)和器件(404)之间的第二室(408)。该器件(404)包括第一位置,以将视口(402)与工艺室(406)选择隔离并选择保持工艺室(406)中预定的工艺压力,该器件(404)包括第二位置,以选择允许从视口(402)对工艺室(406)的视线测量,以及当该器件(404)在第二位置中时,第二室(408)保持工艺室(406)中预定的工艺压力。
  • 用于隔离设备方法

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