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[发明专利]用于涂覆基底的真空沉积设备和方法-CN201980038862.4有效
发明人：埃里奇·西尔伯贝格;塞尔焦·帕切;雷米·邦内曼 -专利权人：安赛乐米塔尔公司
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及用于在包括真空室的真空沉积设备内部在移动的基底上连续沉积由至少一种金属形成的涂层的方法；涂覆有至少一种金属的经涂覆的基底；和用于在移动的基底上连续沉积的方法的真空沉积设备。
用于基底真空沉积设备方法

[发明专利]一种可实现织物连续真空沉积图案膜层的生产线-CN201810177529.9在审
发明人：王银川;余荣沾;张欣;刘琼溪;尹华平;梁媛 -专利权人：广东欣丰科技有限公司
申请日： 2018-03-05 - 公布日： 2019-09-13 - 主分类号： D06M11/83 文献下载
摘要：一种可实现织物连续真空沉积图案膜层的生产线，按照工艺流程包括放卷室，真空沉积室和收卷室；其中，所述放卷室末端设有加热装置，实现对织物的除气，烘干除湿这一功能，使织物的含水含气量达到后期的真空沉积要求；所述真空沉积室包括至少一个真空沉积室，每个真空沉积室包括导辊，抽气口，驱动电机，真空沉积源，沉积靶材，冷却盘管，冷却辊，真空测量探头，观察窗和图案掩模板循环系统；所述收卷室包括可移动取出的收卷轴，驱动电机，导辊，抽气口，充气口，真空测量探头和观察窗本发明提供的生产线，解决了不能采用真空沉积方法在织物上沉积图案膜层的问题，可实现织物上沉积图案膜层的连续化大生产。
真空沉积室连续真空沉积沉积图案驱动电机真空测量真空沉积抽气口放卷室观察窗收卷室图案膜探头导辊膜层真空沉积源烘干除湿加热装置冷却盘管循环系统工艺流程沉积靶充气口大生产含气量可移动冷却辊连续化收卷轴掩模板除气含水取出图案

[发明专利]一种连续多真空室卷绕镀膜设备-CN201410166245.1无效
发明人：王振东;何万能 -专利权人：苏州诺耀光电科技有限公司
申请日： 2014-04-24 - 公布日： 2014-07-09 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种连续多真空室卷绕镀膜设备，其特征在于：所述设备包括放卷机构、放卷室、隔离阀门、真空溅射室A、真空溅射机构A、隔离腔、真空溅射室B、真空溅射机构B、隔离腔、真空溅射室C、真空溅射机构C、导向轴、收卷室、收卷机构、隔离机构、沉积室A、沉积室B以及沉积室C。本发明提供一种连续多真空室卷绕镀膜设备，全部采用分子泵系统，各沉积室之间设有隔离腔，可以很好的避免气体间相互干扰，可以一次性沉积多种膜层，也可以实现多种工艺膜系一次完成。
一种连续真空卷绕镀膜设备

[发明专利]一种用于连续带状基料的真空沉积薄膜装置-CN200610200516.6无效
发明人：李博峰 -专利权人：李博峰
申请日： 2006-06-05 - 公布日： 2007-12-12 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：一种用于连续带状基料的真空沉积薄膜装置，可实现卷带状工料在大气中连续放料，通过数级上行的具有两个辊轴对滚夹紧带状基料的动态真空密封装置进入一段或分段的高真空环境中进行沉积薄膜，然后再经过下行的动态真空密封装置返回到大气中进行收料所述装置包括有收放料子系统、纠偏子系统、真空密封子系统、一段或分段的真空室、真空获得子系统以及真空薄膜沉积子装置，所述真空密封装置实现带状基料由大气进/出真空环境的动态密封。本发明能够实现在带状基料上连续进行真空沉积薄膜涂层，具有高生产效率和薄膜涂层质量稳定的特点。
一种用于连续带状真空沉积薄膜装置

[实用新型]一种连续多真空室卷绕镀膜设备-CN201420201591.4有效
发明人：王振东;何万能 -专利权人：苏州诺耀光电科技有限公司
申请日： 2014-04-24 - 公布日： 2014-09-03 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种连续多真空室卷绕镀膜设备，其特征在于：所述设备包括放卷机构、放卷室、隔离阀门、真空溅射室A、真空溅射机构A、隔离腔、真空溅射室B、真空溅射机构B、隔离腔、真空溅射室C、真空溅射机构C、导向轴、收卷室、收卷机构、隔离机构、沉积室A、沉积室B以及沉积室C。本实用新型提供一种连续多真空室卷绕镀膜设备，全部采用分子泵系统，各沉积室之间设有隔离腔，可以很好的避免气体间相互干扰，可以一次性沉积多种膜层，也可以实现多种工艺膜系一次完成。
一种连续真空卷绕镀膜设备

[发明专利]一种可实现织物连续真空沉积的放卷室-CN201810177528.4在审
发明人：王银川;余荣沾;刘琼溪;张欣;梁媛;尹华平 -专利权人：广东欣丰科技有限公司
申请日： 2018-03-05 - 公布日： 2019-09-13 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：一种可实现织物连续真空沉积的放卷室，按照工艺流程包括放卷真空室，烘烤室，其中，所述真空室包括上盖可打开的腔室，可移动取出的放卷轴，驱动电机，观察窗，位于放卷轴下游的导辊，冷却盘管，抽气口，充气口及真空测量探头；所述烘烤室包括：烘烤箱，抽气口，烘烤箱外部设置的冷却盘管，温度测量探头，真空测量探头，烘烤箱外设置的导辊。本发明提供一种可实现织物连续真空沉积的放卷室，解决了不能采用真空沉积方法在织物上沉积膜层的问题，可实现连续化的大生产，提升织物生产效率。
连续真空沉积放卷室烘烤箱冷却盘管真空测量抽气口放卷轴烘烤室探头导辊温度测量探头放卷真空室沉积膜层驱动电机外部设置真空沉积织物生产工艺流程充气口大生产观察窗可打开可移动连续化真空室腔室上盖取出

[发明专利]一种连续化薄膜真空沉积方法及装置-CN200910095388.7有效
发明人：夏申江;金炯;朱志强 -专利权人：浙江嘉远格隆能源股份有限公司
申请日： 2009-01-12 - 公布日： 2009-06-24 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种连续化薄膜真空沉积方法及装置，它包括以下步骤：通过在真空沉积室的进口设置至少一级进口真空预抽室、在真空沉积室的出口设置至少一级出口真空保护室，以保持真空沉积室内的真空度；各级进口真空预抽室、真空沉积室、各级出口真空保护室之间由狭缝连通，并由设置在狭缝处的阀门密封，基底通过狭缝进入各室，阀门在基底通过时开启，在基底通过后关闭；基底在进入进口真空预抽室和离开出口真空保护室时，至少一个进口阀门和至少一个出口阀门是关闭的，以保持真空沉积室内的真空度不变。调整基底的传送速度使相邻二块基底之间的间距在到达沉积装置前缩小，并使基底在离开真空沉积室时，相邻两块基底之间的间距增大，从而实现薄膜沉积的连续化进行和原材料利用率的极大提高。
一种连续薄膜真空沉积方法装置

[发明专利]一种在SiC纤维表面沉积薄膜的装置及方法-CN201110193065.9无效
发明人：肖金泉;张露;石南林;宫骏;孙超 -专利权人：中国科学院金属研究所
申请日： 2011-07-11 - 公布日： 2011-11-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及真空镀膜磁控溅射沉积技术，具体为一种在连续SiC纤维表面上沉积薄膜的装置及方法，一方面在连续SiC纤维表面沉积出厚度均匀的薄膜；一方面解决沉积化合物薄膜靶材中毒的问题，实现沉积过程的连续性和稳定性该装置设有靶材I、靶材II、工件转架、中频脉冲磁控溅射电源、磁控溅射真空室，工件转架置于磁控溅射真空室中，靶材I、靶材II在工件转架内外相对放置于磁控溅射真空室中，中频脉冲磁控溅射电源的阴极与靶材I相接本发明通过调节磁控溅射装置中真空室内的气体流量、反应气体种类、溅射时间等，实现在连续SiC纤维表面沉积不同种类和不同厚度的金属或化合物薄膜，对SiC纤维进行表面改性。
一种 sic 纤维表面沉积薄膜装置方法

[发明专利]一种用于大面积热蒸法沉积薄膜太阳能电池吸收层的真空镀膜机-CN201810051634.8有效
发明人：陶加华;郭一欣;余杰金;张俏;石富文;左少华;江锦春;敬承斌;杨平雄;褚君浩 -专利权人：华东师范大学
申请日： 2018-01-19 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于大面积热蒸法沉积薄膜太阳能电池吸收层的真空镀膜机，包括真空腔室、连续送料机构、横向输送机构、蒸发沉积机构及纵向移动机构；采用连续送料机构实施粉末材料的连续摆动式送料，蒸发沉积机构使得粉末材料充分气化沉积，最终由沉积喷头的小孔喷出，形成莲蓬状的气流均匀沉积在基板上；采用横向输送机构及纵向移动机构控制真空腔室内基板的水平横向运动及控制蒸发沉积机构相对于基板的水平纵向运动，完成蒸发沉积机构的沉积喷头相对于基板进行全平面的镀膜
一种用于大面积热蒸法沉积薄膜太阳能电池吸收真空镀膜

[实用新型]一种用于大面积热蒸法沉积薄膜太阳能电池吸收层的真空镀膜机-CN201820088199.1有效
发明人：陶加华;郭一欣;余杰金;张俏;石富文;左少华;江锦春;敬承斌;杨平雄;褚君浩 -专利权人：华东师范大学
申请日： 2018-01-19 - 公布日： 2018-10-30 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于大面积热蒸法沉积薄膜太阳能电池吸收层的真空镀膜机，包括真空腔室、连续送料机构、水平横向输送机构、蒸发沉积机构及水平纵向移动机构；采用连续送料机构实施粉末材料的连续摆动式送料，蒸发沉积机构使得粉末材料充分气化沉积，最终由沉积喷头的小孔喷出，形成莲蓬状的气流均匀沉积在基板上；采用水平横向输送机构及水平纵向移动机构控制真空腔室内基板的水平横向运动及控制蒸发沉积机构相对于基板的水平纵向运动，完成蒸发沉积机构的沉积喷头相对于基板进行全平面的镀膜
蒸发沉积基板沉积太阳能电池吸收层连续送料机构水平纵向移动喷头真空镀膜机沉积薄膜粉末材料输送机构水平横向热蒸水平横向运动水平纵向运动本实用新型工作效率高机构控制均匀性好连续摆动气流均匀真空腔室可控性莲蓬状全平面真空腔镀膜膜厚喷出气化送料小孔室内

[实用新型]一种微波等离子体化学气相连续沉积系统-CN202021476959.X有效
发明人：孙耀明;彭晓华;陈寿;王鑫;李彦灼;刘晓东;江俊灵;肖艳苹 -专利权人：深圳市八六三新材料技术有限责任公司
申请日： 2020-07-22 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种微波等离子体化学气相连续沉积系统。所述微波等离子体化学气相连续沉积系统，包括：多个真空抽气及充气组件，位于所述真空抽气及充气组件上方的微波组件；所述真空抽气及充气组件用于对所述容器的内部抽真空以及充入工作气体；所述微波组件为可移动微波组件，用于通过移动与各个所述真空抽气及充气组件之间切换配合以实现微波等离子体化学气相沉积。本实用新型所述微波组件能够在多个真空抽气及充气组件之间切换，免除了放气、取样及抽真空时微波组件的闲置问题，可以实现微波等离子体化学气相连续沉积，且无需增加成本最高的微波组件，效率即可提升。
一种微波等离子体化学相连沉积系统

[发明专利]常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统-CN201510430778.0有效
发明人：庄志杰;周钧;刘战合 -专利权人：赛柏利安工业技术（苏州）有限公司
申请日： 2015-07-21 - 公布日： 2019-02-19 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统，所述常温多层ITO柔性基材单鼓立式连续气相沉积设备系统包括薄膜真空沉积系统和自控卷绕系统；所述薄膜真空沉积系统包括两个分隔开的相互独立的低真空度腔体和高真空度腔体，所述低真空度腔体与高真空度腔体之间设置有隔板；所述薄膜真空沉积系统与所述自控卷绕系统之间设置有卷绕机隔板；所述自控卷绕系统包括卷绕机底座和自动控制机构，本发明结构简单，使用方便，工作稳定性好，能够在常温下制备薄膜真空沉积系统和自控卷绕系统不固定连接，完全分离，极大地减少了真空腔体的开孔和结构复杂性，使得卷绕机构约束少。
常温多层 ito 柔性基材立式连续沉积设备系统

[发明专利]一种真空溅射连续沉积镀铜膜方法-CN202110452009.6在审
发明人：佘自力;张勇;张军 -专利权人：深圳市新邦薄膜科技有限公司
申请日： 2021-04-26 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种真空溅射连续沉积镀铜膜方法，属于真空镀膜领域。本发明的一种真空溅射连续沉积镀铜膜方法，将Cu沉积和Ar离子轰击作为一个沉积单元，重复3～5次即可完成超过600nm厚度铜膜的镀层，Ar离子轰击可以有效促进铜离子(粒子(原子或原子团))成膜，并降低成膜过程中的缺陷本发明的一种真空溅射连续沉积镀铜膜方法尤其适用于工程塑胶类基材上导电线路所需的铜膜镀层生产，可广泛应用于电子型(信)号传输、芯片承载等电子产品生产。
一种真空溅射连续沉积镀铜方法

[发明专利]连续阴影掩模汽相沉积系统的阴影掩模的原位腐蚀方法-CN200810168296.2无效
发明人：托马斯·彼得·布罗迪;约瑟夫·A·马尔卡尼奥 -专利权人：阿德文泰克全球有限公司
申请日： 2008-10-15 - 公布日： 2009-04-22 - 主分类号： C23F1/12 文献下载
摘要：公开了一种连续阴影掩模汽相沉积系统的阴影掩模的原位腐蚀方法，其中将基板推进通过多个顺序连接的沉积真空腔。随着基板推进通过每个沉积真空腔，通过定位于沉积真空腔中的阴影掩模在基板上沉积来自定位于沉积真空腔中的材料沉积源的材料。该材料还被沉积在了阴影掩模朝向该材料沉积源的表面上。接着在至少一个沉积真空腔中的阴影掩模的表面上所进行的材料沉积之后，在该沉积真空腔中没有基板时将反应气体导入该沉积真空腔。随后使得反应气体电离以去除沉积在阴影掩模上的材料。
连续阴影掩模汽相沉积系统原位腐蚀方法

[发明专利]涂布基体的方法以及金属合金的真空沉积装置-CN200880013588.7有效
发明人： P·乔奎特;E·希尔伯伯格;B·施米茨;D·查雷克斯 -专利权人：安赛乐米塔尔法国公司
申请日： 2008-03-19 - 公布日： 2010-03-24 - 主分类号： C23C14/16 文献下载
摘要：本发明涉及涂布基体(S)的方法，其中通过真空沉积装置(1)将包含至少两种金属元素的金属合金层连续沉积到该基体(S)上，所述真空沉积装置包含蒸气喷射涂布设备(7)，该设备使得可以将以预定且恒定的相对比例包含这些金属元素的蒸气喷射到基体该方法更特别地用于沉积Zn-Mg涂层。本发明还涉及连续地涂布金属合金形成的涂层以实施该方法的真空沉积装置(1)。
基体方法以及金属合金真空沉积装置

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