“负型光阻材料”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果5349382个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]涂布装置-CN200420103129.7无效
发明人：孙鲁男;王敬龙;许文诚;詹育颖 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司
申请日： 2004-12-16 - 公布日： 2006-03-08 - 主分类号： G02F1/133 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种涂布装置，包括一工作平台和一喷嘴涂布单元，该喷嘴涂布单元包括一光阻涂布喷嘴和一光阻材料供应装置，该光阻涂布喷嘴位于工作平台上方，该光阻材料供应装置与光阻涂布喷嘴相连以提供光阻材料，其特征在于
装置

[发明专利]一种光氧阻隔剂及其制备方法-CN202310534558.7在审
发明人：曾福泉;崔蒙蒙;杨洁萍 -专利权人：泉州市约克颜料有限公司
申请日： 2023-05-12 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： C08L67/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种光氧阻隔剂，涉及包装材料技术领域。所述光氧阻隔剂按质量百分比计，包括：1‑65%的阻光成分，1‑30%的主动吸氧成分，5‑98%的基材。所述阻光成分包括钛白粉、铝粉、炭黑、分散剂和液体制剂；所述主动吸氧成分包括阻氧材料和钴盐。本发明的光氧阻隔剂针对阻光和阻氧均有需求的半透光或全阻光的包装而开发。钛白粉在液体制剂的作用下填补树脂内的微孔隙起到被动阻氧的目的；而阻氧材料在钴盐的作用下起到主动吸氧作用，两者搭配使用使包装材料的阻氧效果更佳，阻氧时间更长，保护氧敏感物质。钛白粉是粒状结构，而铝粉是片状结构，两者配合使用，可起到协同作用，使包装既具有良好的外观又具有更好的阻光效果，保护光敏感物质。
一种阻隔及其制备方法

[发明专利]半导体结构的形成方法-CN201811235463.0在审
发明人：訾安仁;张庆裕;林进祥 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2018-10-23 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：此方法包括形成材料层于基板上，并形成光阻层于材料层之上。光阻层包括无机材料及辅助剂，且无机材料包括复数个金属核及复数个第一连结基团，其中第一连结基团键结至金属核。此方法亦包括进行曝光工艺，以曝光光阻层的一部分，其中在曝光工艺期间，辅助剂与第一连结基团进行反应。此方法亦包括蚀刻光阻层的一部分，以形成经过图案化的光阻层，并使用经过图案化的光阻层作为掩模，以将材料层图案化。此方法亦包括移除经过图案化的光阻层。
光阻层图案化连结半导体结构曝光工艺无机材料辅助剂金属核复数蚀刻材料层图案基团键结形成材料材料层曝光光基板掩模移除阻层

[发明专利]一种负阻式GaN压力传感器及其制备方法-CN201910969075.3在审
发明人：张伟;汤乃云;叶怀宇;张国旗 -专利权人：深圳第三代半导体研究院
申请日： 2019-10-12 - 公布日： 2020-01-24 - 主分类号： H01L41/113 文献下载
摘要：本发明公开了一种负阻式GaN压力传感器及其制备方法，包括：1)Si衬底上依次生长GaN缓冲层和n型GaN层；2)n型GaN层上生长双势垒AlGaN/GaN/AlGaN量子阱；3)双势垒AlGaN/GaN/AlGaN量子阱上生长n型GaN层；4)选择性刻蚀外延层材料形成刻蚀台面和台阶；5)在台面和台阶上淀积钝化层；6)刻蚀钝化层形成电极孔，并淀积金属电极；7)选择性刻蚀Si衬底形成刻蚀凹槽。首先，本发明利用共振隧穿效应调控量子阱内载流子输运过程以及负阻效应；其次，本发明利用了AlGaN/GaN异质结具有的压电极化效应，通过外部压力改变极化电场，从而使得量子阱内的能级发生改变，达到控制量子阱中载流子的隧穿效率，使得输出电流快速下降，即在外界压力情况下出现负阻效应，从而表现出极高的响应灵敏度。
量子阱选择性刻蚀负阻效应双势垒衬底生长载流子共振隧穿效应能级刻蚀钝化层外延层材料响应灵敏度压力传感器载流子输运淀积金属极化电场刻蚀凹槽刻蚀台面输出电流外部压力外界压力压电极化电极台面电极孔钝化层异质结淀积负阻隧穿制备调控表现

[发明专利]一种液晶显示面板及液晶显示面板的制作方法-CN202110974994.7有效
发明人：周世新 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2021-08-24 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：液晶显示面板在光阻层中添加了自修复材料。自修复材料具有室温自主自修复性、易再加工性以及良好的相容性。通过在光阻层上设置通孔以使光线透过，光线引发自取向层的聚合。然后在自取向层形成之后，自修复材料促成光阻层的自修复，消除光阻层上的通孔，使光阻层仍旧具有良好的遮光性。通过在光阻层中加入自修复材料，以改善自取向层的成膜均一性。
一种液晶显示面板制作方法

[发明专利]半导体装置的制作方法-CN201710686801.1有效
发明人：王筱姗;吴承翰;张庆裕;林进祥 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2017-08-11 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：提供一种材料组成以及方法，其包含形成图案化光阻层于基板上。图案化光阻层具有第一图案宽度与第一图案轮廓，且第一图案轮廓具有活性点位的第一比例。在一些例子中，将处理材料涂布至图案化光阻层。在一些实施例中，处理材料键结至图案化光阻层的表面，以提供处理后的图案化光阻层，处理后的图案化光阻层具有第二图案轮廓，第二图案轮廓具有活性点位的第二比例，且第二比例大于第一比例。举例来说，在涂布处理材料至图案化光阻层时，可进行第一图案缩减工艺，其中处理后的图案化光阻层具有第二图案宽度，且第二图案宽度小于第一图案宽度。
半导体装置制作方法

[发明专利]液晶材料、液晶显示面板及其制造方法-CN201210564533.3有效
发明人：郭仁炜 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2012-12-21 - 公布日： 2014-06-25 - 主分类号： C09K19/46 文献下载
摘要：本发明公开了一种液晶材料及其制备方法，包括：将负性向列相液晶、紫外可聚合单体、光引发剂按下述质量百分含量混合，得到所述液晶材料；其中，所述负性向列相液晶为90-98%、所述紫外可聚合单体为1-9%、所述光引发剂为本发明通过利用紫外可聚合单体聚合得到的高分子网络锚定负性向列相液晶分子，诱导液晶分子在多维电场型液晶显示面板中垂直排列，从而得到利用负性向列相液晶制备的多维电场型液晶显示面板。
液晶材料液晶显示面板及其制造方法

[发明专利]一种负性光阻及其制备方法-CN202010180263.0在审
发明人：刘雪 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2020-03-16 - 公布日： 2020-06-26 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本申请公开了一种负性光阻及其制备方法，所述负性光阻含有至少两种长链树脂，所述长链树脂之间相互缠绕形成互穿网络聚合物，所述长链树脂包括丙烯酸酯、环氧树脂。
一种负性光阻及其制备方法

[发明专利]阵列基板的制备方法、阵列基板以及显示装置-CN202110872014.2在审
发明人：赵维;李荣荣 -专利权人：惠科股份有限公司
申请日： 2021-07-30 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：本申请公开了一种阵列基板的制备方法、阵列基板以及显示装置，阵列基板的制备方法包括以下步骤：在衬底上连续沉积遮光层材料与第一金属层材料；在第一金属层材料上方，使用半透膜光罩制程形成具有第一光阻部和第二光阻部的光阻层；对第一金属层材料进行第一次湿蚀刻，形成第一金属层；对遮光层材料进行干蚀刻，形成遮光层，同时对所述光阻层进行灰化处理，进而去除所述第二光阻部以及部分所述第一光阻部；对第一金属层进行第二次湿蚀刻，形成栅极层；在栅极层上方依次形成栅极绝缘层、半导体层；第一光阻部的厚度大于第二光阻部的厚度，半导体层在衬底上的正投影，位于遮光层在衬底上的正投影范围内。本申请通过以上方式，降低照光漏电流。
阵列制备方法以及显示装置

[发明专利]空间位阻可调型弱碱光稳定剂及其制备方法和应用-CN202210685452.2在审
发明人：毛丽娟;刘树柏;赵成世;尹齐伟;丁轶凡;王以菲;罗瑞;陈秀颖;王纪江;李静;徐春娟;宋金鸽;陈俊;虞美雅 -专利权人：绍兴瑞康生物科技有限公司
申请日： 2020-11-11 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： C07D211/14 文献下载
摘要：本发明是申请号为202011250638.2，发明名称为“空间位阻可调型弱碱性光稳定剂的结构及其制备方法和应用”的中国发明专利申请的分案申请。本发明专利属于新化合物及其合成方法领域，具体涉及空间位阻可调型弱碱光稳定剂及其制备方法和应用。本发明的创新型光稳定剂通过在结构通式中建立氮原子周边产生空间位阻的取代基大小从而进行调整其空间位阻，此外，通过调整极性基团的远近可以影响氮原子的电负性，从而调整了它的碱性或亲核性能。通过调控氮原子所处环境中的空间位阻和亲核性能或碱性获得所想要的效果，进而拓宽这类创新型光稳定剂的应用范围，使其广泛适用于PC，聚酯，PU，PVC等偏酸性或具有一定亲电性能的高分子材料作为光稳定性保护助剂
间位可调弱碱稳定剂及其制备方法应用

[发明专利]空间位阻可调型弱碱光稳定剂及其制备方法和应用-CN202210680930.0在审
发明人：毛丽娟;刘树柏;赵成世;尹齐伟;丁轶凡;王以菲;罗瑞;陈秀颖;王纪江;李静;徐春娟;宋金鸽;陈俊;虞美雅 -专利权人：绍兴瑞康生物科技有限公司
申请日： 2020-11-11 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： C08K5/3435 文献下载
摘要：本发明是申请号为202011250638.2，发明名称为“空间位阻可调型弱碱性光稳定剂的结构及其制备方法和应用”的中国发明专利申请的分案申请。本发明专利属于新化合物及其合成方法领域，具体涉及空间位阻可调型弱碱光稳定剂及其制备方法和应用。本发明的创新型光稳定剂通过在结构通式中建立氮原子周边产生空间位阻的取代基大小从而进行调整其空间位阻，此外，通过调整极性基团的远近可以影响氮原子的电负性，从而调整了它的碱性或亲核性能。通过调控氮原子所处环境中的空间位阻和亲核性能或碱性获得所想要的效果，进而拓宽这类创新型光稳定剂的应用范围，使其广泛适用于PC，聚酯，PU，PVC等偏酸性或具有一定亲电性能的高分子材料作为光稳定性保护助剂
间位可调弱碱稳定剂及其制备方法应用

[发明专利]空间位阻可调型弱碱光稳定剂及其制备方法和应用-CN202210735388.4在审
发明人：毛丽娟;刘树柏;赵成世;尹齐伟;丁轶凡;王以菲;罗瑞;陈秀颖;王纪江;李静;徐春娟;宋金鸽;陈俊;虞美雅 -专利权人：绍兴瑞康生物科技有限公司
申请日： 2020-11-11 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： C08K5/3462 文献下载
摘要：本发明是申请号为202011250638.2，发明名称为“空间位阻可调型弱碱光稳定剂的结构及其制备方法和应用”的中国发明专利申请的分案申请。本发明专利属于新化合物及其合成方法领域，具体涉及空间位阻可调型弱碱光稳定剂及其制备方法和应用。本发明的创新型光稳定剂通过在结构通式中建立氮原子周边产生空间位阻的取代基大小从而进行调整其空间位阻，此外，通过调整极性基团的远近可以影响氮原子的电负性，从而调整了它的碱性或亲核性能。通过调控氮原子所处环境中的空间位阻和亲核性能或碱性获得所想要的效果，进而拓宽这类创新型弱碱性光稳定剂的应用范围，使其扩大使用范围适于PC，聚酯，PVC等偏酸性或具有一定亲电性高分子材料使用作为光稳定性保护助剂
间位可调弱碱稳定剂及其制备方法应用

[发明专利]空间位阻可调型弱碱光稳定剂及其制备方法和应用-CN202210735391.6在审
发明人：毛丽娟;刘树柏;赵成世;尹齐伟;丁轶凡;王以菲;罗瑞;陈秀颖;王纪江;李静;徐春娟;宋金鸽;陈俊;虞美雅 -专利权人：绍兴瑞康生物科技有限公司
申请日： 2020-11-11 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： C08K5/3462 文献下载
摘要：本发明是申请号为202011250638.2，发明名称为“空间位阻可调型弱碱光稳定剂的结构及其制备方法和应用”的中国发明专利申请的分案申请。本发明专利属于新化合物及其合成方法领域，具体涉及空间位阻可调型弱碱光稳定剂及其制备方法和应用。本发明的创新型光稳定剂通过在结构通式中建立氮原子周边产生空间位阻的取代基大小从而进行调整其空间位阻，此外，通过调整极性基团的远近可以影响氮原子的电负性，从而调整了它的碱性或亲核性能。通过调控氮原子所处环境中的空间位阻和亲核性能或碱性获得所想要的效果，进而拓宽这类创新型光稳定剂的应用范围，使其适于PC，聚酯，PVC等偏酸性或具有一定亲电性高分子材料使用作为光稳定性保护助剂。
间位可调弱碱稳定剂及其制备方法应用

[发明专利]空间位阻可调型弱碱光稳定剂及其制备方法和应用-CN202210735401.6在审
发明人：毛丽娟;刘树柏;赵成世;尹齐伟;丁轶凡;王以菲;罗瑞;陈秀颖;王纪江;李静;徐春娟;宋金鸽;陈俊;虞美雅 -专利权人：绍兴瑞康生物科技有限公司
申请日： 2020-11-11 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： C08K5/20 文献下载
摘要：本发明是申请号为202011250638.2，发明名称为“空间位阻可调型弱碱光稳定剂的结构及其制备方法和应用”的中国发明专利申请的分案申请。本发明专利属于新化合物及其合成方法领域，具体涉及空间位阻可调型弱碱光稳定剂及其制备方法和应用。本发明的创新型光稳定剂通过在结构通式中建立氮原子周边产生空间位阻的取代基大小从而进行调整其空间位阻，此外，通过调整极性基团的远近可以影响氮原子的电负性，从而调整了它的碱性或亲核性能。通过调控氮原子所处环境中的空间位阻和亲核性能或碱性获得所想要的效果，进而拓宽这类创新型光稳定剂的应用范围，使其广泛适用于PC，聚酯，PU，PVC等偏酸性或具有一定亲电性能的高分子材料作为光稳定性保护助剂
间位可调弱碱稳定剂及其制备方法应用

[发明专利]空间位阻可调型弱碱光稳定剂及其制备方法和应用-CN202210734996.3在审
发明人：毛丽娟;刘树柏;赵成世;尹齐伟;丁轶凡;王以菲;罗瑞;陈秀颖;王纪江;李静;徐春娟;宋金鸽;陈俊;虞美雅 -专利权人：绍兴瑞康生物科技有限公司
申请日： 2020-11-11 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： C08K5/3465 文献下载
摘要：本发明是申请号为202011250638.2，发明名称为“空间位阻可调型弱碱光稳定剂的结构及其制备方法和应用”的中国发明专利申请的分案申请。本发明专利属于新化合物及其合成方法领域，具体涉及空间位阻可调型弱碱光稳定剂及其制备方法和应用。本发明的创新型光稳定剂通过在结构通式中建立氮原子周边产生空间位阻的取代基大小从而进行调整其空间位阻，此外，通过调整极性基团的远近可以影响氮原子的电负性，从而调整了它的碱性或亲核性能。通过调控氮原子所处环境中的空间位阻和亲核性能或碱性获得所想要的效果，进而拓宽这类创新型光稳定剂的应用范围，使其适用于PC，聚酯，PVC，PU等偏酸性或具有一定亲电性高分子材料使用作为光稳定性保护助剂。
间位可调弱碱稳定剂及其制备方法应用