专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种晶圆设备-CN202211061359.0在审
  • 安礼余 - 晨安芯创科技(苏州)有限公司
  • 2022-09-01 - 2022-12-27 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种晶圆设备,其包括:晶圆承载台;载片夹护组件,安装在所述晶圆承载台的上端面,所述载片夹护组件能够对处于状态下的载片或晶圆主体夹护;上驱座架组,架空在所述晶圆承载台的上方,所述上驱座架组能够对另一状态下的载片或晶圆主体夹护固定;以及侧位分割装置,设置在所述上驱座架组的一侧,所述侧位分割装置将细长尼龙线外包在间隙处,并由细长尼龙线在传输下形成分割作用。
  • 一种晶圆解键合设备
  • [发明专利]基于红外成像和可见光成像综合辅助的激光解方法-CN202310626463.8有效
  • 唐宁;易梦瑶;何浩梁 - 广东鸿浩半导体设备有限公司
  • 2023-05-31 - 2023-08-11 - H01L21/683
  • 本发明涉及半导体加工技术领域,尤其涉及一种基于红外成像和可见光成像综合辅助的激光解方法。该方法包括识别胶层的气泡和/或杂质;获取半导体片的翘曲区域的信息;判断气泡和/或杂质是否位于翘曲区域内;激光光束参数的确定;激光光束扫描胶层和获取降温温度分布异常区域;气泡和/或杂质点位信息合并至标识有降温温度分布异常区域的图像,得到异常区域。本发明通过识别层中的气泡和/或杂质以及半导体片的翘曲区域,并以此调整激光光束的参数,提高过程的加工稳定性和可靠性,结合气泡和/或杂质点位信息和解后的降温温度分布异常区域,获得异常区域,实现对质量的评估。
  • 基于红外成像可见光综合辅助激光解键合方法
  • [发明专利]一种基于红外成像辅助的激光解方法-CN202310626514.7有效
  • 唐宁;何浩梁;易梦瑶 - 广东鸿浩半导体设备有限公司
  • 2023-05-31 - 2023-07-28 - H01L21/683
  • 本发明涉及半导体加工技术领域,尤其涉及一种基于红外成像辅助的激光解方法。该方法包括加热临时合体,获取加热过程中透明载片的第一红外图像的集合,识别出气泡和/或杂质点位;确定激光光束参数;激光光束扫描胶层和获取在冷却阶段透明载片的表面随时间变化的第二红外图像的集合,处理生成标识含有降温温度分布异常区域的图像;气泡和/或杂质点位信息合并至标识有降温温度分布异常区域的图像,得到异常区域。本发明通过识别胶层中的气泡和/或杂质点位,并以此调整激光光束的参数,提高过程的加工稳定性,结合气泡和/或杂质点位信息和解后的降温温度分布异常区域,获得异常区域,实现对质量的评估
  • 一种基于红外成像辅助激光解键合方法
  • [发明专利]一种红外热辅助紫外激光解方法及装置-CN202310523681.9有效
  • 唐宁 - 广东鸿浩半导体设备有限公司
  • 2023-05-11 - 2023-08-11 - H01L21/683
  • 本发明公开了一种红外热辅助紫外激光解方法及装置,涉及半导体制造技术领域。红外热辅助紫外激光解方法包括通过在激光解处理的过程中,采用红外加热的方式对层进行预热处理,提高层的温度,降低激光束的功率要求,以利于层被激光烧蚀。同时,采集预热形成的红外热像,根据热像图中的斑点或不连续点识别层中气泡的位置,进而调整激光解的技术参数。进一步,本发明实施例在激光解后,采用红外加热的方式对层进行保温处理,使工件在后能保持在适当温度上一段时间,避免层因冷却造成局部再次粘连的现象发生,实现彻底,确保基板和半导体晶圆的分离效果
  • 一种红外辅助紫外激光解键合方法装置
  • [实用新型]新型衬底装置-CN201620505844.6有效
  • 王云翔 - 苏州美图半导体技术有限公司
  • 2016-05-30 - 2016-12-07 - B32B38/10
  • 本实用新型涉及到微纳米技术领域,尤其涉及新型衬底装置。该新型衬底装置,包括底板、前限位挡块、后限位挡块、导轨、滑动装置、上盘定位盘、气缸、上加热盘和立柱。本实用新型所涉及的新型衬底装置能够将合在一起的两块衬底分离开来,弹簧和多个真空吸孔使得合在一起的上下两块衬底吸附更加稳定,并且不会对衬底本身造成损坏。此外,该新型衬底装置结构设计合理,对衬底的分离安全高效,适合推广使用。
  • 新型衬底解键合装置
  • [实用新型]一种装置-CN201620348189.8有效
  • 刘伟;余斌 - 上海微电子装备有限公司
  • 2016-04-22 - 2016-11-23 - H01L21/67
  • 本实用新型公开了一种装置,包括:底座,所述底座上安装有直线导轨;支撑梁,滑动式设置在所述直线导轨上,且与所述直线导轨垂直;上片盘组件,滑动式架设在所述支撑梁上,用于吸附待片或后的载片;上吸盘组件,设于所述上片盘组件上方,用于从所述上片盘组件上吸附所述片或将所述载片放置在所述上片盘组件上;下吸盘组件,与所述上吸盘组件相对设置,用于吸附所述片的下表面;取片组件,滑动式悬挂在所述支撑梁上,用于从所述下吸盘组件上吸附后的基底。
  • 一种解键合装置
  • [实用新型]一种新型衬底装置-CN201620038288.6有效
  • 王云翔 - 苏州美图半导体技术有限公司
  • 2016-01-15 - 2016-07-13 - B32B38/10
  • 本实用新型涉及到微纳米技术领域,尤其涉及一种新型衬底装置。该新型衬底装置,包括底板、前限位挡块、后限位挡块、导轨、拉手、气缸和立柱,所述前限位挡块和后限位挡块固定在底板上。本实用新型所涉及的一种新型衬底装置能够将合在一起的两块衬底分离开来,并且不会对衬底本身造成损坏。此外,该新型衬底装置结构设计合理,对衬底的分离安全高效,适合推广使用。
  • 一种新型衬底解键合装置
  • [发明专利]低温晶圆直接机台和晶圆方法-CN201910405744.4有效
  • 周华 - 芯盟科技有限公司
  • 2019-05-16 - 2021-03-09 - H01L21/67
  • 一种低温晶圆机台和晶圆方法,其中所述低温晶圆机台包括表面处理单元,用于对待晶圆的表面进行活化处理;预单元,用于将经过活化处理后的一片待晶圆与经过活化处理后的另外至少一片待晶圆或者与未经过活化处理的另外至少一片待晶圆贴合,形成预晶圆对;缺失检测单元,用于检测所述预晶圆对是否存在缺失;单元,用于将所述存在缺失的预晶圆对分离。本发明的低温晶圆机台的的成功率提升。
  • 低温直接机台晶圆键合方法
  • [发明专利]一种激光解装置-CN202111035726.5在审
  • 侯煜;张紫辰;李纪东;张昆鹏;张喆;张彪;易飞跃;杨顺凯;李曼 - 北京中科镭特电子有限公司
  • 2021-09-03 - 2021-12-24 - H01L21/67
  • 本发明提供了一种激光解装置,该激光解装置包括载物台,用于将待件保持在其上,待件包括第一层结构、以及通过层粘接的第二层结构。还包括吸盘和激光系统。吸盘吸附在第二层结构表面。激光系统用于产生依次透过吸盘及第二层结构后聚焦在层的激光束,并控制激光束的焦点在层扫描,以对层进行。还包括与吸盘连接的拉伸机构,该拉伸机构用于在激光束扫描层的部分区域后,向上拉吸盘,以使第一层结构和第二层结构在和该部分区域重合的位置处分离。以采用边激光解,边拉吸盘进行分离的剥离方式,防止两个层结构之间由于熔融状态的材料再次冷却凝固而使两个层结构再次粘连,降低剥离难度。
  • 一种激光解键合装置

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