专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种完全除工件表面类金刚石碳膜的方法-CN201310574291.0有效
  • 张栋;汪爱英;孙丽丽;柯培玲 - 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
  • 2013-11-15 - 2014-02-26 - C25F3/02
  • 本发明提供了一种完全除工件表面类金刚石碳膜的方法。该方法首先将工件以氧等离子体轰击工件表面,然后以工件为阳极,室温下在酸性电解液中进行电解退镀,电解电压以速率为0.5V/次~2V/次缓慢逐次增加,每次电压值上升后保持0~15min,然后观察工件表面类金刚石碳膜是否尽,若未尽,则继续增压,直至电压值上升至10V~20V;若尽,或者当电压值上升至10V~20V时,则将电压值在0~5s内迅速降回0V,然后取出工件、清洗后观察,若仍未尽则重复氧等离子体轰击与电解退镀过程实验证实,该方法能够完全尽工件表面类金刚石碳膜,并且对工件不产生腐蚀以及破坏,具有良好的应用前景。
  • 一种完全工件表面金刚石方法
  • [实用新型]一种用于水晶玻璃降温的精密火装置-CN202022074251.8有效
  • 郑东锋;袁满良 - 弋阳县聚宏工艺品制造有限公司
  • 2020-09-21 - 2021-05-07 - C03B25/00
  • 本实用新型属于水晶玻璃领域,尤其是一种用于水晶玻璃降温的精密火装置,针对现有火设备冷却效率较低,且冷却区域不均匀,影响水晶玻璃的成型品质的问题,现提出如下方案,其包括底座,所述底座的顶部固定安装有固定板,固定板的一侧开设有转动孔,转动孔内转动安装有转动块,转动块的一端固定安装有火座,所述火座的一侧开设有火槽,转动块的另一端固定安装有第一带轮,底座的顶部固定安装有电机,电机的输出轴上固定套接有第二带轮本实用新型结构合理,操作方便,该火设备冷却效率较高,且冷却区域均匀,保证了水晶玻璃的成型品质。
  • 一种用于水晶玻璃降温精密装置
  • [发明专利]照相材料冲洗加工及其加工体系-CN99803229.8无效
  • P·J·特维斯特 - 伊斯曼柯达公司
  • 1999-12-14 - 2001-04-11 - G03C7/30
  • 一种冲洗加工已成像曝光的照相材料的工艺,这些材料经受包括若干相继水洗步骤的显影和漂白定影过程,水洗步骤中用污斑消剂,其中照相材料在首次水洗步骤的水洗液中与有效量的污斑消剂接触,并经受后继的水洗步骤以除去污斑消剂此工艺可使用若干水洗槽,其中已显影的材料按顺序水洗,污斑消剂加在首次水洗槽的水洗液中,并通过一个或多个随后的水洗槽水洗液从照相材料中除去。槽中的水洗液温度在40—70℃范围内,优选45—65℃。本发明包括冲洗加工照相材料,例如胶片或相纸的照相冲洗加工机体系,包括配有漂白—定影槽的显影槽,它们带有串连的首次水洗槽和其它若干水洗槽,其中设有污斑消剂的贮液槽和为首次水洗槽供给污斑消剂的工具。
  • 照相材料冲洗加工及其体系
  • [实用新型]一种焊管刮废料收卷设备-CN202121579986.4有效
  • 张志超 - 天津众意达管业有限公司
  • 2021-07-13 - 2022-01-18 - B23Q11/00
  • 本实用新型公开了一种焊管刮废料收卷设备,包括焊接工作台,焊接工作台上部固定连接有挤压辊架和刮刀架,刮刀架中部固定连接有刮刀,刮刀架上部靠近刮刀一侧固定连接有直立板,直立板中部转动连接有收卷转架,本实用新型使刮刀架上侧的收卷转架在转动时对刮废料进行收卷,并在两侧的内转压架转动挤压收缩,从而减少刮废料对工作人员的工作环境的影响。
  • 一种焊管刮疤废料设备
  • [发明专利]一种有机碱膜液-CN202110087688.1在审
  • 岳强 - 中山市金普利电子科技有限公司
  • 2021-01-22 - 2021-06-08 - C23G1/20
  • 本发明提供一种有机碱膜液,涉及膜液领域。该一种有机碱膜液,包括以下组分:混合碱、醇胺类、促进剂、表面活性剂、渗透剂,所述将上述组分溶解在清水中,各组分的配比为混合碱的含量为1~11mo l/L、醇胺类含量为0.25~5.0mo l/L、促进剂含量为可以通过浸泡和喷淋的方式对PCB膜处理,操作方便,且除曝光能量达300毫焦每平方厘米的50~70μm特厚干膜或湿膜。
  • 一种有机碱褪膜液

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