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[发明专利]一种研磨垫的处理方法-CN201611214088.2有效
发明人：唐强 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2016-12-23 - 公布日： 2020-10-02 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨垫的处理方法，包括以下步骤：将待处理的研磨垫固定于研磨装置的研磨台上；提供晶圆保护液对所述研磨垫表面进行处理，以在所述研磨装置的研磨垫和研磨盘表面形成钝化层。根据本发明的处理方法，采用晶圆保护液处理所述研磨垫，以在研磨垫和研磨盘表面形成钝化层，在研磨盘的不锈钢板材表面形成的钝化层可以避免不锈钢板材被研磨液或去离子水腐蚀，从而降低不锈钢板材表面的金刚石颗粒脱落的风险，同时在研磨垫表面形成的钝化层可防止晶圆在研磨中被腐蚀；通过优化研磨垫处理工艺，在不影响研磨盘初始切削速率和使用寿命的情况下，有效地改善金刚石划痕缺陷，从而有效提高研磨垫使用初期的晶圆良率，并延长工具正常使用时间
一种研磨处理方法

[实用新型]一种表面处理剂生产制备用的搅拌研磨装置-CN202220003538.8有效
发明人：胥彪;王磊;宋田游 -专利权人：四川汉科表面金属材料有限公司
申请日： 2022-01-04 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： B02C19/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种表面处理剂生产制备用的搅拌研磨装置，包括罐体和研磨组件，所述罐体顶部设有盖板，用于对表面处理剂进行再次细化的所述研磨组件，所述研磨组件包括进料管、研磨管道、研磨电机、轴杆、研磨轮、下料口、过滤网和排料口，所述进料管底部设有研磨管道，且研磨管道的内部中上方位置设置有研磨电机，所述研磨电机的底部设有轴杆，且轴杆末端安装有研磨轮，所述研磨轮左侧贯通设有下料口，且下料口右侧底部设有过滤网。该表面处理剂生产制备用的搅拌研磨装置，采用多个组件之间的相互配合设置，不仅能够实现对表面处理剂进行研磨，同时能够对研磨后的表面处理剂进行搅拌，同时还能够对罐体内部进行清洗。
一种表面处理生产制备搅拌研磨装置

[发明专利]镜面不锈钢物件表面的处理方法-CN201010180860.X无效
发明人：李俊霈 -专利权人：李俊霈
申请日： 2010-05-24 - 公布日： 2011-11-30 - 主分类号： B24B7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种镜面不锈钢物件表面的处理方法，其包含以下步骤：将镜面不锈钢物件表面根据伤痕深浅程度划分出不同的研磨处理区块；将每一研磨处理区块根据其伤痕深浅程度而选择适当粗细系数的砂砾砂纸进行表面研磨处理，以消除所有伤痕；依序使用三种切削抛光剂并分别搭配三种研磨材料以进行研磨抛光处理；及使用一研磨膏搭配一第四研磨材料以进行晶化研磨处理。
不锈钢物件表面处理方法

[发明专利]一种麻醉科用药物处理装置-CN202310968992.6在审
发明人：沈健;孙小燕;魏国华;王娟;于颖颖 -专利权人：沈健
申请日： 2023-08-03 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： B02C19/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种麻醉科用药物处理装置，涉及药物处理技术领域，包括研磨罐，研磨罐的上表面设置有存液箱，存液箱的上表面固定连通有加液管，研磨罐的上表面固定连通有下料管，下料管的上表面固定连通有下料斗，研磨罐的表面还固定连通有两个出药管，出药管的表面设置有控制阀；研磨罐的上表面还设置有用于相研磨罐内均匀加入药液的辅助部件；该麻醉科用药物处理装置，在对液体药物和固定药物进行研磨混合处理时，能够间歇性的将液体药物输送至下方的研磨罐内与固体药物相混合，从而能够保证研磨罐内的液体药品和固体药品有充分的时间进行混合研磨，研磨效果好，提高了研磨处理完成后排出的成品麻醉药液的质量。
一种麻醉科用药处理装置

[实用新型]一种表面处理剂预混装置-CN201922240801.6有效
发明人：邱文璋 -专利权人：南安市瑞竣机械科技有限公司
申请日： 2019-12-14 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： B01F13/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及表面处理剂处理技术领域，且公开了一种表面处理剂预混装置，包括罐体，所述罐体顶端的中部固定安装有电机，所述电机的输出轴上固定套装有转轴，所述罐体内腔的顶部设有研磨盘，且罐体内部设有位于研磨盘上方的研磨腔和混合腔，所述转轴位于研磨腔内部的一端上固定套装有研磨辊，所述罐体顶部的一侧开设有进料口。该表面处理剂预混装置，通过启动电机带动转轴上的研磨辊转动，配合研磨盘，可对加入到罐体内的固体表面处理剂进行破碎研磨，从而提高固体表面处理剂与液体表面剂的接触面积，混合效率更高，且本装置通过设置在罐体正面底部的玻璃观察窗，便于人员观察表面处理剂的混合效果。
一种表面处理剂预混装置

[发明专利]磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法-CN201580049946.X有效
发明人：山城祐治;久原巧己 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2015-10-14 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：一种能够降低波长为50～200μm的微小起伏的磁盘用基板的制造方法，该制造方法包括下述研磨处理，即，用一对研磨垫夹持基板，向上述研磨垫与上述基板之间供给包含研磨磨粒的浆料，使上述研磨垫与上述基板相对滑动，由此对上述基板的两主表面进行研磨。上述研磨垫的研磨面由完成了开口处理的发泡树脂材料构成，该开口处理在上述基板的上述研磨处理前实施，其为将发泡树脂材料的至少表面膜削去而形成开口。使用上述开口处理前的上述发泡树脂材料的上述表面膜的表面粗糙度中的算术平均粗糙度Ra为0.65μm以下的发泡树脂材料作为开口处理前的研磨垫的原材料。
磁盘用基板制造方法

[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法-CN201480061961.1有效
发明人：酒井秀雄 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2014-11-17 - 公布日： 2019-03-19 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：磁盘用玻璃基板的制造方法包括如下的研磨处理：利用研磨垫按压玻璃基板的两侧的主表面，对玻璃基板与所述研磨垫之间供给含有硅溶胶作为研磨磨粒的研磨浆料，并且使所述主表面和所述研磨垫相对移动，由此对所述主表面进行研磨在对所述主表面进行研磨之前，将作为所述研磨处理中使用的所述研磨浆料的原料的原始研磨浆料调整为酸性状态，进而，对通过调整为所述酸性状态而生成的所述原始研磨浆料中的二氧化硅的析出物进行过滤处理并去除，由此制作所述研磨浆料
磁盘玻璃制造方法

[发明专利]研磨垫原材料、研磨垫的制造方法、磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法-CN201910343724.9有效
发明人：山城祐治;久原巧己 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2015-10-14 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明涉及研磨垫原材料、研磨垫的制造方法、磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法。一种能够降低波长为50～200μm的微小起伏的磁盘用基板的制造方法，该制造方法包括下述研磨处理，即，用一对研磨垫夹持基板，向上述研磨垫与上述基板之间供给包含研磨磨粒的浆料，使上述研磨垫与上述基板相对滑动，由此对上述基板的两主表面进行研磨。上述研磨垫的研磨面由完成了开口处理的发泡树脂材料构成，该开口处理在上述基板的上述研磨处理前实施，其为将发泡树脂材料的至少表面膜削去而形成开口。使用上述开口处理前的上述发泡树脂材料的上述表面膜的表面粗糙度中的算术平均粗糙度Ra为0.65μm以下的发泡树脂材料作为开口处理前的研磨垫的原材料。
研磨原材料制造方法磁盘用基板

[实用新型]基板处理装置-CN201821060805.5有效
发明人：林钟逸;赵珳技 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-07-05 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及基板处理装置，该基板处理装置用于进行基板的研磨工序，其包括：研磨垫，用于研磨基板的上表面；研磨头，具备与研磨垫上表面接触的隔膜，相对于基板进行移动，从而可以提高研磨稳定性及研磨准确度。
基板处理装置研磨上表面研磨垫基板本实用新型准确度研磨基板研磨头隔膜移动

[发明专利]具有多晶硅层的晶圆的处理方法及其系统-CN202010016903.4在审
发明人：李善雄 -专利权人：夏泰鑫半导体（青岛）有限公司
申请日： 2020-01-08 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种用于处理具有多晶硅层的晶圆的方法。该晶圆装载在处理系统上。该处理系统包括研磨模块和连接研磨模块的清洁模块。研磨模块包括至少第一研磨盘和第二研磨盘。第一研磨盘和第二研磨盘中的每一个均包括用于研磨晶圆的研磨垫。将研磨浆施加到研磨模块的第一研磨盘上以进行多晶硅层的平坦化。在平坦化后，通过非离子表面活性剂溶液处理表面多晶硅层，使其表面性质改变为亲水性。在后CMP清洗工艺中，可以通过氟化氢溶液和SC1溶液轻松去除多晶硅层表面上的有机污染物，而无需额外的硫酸清洗工艺。
具有多晶处理方法及其系统

[实用新型]合模线处理组件-CN201922497713.4有效
发明人：常立峰;周少凡;聂勤 -专利权人：精英塑胶（珠海）有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： B24B9/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了合模线处理组件，包括第一研磨装置，第一研磨装置包括：第一固定件，适于固定工件；第一研磨轮；第一驱动件，连接第一研磨轮，适于驱动第一研磨轮转动；第一移位装置，连接第一驱动件，适于移动第一驱动件并带动第一研磨轮接触工件的表面；喷液机构，适于喷液至工件的表面。根据本实用新型实施例的合模线处理组件，至少具有如下有益效果：通过第一研磨轮对工件上包括对应合模线位置的表面进行水磨处理，处理出来的表面具有磨砂质感，适于统一工件表面粗糙程度，去除合模线，通过第一移位装置驱动第一研磨轮，适配工件上的复杂研磨表面。
合模线处理组件

[发明专利]工件研磨方法和工件研磨装置-CN201810058829.5有效
发明人：澁谷和孝;中村由夫;畝田道雄;石川宪一 -专利权人：不二越机械工业株式会社;学校法人金泽工业大学
申请日： 2018-01-22 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本发明提供工件研磨方法和工件研磨装置，其能够自动制定研磨条件。工件研磨装置具有：修整部，其修整研磨垫的表面；表面性状计测部，其计测研磨垫的表面性状；研磨结果计测部，其计测工件的研磨结果；存储部，其存储通过人工智能来学习如下的相关关系所得到的相关数据，该相关关系为修整条件数据、通过表面性状计测部计测出的研磨垫的表面性状数据、以及对工件进行研磨的情况下的研磨结果数据的相关关系；以及输入部，其输入作为目标的研磨结果，所述人工智能进行如下处理：第1运算处理，根据所述相关数据逆向推断出与作为目标的研磨结果对应的研磨垫的表面性状；和第2运算处理，根据逆向推断出的研磨垫的表面性状导出对应的修整条件。
工件研磨方法装置

[发明专利]机械研磨修整轮的加工方法-CN201210593103.4有效
发明人：姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;袁锦泽 -专利权人：宁波江丰电子材料有限公司
申请日： 2012-12-31 - 公布日： 2014-07-09 - 主分类号： B24D18/00 文献下载
摘要：一种机械研磨修整轮的加工方法，包括：提供圆环柱形坯料，粗车外圆环表面、内圆环表面和两端面，形成第一半成品机械研磨修整轮；对第一半成品机械研磨修整轮进行热处理，以去除内应力；半精加工第一半成品机械研磨修整轮的外圆环表面、内圆环表面和两端面，形成第二半成品机械研磨修整轮；对第二半成品机械研磨修整轮的一端面进行钻孔处理形成背面，对第二半成品机械研磨修整轮的另一端面进行铣槽处理，形成研磨面；钻孔处理和铣槽处理后，将第二半成品机械研磨修整轮固定在全周夹具上，对第二半成品机械研磨修整轮进行精加工处理，使得背面和研磨面之间的距离、背面的平面度、背面与研磨面的平行度符合要求。
机械研磨修整加工方法

[发明专利]磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法-CN201580055296.X有效
发明人： S·卡姆拉尔 -专利权人： HOYA株式会社;HOYA玻璃磁盘（泰国）公司
申请日： 2015-11-12 - 公布日： 2018-10-02 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：磁盘用基板的制造方法包括下述研磨处理，即，用一对绒面革型的研磨垫夹持基板，向上述研磨垫与上述基板之间供给包含研磨磨粒的浆料，使上述研磨垫与上述基板相对滑动，由此对上述基板的两主表面进行研磨。在上述基板的上述研磨处理前，对上述研磨垫实施下述修整处理，即，一边向设置于上述定盘的上述研磨垫的表面供给冷却剂，一边使修整器与上述研磨垫相对滑动，从而将上述研磨垫的表面除去。在上述修整处理中，对上述冷却剂的温度或单位时间的供给量进行控制，以使上述冷却剂从上述研磨垫夺去的热量在上述修整处理的终止时刻大于开始时刻。
磁盘用基板制造方法

[实用新型]一种新型垃圾处理器研磨刀盘-CN201921451494.X有效
发明人：姜武刚 -专利权人：姜武刚
申请日： 2019-09-03 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： B02C18/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型垃圾处理器研磨刀盘，包括研磨盘，所述研磨盘的表面两端均一体式成型有研磨小刀片，所述研磨盘的上表面两侧均一体式成型有研磨刀头，所述研磨盘的下表面中间位置处通过螺栓旋合连接有下研磨刀片，所述研磨盘为环形结构，且所述研磨小刀片的一端与所述研磨盘的端部相吻合；通过研磨刀头对垃圾进行研磨处理，通过在研磨盘表面两端设计研磨小刀片，研磨刀盘在使用时加强对一级研磨腔边缘漏下的垃圾进行再度研磨，此时产生由一级研磨腔漏下的垃圾进入下研磨仓，通过研磨盘组件下研磨刀片与下研磨刀盘的相互作用对漏下的垃圾进行深度研磨，使得垃圾处理得更加细小平均，提高垃圾研磨效果。
一种新型垃圾处理器研磨

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