专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种焦平面阵列微单元腿复合结构-CN201510532320.6有效
  • 王涛;韦良忠;朱汪龙;刘燕 - 无锡艾立德智能科技有限公司
  • 2015-08-26 - 2015-11-18 - B81B7/02
  • 一种焦平面阵列微单元腿复合结构,采用导电聚合物薄膜或掺杂导电聚合物薄膜作为焦平面阵列微单元中与桥面层的氧化钒或掺杂氧化钒热敏薄膜接触的引出电极,实现微单元中热敏薄膜柱的电学连通。腿复合结构由上、下层SiNx薄膜层以及中间的导电聚合物薄膜层或掺杂导电聚合物薄膜层三层膜系构成。本发明采用热导率低的导电聚合物薄膜或掺杂导电聚合物薄膜作为电极材料,有利于降低微单元腿的热导率,降低引出电极的制造成本,而且可保证微结构制备与MEMS工艺良好的工艺兼容性。且本发明的腿复合结构中增设一腿吸收结构,有助于降低桥面的热量流失速率,提高焦平面阵列器件的灵敏度。
  • 一种平面阵列单元复合结构
  • [实用新型]一种焦平面阵列微单元腿复合结构-CN201520651853.1有效
  • 王涛;韦良忠;朱汪龙;刘燕 - 无锡艾立德智能科技有限公司
  • 2015-08-26 - 2015-12-16 - B81B7/02
  • 一种焦平面阵列微单元腿复合结构,采用导电聚合物薄膜或掺杂导电聚合物薄膜作为焦平面阵列微单元中与桥面层的氧化钒或掺杂氧化钒热敏薄膜接触的引出电极,实现微单元中热敏薄膜柱的电学连通。腿复合结构由上、下层SiNx薄膜层以及中间的导电聚合物薄膜层或掺杂导电聚合物薄膜层三层膜系构成。本实用新型采用热导率低的导电聚合物薄膜或掺杂导电聚合物薄膜作为电极材料,有利于降低微单元腿的热导率,降低引出电极的制造成本,而且可保证微结构制备与MEMS工艺良好的工艺兼容性。且本实用新型的腿复合结构中增设一腿吸收结构,有助于降低桥面的热量流失速率,提高焦平面阵列器件的灵敏度。
  • 一种平面阵列单元复合结构
  • [发明专利]一种薄膜结构及其制作方法-CN200410061385.9无效
  • 黄光;王宏臣;陈四海;何少伟;付小朝;易新建;马宏 - 华中科技大学
  • 2004-12-17 - 2005-06-08 - B81B7/00
  • 本发明公开了一种薄膜结构及其制作方法。其腿与桥面采用氧化硅和氮化硅复合薄膜制成,均位于同一平面内,腿的一端与桥面相连,另一端架在金属桥墩上,桥面由腿和桥墩支撑悬浮在衬底上,桥面与衬底之间构成空腔。其步骤包括:在衬底表面旋涂光敏聚酰亚胺薄膜,再进行光刻处理,形成孤岛和桥墩孔,再进行亚胺化处理;用金属填充桥墩孔;再在孤岛和金属桥墩上依次沉积氧化硅和氮化硅薄膜,形成复合薄膜层;在复合薄膜层上光刻出微结构图形,刻蚀至聚酰亚胺薄膜层,形成桥面和腿图形,并去除桥面和腿图形底部的聚酰亚胺薄膜,形成微结构。本发明解决了由于腿弯曲而导致的应力集中问题,并获得了具有较低应力的复合薄膜
  • 一种薄膜结构及其制作方法
  • [发明专利]基于多孔硅复合含能薄膜-含能半导体双元结构的自毁芯片-CN202210452159.1在审
  • 胡艳;李启铭;宿佳鑫;沈瑞琪;叶迎华 - 南京理工大学
  • 2022-04-27 - 2022-11-11 - G06F21/79
  • 本发明公开了一种利用多孔硅复合含能薄膜‑含能半导体双元结构的自毁芯片的结构装置,包括含能半导体、多孔硅复合含能薄膜毁伤区、功能芯片。其中含能半导体部分包括硅基底、SiO2绝缘层、重掺杂多晶硅半导体、金薄膜、复合含能薄膜。金薄膜作为引线连接恒压源和多晶硅点火,当通以适当电压时,重掺杂多晶硅半导体发生电爆激发上层复合含能膜;多孔硅复合含能薄膜毁伤区包括单晶硅片基底、金属箔、多孔硅复合含能薄膜。下层的含能半导体同上层的多孔硅复合含能薄膜同时发生作用,多孔硅复合含能薄膜使整个结构的能量进一步增大,达到可靠毁伤最上层功能芯片的目的。该装置结构简单,制备工艺方便,能够达到自毁功能芯片的作用。
  • 基于多孔复合薄膜半导体桥双元结构自毁芯片
  • [发明专利]高温超导薄膜纳米结制备方法-CN201710531385.8在审
  • 芦佳;颜雷;丁洪 - 中国科学院物理研究所
  • 2017-07-03 - 2017-10-20 - H01L39/24
  • 本发明涉及高温超导薄膜纳米结制备方法。根据一实施例,一种制备高温超导薄膜纳米结的方法可包括提供掩模板,所述掩模板具有用于定义将要形成的高温超导薄膜纳米结的形状的开口图案;用所述掩模板覆盖衬底;在所述掩模板上沉积高温超导材料的薄膜;移除所述掩模板,从而得到形成在所述衬底上的、具有所述掩模板的开口图案定义的形状的高温超导薄膜纳米结;以及对所述高温超导薄膜纳米结进行微加工处理以获得所需的桥宽度。
  • 高温超导薄膜纳米制备方法
  • [发明专利]一种高能量转换率复合含能薄膜-CN201710506529.4有效
  • 蒋洪川;张宇新;赵晓辉;闫裔超;邓新武;张万里 - 电子科技大学
  • 2017-06-28 - 2018-08-21 - C06C5/06
  • 本发明属于火工品领域,具体涉及一种高能量转换率复合含能薄膜。该高能量转换率复合含能薄膜(爆炸箔),从下至上依次包括基片、金属膜和含能薄膜层,还包括聚四氟乙烯PTFE薄膜层和二个电极焊盘。金属膜设置在基片之上,其上方直接接触的为一聚四氟乙烯薄膜层;含能薄膜层最少一层,且与金属膜不直接接触;聚四氟乙烯薄膜层最少一层,位于金属膜桥上方,不同聚四氟乙烯薄膜层之间不直接接触,结构上通过含能薄膜层隔开;二个电极焊盘分别与聚四氟乙烯薄膜层和含能薄膜层两端实现电接触,置于金属膜之上。
  • 一种高能量转换率复合薄膜
  • [发明专利]金属薄膜的制造方法及其力学特性测试方法-CN200410018009.1无效
  • 周勇;杨春生;陈吉安;丁桂甫;王明军 - 上海交通大学
  • 2004-04-29 - 2005-01-26 - B81B1/00
  • 一种金属薄膜的制造方法及其力学特性测试方法,用于薄膜技术领域。制造方法如下:首先采用光刻和刻蚀形成光刻对准符号和硅刻蚀窗口,套刻符号作为曝光时双面对准符号,保证套刻精度,然后采用溅射方法制备底层,通过光刻在硅片上形成电镀金属薄膜光刻胶图形,其次采用电镀技术电镀金属薄膜,采用物理刻蚀去除底层,最后采用夹具保护、用硅的湿法刻蚀技术去除金属薄膜微桥下面的硅衬底材料。测试方法:在微中心放置一刚性压条,保证在微中心位置施加一线性载荷,用纳米压痕仪进行微加载/卸载曲线测量,其压头为Berkovich三棱锥压头,采用微理论模型分析实验测得的加载和卸载曲线,得到薄膜的杨氏模量和残余应力
  • 金属薄膜制造方法及其力学特性测试
  • [发明专利]一种复合含能薄膜半导体-CN202010912877.3在审
  • 张威;邓有杞;张良 - 北京大学
  • 2020-09-03 - 2021-01-22 - F42B3/13
  • 本发明涉及一种复合含能薄膜半导体,包括基底、位于基底上表面的绝热层、位于绝热层上表面的半导体区、位于区两端的电极、位于区上表面的绝缘层和位于绝缘层上表面的复合含能薄膜层,复合含能薄膜层通过磁控溅射沉积于绝缘层表面本发明提供的复合含能薄膜半导体,相比于传统的半导体,将磁控溅射淀积形成的复合含能薄膜层,取代了传统半导体的第一级人工涂敷引爆药,更可控、且安全,在能量方面,本发明选择的B/Ti材料在质量能量密度方面高于一般的复合含能薄膜,更利于能量的转换,点火能力强,同时可实现隔离点火,药剂与含能之间有一定的间隙空腔,在这个空腔点火通道中实现基于MEMS的微安保系统,实现智能化。
  • 一种复合薄膜半导体

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