专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种LC-VCO的仿真方法及系统-CN201510214130.X有效
  • 王海永;霍允杰;陈岚 - 中国科学院微电子研究所
  • 2015-04-29 - 2019-05-21 - G06F17/50
  • 本发明提供一种LC‑VCO的仿真方法,包括:分别获得LC‑VCO仿真器模型的NMOS器件和PMOS器件的跨导效率gm/Id器件参数的关系曲线;设定初始跨导效率(gm/Id)0;根据关系曲线,获得NMOS器件在(gm/Id)0+△n下的N器件电性参数值,获得PMOS器件在(gm/Id)0‑△n下的P器件电性参数值;分别获得N器件电性参数值和P器件电性参数值下的器件参数值;以所述器件参数值进行电路等效模型的仿真,获得仿真结果;判断是否进行迭代。该方法使得低频偏处的相位噪声获得最优值,从而改善低频偏出的相位噪声。
  • 一种lcvco仿真方法系统
  • [发明专利]一种通过改变沟道掺杂浓度来抑制器件NBTI退化的方法-CN201510223301.5有效
  • 曹建民;孙瑞泽 - 深圳大学
  • 2015-05-05 - 2017-12-01 - H01L21/8238
  • 本发明公开了一种通过改变沟道掺杂浓度来抑制pMOS器件NBTI退化的方法,包括(1)根据功函数差Vms获得器件的平带电压VFB;并通过选择不同功函数的金属栅材料,获得不同平带电压随着掺杂浓度Nd的变化关系;(2)根据平带电压VFB获得不同平带电压下器件阈值电压Vth随沟道掺杂浓度Nd的变化关系;(3)当器件阈值电压为工作电压的1/4‑1/5时,获得不同平带电压时器件的掺杂浓度Nd;(4)获得不同平带电压、不同掺杂浓度且相同阈值电压时器件NBTI退化程度;(5)判断器件NBTI退化程度是否满足实际需求,若是,则抑制了器件NBTI的退化;若否,则选择不同功函数的金属栅材料并返回至步骤(1)。本发明通过改变沟道掺杂浓度对器件NBTI退化进行了抑制,抑制效果显著。
  • 一种通过改变沟道掺杂浓度抑制器件nbti退化方法
  • [发明专利]获取阻变器件导电通道分布的方法-CN202310263816.2在审
  • 吴华强;孙雯;高滨;唐建石 - 清华大学
  • 2023-03-17 - 2023-07-07 - G01R31/00
  • 本申请公开了获取阻变器件导电通道分布的方法,该方法包括提供阻变器件,该器件具有多个阵列排布的阻变器件单元;调控阻变器件的外界电压,剥离第一阵列电极层和/或第二阵列电极层暴露阻变层,获得不同阻态的待测阻变器件单元;扫描不同阻态的待测阻变器件单元的阻变层的表面信息,以获得不同阻态的待测阻变器件单元的电流分布;对阻变层进行平面取样,获得待测平面;令待测平面沿轴向旋转,扫描待测平面多个不同角度的结构信,对结构信息二维数据集进行三维重构,获得不同阻态的待测阻变器件单元的微观结构三维分布。由此,可以获得阵列级别阻变器件导电通道的电流分布与导电通道的微观结构的三维分布之间的对应关系。
  • 获取器件导电通道分布方法
  • [发明专利]焊接层质量对半导体器件性能影响的研究方法、焊接方法-CN201410529818.2在审
  • 董少华;朱阳军;苏江 - 江苏中科君芯科技有限公司
  • 2014-10-09 - 2016-05-11 - H01L21/603
  • 本发明公开了一种焊接层质量对半导体器件性能影响的研究方法,包括:建立半导体器件模型,包括:基板、芯片以及位于基板与芯片之间的焊接层;固定焊接层的空洞位置,改变空洞率,获得焊接层中的空洞率对半导体器件温度的影响;固定焊接层中的空洞率,改变空洞的位置,获得焊接层中的空洞位置对半导体器件温度和应力分布的影响;固定焊接层的空洞率和空洞位置,改变焊接层的厚度,获得焊接层的厚度对所述半导体器件温度和应力分布的影响;获得焊接层质量对半导体器件的性能影响的研究结果定量地分析了焊接层中空洞率、空洞分布及焊接层厚度对半导体器件的温度和应力分布影响,获得焊接层质量对半导体器件的性能影响的研究结果。
  • 焊接质量半导体器件性能影响研究方法
  • [发明专利]UPS设备器件寿命预测方法、设备及计算机可读存储介质-CN202111616551.7在审
  • 谢力华;陈厚岩 - 深圳市伊力科电源有限公司
  • 2021-12-27 - 2022-03-08 - G06Q10/04
  • 本发明提供了一种UPS设备器件寿命预测方法、设备及计算机可读存储介质,所述器件在所述UPS设备运行过程中通电,所述方法包括:在所述UPS设备运行过程中,以第一周期采样获得所述器件的电应力参数和温度参数;分别以n个连续的采样时刻的电应力参数和温度参数,依次计算所述器件在对应时间段的平均维护时间,n为大于或等于3的整数;根据所有时间段的平均维护时间以及所述器件在额定负载下的平均维护时间,计算获得所述器件的运行状态指数并输出,所述运行状态指数对应于所述器件的寿命。本发明根据器件在各个时间段的平均维护时间,获得器件的运行状态指数并输出,从而可准确获得器件的健康状态,便于UPS设备的维护。
  • ups设备器件寿命预测方法计算机可读存储介质
  • [发明专利]水平传送检验处理器-CN97120183.8无效
  • 邦昭坂内 - 株式会社鼎新
  • 1997-11-18 - 2004-07-28 - G01R31/01
  • 水平传送检验处理器,在水平方向将被检验的IC器件传到和传离检验头。它包括器件托盘、IC插座、器件传送机构、视频数据获得装置和参考位置标志器,器件托盘用于在支座中携带多个待检验IC器件,IC通过在被检验IC器件和IC检验器间建立电气连接在两者间进行连接,器件传送机构水平和垂直移动而拾取、传送并放置IC器件,视频数据获得装置用于获得检验器表面的图象数据,参考位置标志器用于在图象数据中提供参考位置数据。
  • 水平传送检验处理器
  • [发明专利]一种元器件的信息处理方法、装置及终端设备-CN202210015955.9在审
  • 吴浩伟;张兴瑜;李六七;邝迎波;罗鑫 - 深圳前海硬之城信息技术有限公司
  • 2022-01-07 - 2022-05-10 - G06Q30/02
  • 本发明适用于计算机技术领域,提供了一种元器件的信息处理方法、装置及终端设备,方法包括在对标平台中获取目标元器件的最低价销售阶梯数量集合,以及各个阶梯销售价,结合目标元器件的最小包装量获得基于目标元器件的第一阶梯数量集合;根据第一阶梯数量集合和目标元器件的采购价,计算获得阶梯采购价集合;根据目标元器件的类型获取目标元器件的阶梯类型,构建第一映射关系和第二映射关系,从而获取需要对标的阶梯,并根据各个阶梯销售价计算需要对标的阶梯的销售利率,在其大于预设数值时,计算对标的阶梯的销售价,获得并输出目标元器件的阶梯价值信息。通过本发明,用户可以根据阶梯价值信息,快速获得目标元器件的价值。
  • 一种元器件信息处理方法装置终端设备

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